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2 pollici Sic Substrato 6H-N Tipo Spessore 350um 650um Sic Wafer

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: ZMSH

Model Number: 6H-N SiC

Termini di pagamento e spedizione

Tempi di consegna: 2-4 settimane

Payment Terms: T/T

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650um Sic Substrato

,

2 pollici Sic Substrato

,

6H-N Sic Substrato

Materiale:
Monocristallo di SiC
Tipo:
6H-N
Dimensione:
2 pollici
Spessore:
350 mm o 650 mm
Grado:
Grado P o Grado D
Durezza:
≈ 9,2 (Mohs)
Materiale:
Monocristallo di SiC
Tipo:
6H-N
Dimensione:
2 pollici
Spessore:
350 mm o 650 mm
Grado:
Grado P o Grado D
Durezza:
≈ 9,2 (Mohs)
2 pollici Sic Substrato 6H-N Tipo Spessore 350um 650um Sic Wafer

Il substrato monocristallino di carburo di silicio (SiC) di tipo 6H n è un materiale semiconduttore essenziale ampiamente utilizzato in applicazioni elettroniche ad alta potenza, alta frequenza e alta temperatura.Rinomato per la sua struttura cristallina esagonale, 6H-N SiC offre un ampio intervallo di banda e una elevata conduttività termica, rendendolo ideale per ambienti esigenti.

L'elevato campo elettrico di rottura e la mobilità elettronica di questo materiale consentono lo sviluppo di dispositivi elettronici di potenza efficienti, come MOSFET e IGBT,che possono funzionare a tensioni e temperature più elevate rispetto a quelle realizzate in silicio tradizionaleLa sua eccellente conduttività termica garantisce un'efficace dissipazione del calore, fondamentale per il mantenimento delle prestazioni e dell'affidabilità nelle applicazioni ad alta potenza.

Nelle applicazioni a radiofrequenza (RF), le proprietà del 6H-N SiC supportano la creazione di dispositivi in grado di operare a frequenze più elevate con una maggiore efficienza.La sua stabilità chimica e la sua resistenza alle radiazioni la rendono adatta anche per l'uso in ambienti difficili, compresi i settori aerospaziale e della difesa.

Inoltre, i substrati 6H-N SiC sono parte integrante dei dispositivi optoelettronici, come i fotodettori ultravioletti, dove il loro ampio intervallo di banda consente un'efficiente rilevazione della luce UV.La combinazione di queste proprietà rende il SiC di tipo 6H n un materiale versatile e indispensabile per l'avanzamento delle moderne tecnologie elettroniche e optoelettroniche.

2 pollici Sic Substrato 6H-N Tipo Spessore 350um 650um Sic Wafer 0

Wafer a base di SiCCaratteristiche:

  • Nome del prodotto:SiCSubstr.mangiato
  • Struttura esagonale: Proprietà elettroniche uniche.
  • Alta mobilità elettronica: ~ 600 cm2/V·s.
  • Stabilità chimica: resistente alla corrosione.
  • Resistenza alle radiazioni: adatto ad ambienti difficili.
  • Concentrazione bassa di vettore intrinseco: Efficace a temperature elevate.
  • Durabilità: Forte proprietà meccaniche.
  • Capacità optoelettronica: efficace rilevamento della luce UV.

Wafer a base di SiCParametri tecnici:

Immobili 4H-SiC, singolo cristallo 6H-SiC, singolo cristallo
Parametri del reticolo a=3,076 Å c=10,053 Å a=3,073 Å c=15,117 Å
Sequenza di impilazione ABCB ABCACB
Durezza di Mohs ≈9.2 ≈9.2
Densità 30,21 g/cm3 30,21 g/cm3
Coefficiente di espansione termico 4-5×10-6/K 4-5×10-6/K
Indice di rifrazione @750nm no = 2.61 no = 2.60
ne = 2.66 ne = 2.65
Costante dielettrica c~9.66 c~9.66

Conduttività termica

(tipo N, 0,02 ohm.cm)

a~4,2 W/cm·K@298K
c~3,7 W/cm·K@298K

Conduttività termica

(Semi-isolamento)

a~4,9 W/cm·K@298K a~4,6 W/cm·K@298K
c~3,9 W/cm·K@298K c~3,2 W/cm·K@298K
Fessura di banda 3.23 eV 30,02 eV
Campo elettrico di rottura 3-5×106V/cm 3-5×106V/cm
Velocità della deriva di saturazione 2.0×105m/s 2.0×105m/s

2 pollici Sic Substrato 6H-N Tipo Spessore 350um 650um Sic Wafer 1

Wafer a base di SiCApplicazioni:

I substrati di SiC (carburo di silicio) sono utilizzati in varie applicazioni ad alte prestazioni a causa delle loro proprietà uniche come alta conduttività termica, elevata resistenza del campo elettrico e ampio intervallo di banda.Ecco alcune applicazioni:

  • Elettronica di potenza:

    • MOSFET ad alta tensione
    • IGBT (transistori bipolari a porta isolata)
    • diodi di Schottky
    • Invertitori di potenza
  • Dispositivi ad alta frequenza:

    • Amplificatori a RF (radio frequenza)
    • Transistor a microonde
    • Dispositivi ad onde millimetriche
  • Elettronica ad alta temperatura:

    • Sensori e circuiti per ambienti difficili
    • Electronica aerospaziale
    • Elettronica per l'automobile (ad esempio, unità di controllo del motore)
  • Optoelettronica:

    • Dispositivi per la trasmissione di informazioni
    • Diodi di emissione luminosa (LED)
    • diodi laser
  • Sistemi di energia rinnovabile:

    • Invertitori solari
    • Convertitori per turbine eoliche
    • Motori per veicoli elettrici
  • Industria e difesa:

    • Sistemi radar
    • Comunicazioni satellitari
    • Strumentazione del reattore nucleare

Wafer a base di SiCPersonalizzazione:

Possiamo personalizzare le dimensioni del substrato SiC per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Offriamo anche un wafer SiC 4H-Semi HPSI con dimensioni di 10x10mm o 5x5mm.

Il prezzo è determinato dal caso, e i dettagli dell'imballaggio possono essere personalizzati in base alle vostre preferenze.

Il tempo di consegna è entro 2-4 settimane. Accettiamo il pagamento tramite T/T.

Wafer a base di SiCSupporto e servizi:

Il nostro prodotto SiC Substrate è dotato di un supporto tecnico e di servizi completi per garantire prestazioni ottimali e soddisfazione dei clienti.

Il nostro team di esperti è disponibile per assistere nella selezione del prodotto, nell'installazione e nella risoluzione dei problemi.

Offriamo formazione e istruzione sull'uso e la manutenzione dei nostri prodotti per aiutare i nostri clienti a massimizzare il loro investimento.

Inoltre, forniamo aggiornamenti e miglioramenti dei prodotti per garantire ai nostri clienti sempre l'accesso alle ultime tecnologie.

Wafer a base di SiCFAQ:

D: I substrati SiC 6H-N da 2 pollici possono essere utilizzati per tutti i tipi di dispositivi semiconduttori?

R: Mentre i substrati SiC 6H-N da 2 pollici sono versatili, sono particolarmente adatti per dispositivi ad alta potenza e ad alta frequenza.

Possono non essere ideali per tutti i tipi di dispositivi semiconduttori, specialmente quelli che non richiedono le proprietà uniche del SiC.

D: Quali sono le dimensioni e le specifiche tipiche di un substrato SiC 6H-N da 2 pollici?

R: Le dimensioni tipiche includono un diametro di 2 pollici (50,8 mm), uno spessore di circa 300-500 micrometri e requisiti specifici di qualità e piattezza della superficie.

Le specifiche esatte possono variare a seconda del fabbricante e dell'applicazione prevista.

D: Come gestite e conservate i substrati SiC 6H-N da 2 pollici?

R: A causa della loro fragilità, i substrati di SiC devono essere manipolati con cautela utilizzando guanti da stanza pulita e strumenti di manipolazione adeguati.

Devono essere conservati in un ambiente controllato per evitare contaminazione e danneggiamento.

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