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Wafer Sic a carburo di silicio da 4 pollici Tipo 4H-P Diametro 100 mm Spessore 350 μm Grado primario Grado di ricerca

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Wafer di semi di SiC spessore 8 pollici 600±50um 4H di tipo di produzione di grado per la crescita di cristalli di carburo di silicio

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​​Customized SiC Ceramic Suction Cups for Lithography Applications​​

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Wafer epitassiale SiC ad altissima tensione da 6 pollici 100–500 µm per dispositivi MOSFET

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Diametro 103mm C - dimensione su misura lucidata lato ottico di Windows dello zaffiro di asse singolo

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InP FP epiwafer InP substrato n/p tipo 2 3 4 pollici con spessore di 350-650um per reti ottiche

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Forno di cristallizzazione di zaffiro e kyropoulos processo di crescita della schiuma cristallo di zaffiro 200 kg 400 kg

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Wafer del nitruro di gallio del wafer di GaN di efficienza di alto potere per illuminazione di ottimo rendimento

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