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Mr. Wang

eric_wang@zmsh-materials.com

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[silicon substrate ]

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Al2O3 Sapphire wafer monocristallino Diametro 2 pollici 3 pollici Personalizzazione

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Wafer Epitassiale SiC da 8 pollici, diametro 200mm, spessore 500μm, tipo 4H-N

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Wafer Epitassiale SiC di Tipo 4H-N da 2 pollici (50,8 mm) di diametro per sensori ad alta temperatura

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chip su misura dei wafer di dimensione 4h-n 6h-semi di dimensione 5x5 10x10mm sic

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Wafer HPSI SiC da 2-12 pollici, grado ottico per occhiali AI/AR

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Wafer 4 pollici 6 pollici 8 pollici 4H-SiCOI Substrati compositi SiC su isolante

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Apparecchiature laser a micro getto per l'arrotondamento di wafer a carburo di silicio e il taglio di wafer a base di silicio

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SiC Square Mirror Mirror-Grade Polishing for Lithography Machine

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SiC Ceramic Vacuum Chuck Flip-Chip Bonding Mirror Polishing High-Stiffness

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Disadattamento basso su misura della grata del chip del quadrato di dimensione sic con l'alto termale

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Componenti personalizzati in ceramica di alluminio Alta durezza per apparecchiature di produzione di semiconduttori

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Wafer SIC in carburo di silicio 10*10 mm 6H-P Spessore 350μm Per dispositivi ad alta potenza

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