Dettagli del prodotto
Marca: ZMSH
Termini di pagamento e spedizione
Tempi di consegna: 2-4weeks
Termini di pagamento: T/T
Polytype: |
4H |
Errore di orientamento della superficie: |
4° verso < 11-20> ± 0,5o |
Diametro: |
157±0,5 mm |
Spessore: |
500±50μm |
Principale di appartamento: |
18 ± 2,0 mm |
2° appartamento: |
8 ± 2,0 mm |
Polytype: |
4H |
Errore di orientamento della superficie: |
4° verso < 11-20> ± 0,5o |
Diametro: |
157±0,5 mm |
Spessore: |
500±50μm |
Principale di appartamento: |
18 ± 2,0 mm |
2° appartamento: |
8 ± 2,0 mm |
Wafer di tipo 4H Dia 157±0,5 mm spessore 500±50um monocristallo area > 153 mm
L'abstract di 4H Silicon Carbide Seed
Nel campo della crescita dei cristalli di carburo di silicio (SiC), i wafer di semi di SiC di livello produttivo sono essenziali per la creazione di cristalli ad alte prestazioni.Questi wafer fungono da materiale di partenza per la crescita del SiC monocristallino, utilizzati in dispositivi elettronici ad alta temperatura e di alta potenza.e livelli di difetti per sostenere la crescita di cristalli di SiC con difetti minimizzatiL'uso di wafer di semi garantisce una struttura cristallina coerente ed è fondamentale nei dispositivi semiconduttori di potenza come diodi e transistor.Wafer di semi di alta qualità contribuiscono all'efficienza e alla durata dei componenti SiC in vari settori.
Foto di 4H Silicon Carbide Seed
Proprietà del seme di carburo di silicio 4H
I wafer di semi di SiC sono progettati specificatamente per resistere alle alte temperature richieste per la crescita di criste di SiC.
Le piastre di semina, come quelle per il trasporto fisico di vapore (PVT), dipendono da temperature superiori a 2000°C e la piastra di semina deve rimanere stabile in queste condizioni estreme.I wafer di produzione sono progettati per avere una stabilità termica eccezionaleQuesta resistenza alla temperatura è cruciale per la crescita di grandi,cristalli di SiC privi di difetti utilizzati in applicazioni ad alta potenza e ad alta temperaturaI wafer ottimizzati per la crescita ad alta temperatura contribuiscono a ridurre i difetti come dislocazioni e micropipes,garantire un rendimento più elevato di materiale SiC utilizzabile.
Applicazioni di 4H Silicon Carbide Seed
Specificità