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Attrezzatura a semiconduttore

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La Cina 355nm/532nm/1064nm Switchable Chromatic Laser Processing Equipment distributore
355nm/532nm/1064nm Switchable Chromatic Laser Processing Equipment

Attrezzatura a semiconduttore

(62)
La Cina Attrezzatura per seghe di taglio a precisione completamente automatica per il taglio di wafer da 8 pollici a 12 pollici fabbrica

Attrezzatura per seghe di taglio a precisione completamente automatica per il taglio di wafer da 8 pollici a 12 pollici
Contatto

Riepilogo Attrezzatura per seghe di taglio a precisione completamente automatica per il taglio di wafer da 8 pollici a 12 pollici La sega di taglio a seghe di precisione completamente automatica è un avanzato ... Leggi di più
2025-05-06 18:21:35
La Cina Apparecchiature di taglio laser a doppia piattaforma a picosecondi a infrarossi per la lavorazione del zaffiro / quarzo / vetro ottico fabbrica

Apparecchiature di taglio laser a doppia piattaforma a picosecondi a infrarossi per la lavorazione del zaffiro / quarzo / vetro ottico
Contatto

Riepilogo Sistema di taglio laser a doppia piattaforma a picosecondi a infrarossi per la lavorazione del zaffiro/quarzo/vetro ottico Il sistema di taglio laser del vetro a doppia piattaforma a picosecondi a ... Leggi di più
2025-05-06 18:21:35
La Cina Apparecchiature di perforazione laser a nanosecondi a infrarossi di grande formato per substrati di vetro fabbrica

Apparecchiature di perforazione laser a nanosecondi a infrarossi di grande formato per substrati di vetro
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Abstract Infrared Nanosecond Laser Drilling equipment Large-Format for Glass Substrates The infrared nanosecond laser glass drilling system is an advanced manufacturing platform that utilizes 1064 nm infrared ... Leggi di più
2025-05-06 18:21:35
La Cina Equipaggiamento di marcatura laser olografico contro la contraffazione con potenza di uscita di 2500 W fabbrica

Equipaggiamento di marcatura laser olografico contro la contraffazione con potenza di uscita di 2500 W
Contatto

Equipaggiamento di marcatura laser olografico contro la contraffazione con potenza di uscita di 2500 W Riassunto dell'apparecchiatura laser olografica anti-falsificazione La litografia a colori strutturali ... Leggi di più
2025-05-06 18:21:35
La Cina Macchina di perforazione laser ad alta precisione con lunghezza d'onda di lavorazione di micro fori ad alta efficienza 1064nm fabbrica

Macchina di perforazione laser ad alta precisione con lunghezza d'onda di lavorazione di micro fori ad alta efficienza 1064nm
Contatto

Descrizione del prodotto Macchine per la perforazione laser ad alta precisione con lunghezza d'onda di 1064 nm per l'elaborazione di micro-buchi ad alta efficienza · Fonte laser:Il componente centrale, di ... Leggi di più
2025-04-29 10:21:39
La Cina Apparecchiature di legame anodico a termocompressione Legamento a pressione termica Materiale Si Cu Al-Ge 600°C 2-8 pollici fabbrica

Apparecchiature di legame anodico a termocompressione Legamento a pressione termica Materiale Si Cu Al-Ge 600°C 2-8 pollici
Contatto

Apparecchiature di legame anodico a termocompressione Legamento a pressione termica Materiale Si Cu Al-Ge 600°C 2-8 pollici Abstract of Thermo-compression Anodic Bonding Equipment L'apparecchiatura di legame ... Leggi di più
2025-04-23 15:21:41
La Cina Attrezzatura per il legame delle wafer Temperatura della stanza Bondin Legame idrofilico Si-SiC Si-Si 2 -12 pollici fabbrica

Attrezzatura per il legame delle wafer Temperatura della stanza Bondin Legame idrofilico Si-SiC Si-Si 2 -12 pollici
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Attrezzatura per il legame dei wafer Temperatura della stanza Bondin Legamento idrofilico Si-SiC Si-Si Legamento 2 -12 pollici Visualizzazione del sistema di legame dei wafer L'attrezzatura per il legame dei ... Leggi di più
2025-04-18 11:43:18
La Cina Forno di ricottura veloce a semiconduttore a doppia cavità automatico compatibile con apparecchiature per il trattamento termico di wafer da 6 pollici a 8 pollici a 12 pollici 200-1300 °C fabbrica

Forno di ricottura veloce a semiconduttore a doppia cavità automatico compatibile con apparecchiature per il trattamento termico di wafer da 6 pollici a 8 pollici a 12 pollici 200-1300 °C
Contatto

Descrizione del prodotto Forno di ricottura veloce a semiconduttore a doppia cavità automatico compatibile con apparecchiature di trattamento termico di wafer da 6 pollici a 8 pollici a 12 pollici a 200-1300 °C ... Leggi di più
2025-04-14 17:42:08
La Cina Sensore di temperatura in fibra ottica ad arsenide di gallio Sonda di piccole dimensioni di 0,5 mm Precisione di misurazione della temperatura ±0,1°C fabbrica

Sensore di temperatura in fibra ottica ad arsenide di gallio Sonda di piccole dimensioni di 0,5 mm Precisione di misurazione della temperatura ±0,1°C
Contatto

Riepilogo Sensore di temperatura in fibra ottica ad arsenide di gallio Sonda di piccole dimensioni di 0,5 mm Precisione di misurazione della temperatura ±0,1°C Il sensore di temperatura in fibra ottica a ... Leggi di più
2025-04-14 17:40:13
La Cina Attrezzature per la tecnologia laser microjet a wafer metallo a fetta di carburo di silicio fabbrica

Attrezzature per la tecnologia laser microjet a wafer metallo a fetta di carburo di silicio
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Riassunto di mattrezzature per la tecnologia laser icrojet Attrezzature per la tecnologia laser microjet a wafer metallo a fetta di carburo di silicio I sistemi Microjet Laser consentono l'elaborazione di ... Leggi di più
2025-04-14 17:40:13
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Sic substrato

L'elevata purezza non-ha verniciato il wafer del carburo di silicio sic, substrato del carburo di silicio di 6Inch 4H-Semi sic

6H a 2 pollici - basso consumo energetico del wafer del carburo di silicio dei semi per il rivelatore

sic carburi di silicio del lingotto 4inch spessore di 15mm - di 5 per i semiconduttori

4H-SEMI ha lucidato sic la durezza della lente 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 del wafer per il materiale del dispositivo

Wafer dello zaffiro

Orientamento su ordinazione dello speciale di Windows di vetro/zaffiro dello zaffiro del wafer a semiconduttore

Wafer di zaffiro Spessore 0,43 mm Componenti di zaffiro Dimensioni e orientamenti personalizzati

Di cristallo quadrato del wafer dello zaffiro/zaffiro 10x10mm 5x5mm per la lente ottica

2°Off C - zaffiro sintetico Epi di vetro di asse - diametro a 2 pollici 50.8mm dei substrati pronti

Wafer del nitruro di gallio

Spessore di GaN Wafer 350um del nitruro di gallio dell'esposizione della proiezione del laser

2inch 4inch GaN Gallium Nitride Substrates Template indipendente per principale

Modello di 2INCH 4INCH NPSS/FSS AlN sul wafer dello AlN-Su-zaffiro del EPI-wafer dello zaffiro

wafer del modello di GaN AlN del nitruro di gallio di 2inch 4Inch su zaffiro, substrati di si

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