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Dettagli dei prodotti

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Sic substrato
Created with Pixso. 12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple

Marchio: ZMSH
Numero di modello: Wafer del carburo di silicio
Tempo di consegna: 4-6 settimane
Condizioni di pagamento: T/T
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shanghai Cina
Certificazione:
ROHS
Materiale:
SiC singolo cristallo 4h-N
Grado:
Grado P/D/R
Colore:
Verde
Diametro:
12 pollici
Evidenziare:

Molteplici applicazioni Wafer in carburo di silicio SiC

,

Wafer a carburo di silicio da 12 pollici

,

Molteplici applicazioni Wafer in carburo di silicio SiC

Descrizione di prodotto

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple


 

Introduzione del prodotto

 

SiC, comunemente indicato come carburo di silicio, è un composto formato dalla combinazione di silicio e carbonio.ceramicheIl carburo di silicio è secondo solo al diamante per durezza, rendendolo un eccellente abrasivo e strumento di taglio.4H-SiC, ha una struttura cristallina esagonale con quattro strati di sequenze ripetute.maggiore intervallo di banda e maggiore mobilità elettronicaA causa di queste proprietà, il 4H-SiC è più adatto per dispositivi elettronici ad alta potenza e ad alta frequenza.

 

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 012 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 1

 


Tecniche di crescita

 

Attualmente la produzione industriale di substrato di carburo di silicio si basa principalmente sul metodo PVT.Questo metodo richiede di sublimare la polvere ad alta temperatura e sotto vuoto, e poi lasciare che i componenti crescano sulla superficie del seme attraverso il controllo del campo termico,per ottenere i cristalli di carburo di silicio.

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 2

 


Parametri del prodotto

 

Diametro 300.0 mm+0 mm/-0,5 mm
Orientazione della superficie 4° verso < 11-20> ± 0,5°
Lunghezza piatta primaria Intaglio
Lunghezza piatta secondaria Nessuna
Orientazione a tacca < 1° ± 1°
Angolo di taglio 90° +5/-1°
Profondità di tacca 1 mm + 0,25 mm/-0 mm
Disorientamento ortogonale ± 5,0°
Finitura superficiale C-Face: Optical Polish, Si-Face: CMP
Connessione a un'altra parte Fabbricazione a base di legno
Roughness superficiale
10 μm × 10 μm
Si-Face:Ra≤0,2 nm C-Face:Ra≤0,5 nm
Spessore 500.0μm±25.0μm
LTV ((10mmx10mm) ≤ 3 μm
TTV ≤ 10 μm
BIO ≤ 25 μm
Warp. ≤ 40 μm
Parametri di superficie
Chips/Indent Nessuna ammessa ≥ 0,5 mm Larghezza e profondità
Graffi2

(Si face CS8520)
≤ 5 e lunghezza cumulata ≤ 1 diametro della wafer
TUA2 ((2mm*2mm) ≥ 95%
Fessure Nessuna autorizzata
Puzzo Nessuna autorizzata
Esclusione di bordo 3 mm

 


Caratteristiche chiave del prodotto

 

- Alta conduttività elettrica: il doping con azoto migliora la conduttività elettrica del materiale ed è adatto ai convertitori di potenza ad alte prestazioni.

 

- eccellenti prestazioni termiche: la buona conduttività termica consente all'apparecchiatura di mantenere prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura.

 

- Alta tensione di rottura: in grado di sopportare tensioni più elevate, adatta alle applicazioni ad alta tensione.

- Adattabilità ambientale: si presta bene in ambienti difficili per applicazioni aerospaziali e militari.

 

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 312 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 4

 


Applicazioni del prodotto

 

1. elettronica di potenza

- Invertitori ad alta tensione: per sistemi di energia rinnovabile, come la generazione di energia solare ed eolica.

-Rettificatore: utilizzato nella conversione di potenza e nella gestione dell'energia.

 

2Dispositivo a radiofrequenza

- Comunicazione wireless: amplificatore di radiofrequenza per stazioni base e dispositivi mobili.

-Sistemi radar: utilizzati per l'elaborazione dei segnali ad alta frequenza nelle applicazioni aeronautiche e militari.

 

3. elettronica automobilistica

-Veicoli elettrici: utilizzati nei sistemi di propulsione elettrica e nelle apparecchiature di ricarica per migliorare l'efficienza energetica e le prestazioni.

-Automobili intelligenti: applicazioni nelle tecnologie di guida autonoma e dei veicoli connessi.

 

4Dispositivo fotoelettrico

-LED: utilizzato per i diodi emettitori di luce ad alta luminosità per migliorare l'efficienza e la durata della luce.

- Lasers: utilizzati nell'illuminazione laser e nella lavorazione industriale.

 

Le prestazioni superiori del wafer 4H-N SiC lo rendono dotato di un'ampia gamma di potenzialità di applicazione nei settori di cui sopra e promuove lo sviluppo di dispositivi ad alta efficienza e alta affidabilità.

 


Altri prodotti che possiamo fornire

 

Wafer in carburo di silicio da 2 pollici tipo 4H-N per dispositivi MOS Dia 0,4 mm

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 5

 

3 pollici HPSI Carburo di silicio SiC Spessore del substrato 500um Prime Grade Dummy Grade Research Grade

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 6

 

4 pollici 3C N-tipo SiC Substrato Carburo di silicio Substrato spessore 350um Prime Grade Dummy Grade

12 pollici 300 mm SiC Silicon Carbide Wafer 4H-N Tipo Dummy Prime Research Grade Applicazioni multiple 7

 


Di noi

 
La nostra impresa, ZMSH, è specializzata nella ricerca, produzione, lavorazione e vendita di substrati semiconduttori e materiali cristallini ottici.
Abbiamo un team di ingegneri esperti, e l'esperienza di gestione in attrezzature di lavorazione, e strumenti di prova, fornendoci con capacità estremamente forti nella lavorazione di prodotti non standard.
Possiamo ricercare, sviluppare e progettare vari nuovi prodotti in base alle esigenze del cliente.
L'azienda aderirà al principio del "centrato sul cliente, basato sulla qualità" e si sforzerà di diventare un'impresa di alta tecnologia di alto livello nei materiali optoelettronici.
 

Domande frequenti

 

1D: Qual è la differenza tra 4H-SiC e 6H-SiC?

R: Il 4H-SiC è ampiamente utilizzato nel campo della microelettronica, in particolare in dispositivi ad alta frequenza, ad alta temperatura e ad alta potenza.La scelta dei due polimorfi dipende dai requisiti specifici e dall'applicazione prevista del dispositivo semiconduttore.

 

2D: Quali sono le proprietà del 4H SiC?

A:Alta conduttività elettrica, eccellenti prestazioni termiche, alta tensione di rottura.

 

 

 

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