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Substrato di SiC 4H-N spessore 350um utilizzato in optoelettronica materiale semiconduttore

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Shanghai Cina

Marca: ZMSH

Certificazione: ROHS

Numero di modello: Substrato SiC

Termini di pagamento e spedizione

Tempi di consegna: in 30 giorni

Termini di pagamento: T/T

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Evidenziare:

4H-N SiC substrato

,

Substrato di SiC 350um

,

Optoelettronica

Parametro:
N-TYPE
Polytype:
4H
Metodo di crescita:
CVD
Spessore:
350 μm
gradi:
Prime, Dummy, Ricerca.
Coefficiente di espansione termica:
4.5 (10-6K-1)
Parametro:
N-TYPE
Polytype:
4H
Metodo di crescita:
CVD
Spessore:
350 μm
gradi:
Prime, Dummy, Ricerca.
Coefficiente di espansione termica:
4.5 (10-6K-1)
Substrato di SiC 4H-N spessore 350um utilizzato in optoelettronica materiale semiconduttore

Substrato di SiC 4H-N spessore 350um utilizzato in optoelettronica materiale semiconduttore

Descrizione del prodotto

I substrati di SiC sono materiali chiave nel campo della tecnologia dei semiconduttori, offrendo proprietà uniche e applicazioni promettenti.Il carburo di silicio (SiC) è un materiale semiconduttore a banda larga noto per la sua eccellente resistenza elettrica., proprietà termiche e meccaniche.

I substrati 4H-N SiC sono tipicamente semiconduttori di tipo n, in cui i dopanti di azoto (N) introducono elettroni in eccesso nel reticolo cristallino,con un'intensità di potenza superiore a 50 W,Questi substrati trovano applicazioni in elettronica di potenza, dispositivi ad alta frequenza e optoelettronica a causa della loro elevata mobilità elettronica e bassa resistenza.

D'altra parte, i substrati di SiC possono anche mostrare un comportamento semi-isolatore, rendendoli ideali per applicazioni ad alta potenza e ad alta temperatura.Le proprietà semisolatrici derivano da difetti intrinseci o da doping intenzionale con impurità a livello profondo.Questi substrati sono ampiamente utilizzati nei dispositivi ad alta potenza a radiofrequenza (RF), nell'elettronica a microonde e nei sensori per ambienti difficili.

La fabbricazione di substrati SiC di alta qualità prevede tecniche di crescita avanzate come il trasporto fisico di vapore (PVT), la deposizione chimica di vapore (CVD) o l'epitaxia da sublimazione.Queste tecniche consentono un controllo preciso della struttura cristallina del materialeLe proprietà uniche del SiC, combinate con i precisi processi di fabbricazione, consentono di ottenere un prodotto di qualità superiore.rendere i substrati di SiC altamente preziosi per una serie di applicazioni di semiconduttori.

Parametro del prodotto

Grado Grado zero di MPD Grado di produzione Grado di ricerca Grado per finti
Diametro 1500,0 mm +/- 0,2 mm
Spessore 500 um +/- 25 um per 4H-SI350 um +/- 25 um per 4H-N
Orientazione dei wafer Su asse: <0001> +/- 0,5 gradi per 4H-SIOff asse: 4,0 gradi verso <11-20> +/- 0,5 gradi per 4H-N
Densità di micropipe (MPD) 1 cm-2 5 cm-2 15 cm-2 30 cm-2
Concentrazione di doping Tipo N: ~ 1E18/cm3Tipo SI (dopato in V): ~ 5E18/cm3
Flat primario (tipo N) {10-10} +/- 5,0 gradi
Lunghezza piana primaria (tipo N) 47.5 mm +/- 2,0 mm
Intaglio (tipo semisolatore) Intaglio
Esclusione dei bordi 3 mm
TTV /Bow /Warp 15um /40um /60um
Roughness superficiale Ra polacco 1 nm
CMP Ra 0,5 nm sulla superficie di Si

Natura del prodotto

I substrati 4H-N SiC presentano conduttività di tipo n a causa della presenza di dopanti di azoto, che forniscono elettroni in eccesso per la conduzione elettronica.
I substrati SiC presentano un comportamento semi-isolatore, caratterizzato da elevata resistività e minima conduzione elettronica, essenziale per alcune applicazioni elettroniche e optoelettroniche.

  • Bandgap: I substrati di SiC hanno un ampio intervallo di banda, in genere intorno a 3,0 eV, che consente il loro utilizzo in dispositivi ad alta potenza e ad alta frequenza e applicazioni optoelettroniche.
  • Conduttività termica: i substrati in SiC hanno un'elevata conduttività termica, che consente un'efficiente dissipazione del calore generato durante il funzionamento del dispositivo.Questa proprietà è cruciale per mantenere l'affidabilità e le prestazioni del dispositivo, in particolare nelle applicazioni ad alta potenza e ad alta temperatura.
  • Proprietà meccaniche: i substrati di SiC presentano eccellenti proprietà meccaniche, tra cui alta durezza, rigidità e inertà chimica.Queste proprietà le rendono resistenti all'usura meccanica e alla corrosione, garantendo l'affidabilità a lungo termine del dispositivo in condizioni di funzionamento difficili.
  • Struttura cristallina: I substrati di SiC hanno una struttura cristallina esagonale (4H politipo), che influenza le loro proprietà elettroniche e le prestazioni del dispositivo.La struttura cristallina 4H fornisce un allineamento specifico della banda elettronica e una mobilità del vettore adatta a vari dispositivi semiconduttori.
  • Morfologia superficiale: i substrati di SiC hanno in genere una morfologia superficiale liscia con bassa densità di difetti,facilitare la crescita di strati epitaxiali di alta qualità e la fabbricazione di dispositivi ad alte prestazioni.
  • Stabilità chimica: i substrati di SiC presentano un'elevata stabilità chimica, che li rende resistenti alla degradazione quando esposti a ambienti corrosivi o sostanze chimiche reattive.Questa proprietà è vantaggiosa per applicazioni che richiedono affidabilità e stabilità a lungo termine del dispositivo.

Visualizzazione del prodotto

Substrato di SiC 4H-N spessore 350um utilizzato in optoelettronica materiale semiconduttore 0

Domande e risposte
Qual e' la differenza tra 4H-SiC e 6H-SiC?

Tutti gli altri politipi di SiC sono una miscela del legame zinco-blenda e wurtzita.6H-SiC è composto da due terzi di legami cubici e un terzo di legami esagonali con una sequenza di impilazione di ABCACB.