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Dettagli dei prodotti

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Sic substrato
Created with Pixso. Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS

Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS

Marchio: ZMSH
MOQ: Per caso
prezzo: Fluctuate with current market
Tempo di consegna: 10-30 giorni
Condizioni di pagamento: T/T
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shanghai
Politipo:
4H
Conduttività:
Tipo N
Finitura superficiale:
SSP/DSP, CMP/MP
Orientamento:
4° verso <11-20>±0,5°
Applicazioni:
MOSEFT/SBD/JBS
Imballaggi particolari:
In cassette o contenitori per wafer singoli
Capacità di alimentazione:
1000 pezzi/mese
Evidenziare:

Wafer in carburo di silicio di tipo 4H-N

,

Substrato SiC da 4 pollici per MOSFET

,

Wafer in carburo di silicio 350um di grado P/R/D

Descrizione di prodotto

Wafer al carburo di silicio di 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFT/SBD/JBS

 

 

Descrizione del prodotto:

4 pollici x 350um±25um wafer di Carburo di Silicio con angolo di taglio di 4 gradi ± 0,5° verso <1120> piano, dopato per la conduttività di tipo N. Essendo un semiconduttore di terza generazione,svolge un ruolo fondamentale nell'industria automobilistica come inverter di trazione principale e motore ad alta velocitàIl suo alto intervallo di banda gli conferisce un'eccellente tolleranza ad alta tensione, alta frequenza e alte temperature.I nostri Wafer di tipo SiC 4H forniscono un aumento critico di 3 volte nell'energia di banda e 10 volte maggiore intensità del campo elettrico di rottura, che li rende il substrato essenziale per la prossima generazione di elettronica di potenza.

Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS 0            Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS 1

 

Caratteristiche:

Eccellenza dei politipi: esclusivamente4H-SiCstruttura per garantire la massima mobilità elettronica e conducibilità termica.

 

SIntegrità superficiale: completato con un'attrezzatura all'avanguardiachimicaIl processo di lucidatura meccanica garantisce una faccia di Si "Epi-Ready" (0001) atomicamente piatta con una rugosità inferiore ai nanometri (Ra < 0,2 nm), eliminando i danni subterranei.

 

Grado di produzione: ottimizzato per inverter di trazione EV e inverter a stringa solare.0.2cm ̄2 per garantire un elevato rendimento dei dispositivi per i MOSFET a grande area.

 

Grado di ricerca: soluzioni convenienti per la ricerca e lo sviluppo e le prove di processo, che mantengono l'integrità strutturale del 4H con tolleranze di difetto leggermente più elevate.

 

Applicazioni:

 

Automotive e mobilità elettrica,in trazioneInvertitori, SiC MOSFET sostituiscono IGBT di silicio per convertire la batteria DC in motore AC con un'efficienza superiore al 99%.

 

Energia rinnovabile e reti intelligenti, il "gatekeeper" dell'efficienza che può operare a frequenze più elevate,che riduce le dimensioni di costosi componenti passivi come induttori e condensatori di rame fino al 50%.

 

In tratte ferroviarie, i moduli SiC consentono alle locomotive e ai treni ad alta velocità (come lo Shinkansen) di essere il 30% più leggeri e significativamente più silenziosi.Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS 2

 

La tecnica di produzione evidenzia:

 

Utilizziamo un processo PVT ad alta stabilità ottimizzato per la purezza del politipo 4H. Il nostro processo di crescita presenta un meccanismo di blocco dei difetti che previene efficacemente la BPD la migrazione verso la superficie epitaxiale, garantendo l'affidabilità a lungo termine.

 

Parametri tecnici:

Materiale: Monocristallo di SiC
Dimensione: 4 pollici x 350 mm ± 25 mm
Diametro: 4 pollici/101.6 mm
Tipo: 4H-N
Finitura superficiale: DSP, CMP/MP
Orientazione della superficie: 4° verso <11-20>±0,5°
Imballaggio: Altri prodotti per l'alimentazione umana
Applicazione: Dispositivi di alimentazione, energia rinnovabile, comunicazione 5G
 

 

 

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Personalizzazione:

 

Forniamo una modellazione geometrica versatile, possiamo regolare lo spessore dei wafer e offrire vari orientamenti di taglio, che vanno dalle inclinazioni standard a 4° ai tagli sull'asse, per abbinare la vostra ricetta di crescita epitaxiale.Offriamo anche diverse opzioni di doping, regolando i livelli di resistività per supportare sia la conducibilità di tipo N per i moduli di potenza EV che le strutture semi-isolatrici per le applicazioni RF ad alta frequenza.Ci concentriamo sul fornire la consistenza elettrica necessaria per una stabilità, dispositivi ad alte prestazioni.

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Domande frequenti

D: "Grado di ricerca" (R-Grade) significa che il wafer è rotto?

R: No. Un wafer di grado R è fisicamente intatto e strutturalmente 4H-SiC. Tuttavia, in genere ha una densità di micropipe superiore o leggermente più "buchi" superficiali rispetto a Prime Grade.Mentre non è affidabile per la produzione di massa di chip commerciali ad alta tensione, è una scelta conveniente per i test universitari, le prove di lucidatura o la taratura dell'attrezzatura in cui non è richiesto il rendimento del chip al 100%.

 

D: Perché il carburo di silicio è molto più costoso del normale silicio?

R: Si riduce principalmente a quanto sia difficile "crescere" e "tagliare". Mentre i cristalli di silicio possono essere trasformati in ingotti enormi da 12 pollici in un paio di giorni,I cristalli di SiC impiegano quasi due settimane per crescere e risultano in dimensioni molto più piccolePoiché il SiC è duro quasi quanto il diamante, per tagliarlo e lucidarlo occorrono strumenti specializzati e costosi con punte di diamante e processi ad alta pressione.Stai pagando per un materiale che sopravvive a un calore e una tensione molto più elevati di quelli che il normale silicio può gestire.

 

D: Devo ripulirle prima di usarle?

R: No, se si ordinano wafer "epi-ready". Questi sono già stati sottoposti a lucidatura chimica meccanica, il che significa che la superficie è atomicamente liscia e pronta per la prossima fase di produzione.Se compri wafer MP o "Dummy", avranno graffi microscopici e richiederanno ulteriore lucidatura professionale prima di poter costruire chip funzionanti.

 

Wafer di carburo di silicio 4 pollici di diametro x 350um 4H-N tipo P/R/D grado MOSEFTs/SBD/JBS 8

12 pollici Sic Single Crystal Silicon Carbide Substrato Grande Dimensione Alta Purezza Diametro 300mm Grado del prodotto Per la comunicazione 5G