Riassunto: Scopri il componente ottico mirror SiC polito ad alta purezza a doppio lato per MEMS Micromirror, una soluzione ottica ad alte prestazioni progettata per la precisione e la durata in ambienti estremi.Ideale per occhiali AR/MR, litografia a semiconduttori e sistemi laser di fascia alta.
Caratteristiche del prodotto correlate:
Disegno ultraleggero e miniaturizzato con dimensioni compatte (≤ 50 mm) per applicazioni con esigenze di spazio.
Stabilità superiore e resistenza ambientale con bassa espansione termica e alto modulo elastico.
Ottima gestione termica con elevata conduttività termica (120-200 W/m*K) per una rapida dissipazione del calore.
Qualità della superficie ottica di livello superiore con liscezza su nanoscala (Ra ≤ 0,5 nm) su entrambi i lati.
Durabilità e inertà chimica eccezionali con alta durezza (Mohs 9.5) e resistenza agli acidi e alle alcali.
Ideale per occhiali AR/MR, litografia a semiconduttore e sistemi ottici laser di fascia alta.
Funziona in modo affidabile a temperature estreme da -50°C a 500°C.
Precisione lavorata con sinterizzazione a reazione, CVD o sinterizzazione senza pressione per una qualità costante.
FAQ:
Come funzionano gli specchi SiC in ottica?
Gli specchi in carburo di silicio sfruttano la bassa espansione termica, l'alta conducibilità termica e l'elevata rigidità del carburo di silicio per mantenere la stabilità superficiale a livello nanoscopico in condizioni estreme, garantendo una distorsione minima nei sistemi ottici di alta precisione.
Come si comporta uno specchio in carburo di silicio (SiC) in ambienti estremi?
Gli specchi in SiC eccellono in ambienti estremi grazie alla loro bassa espansione termica, all'elevata stabilità termica e all'inerzia chimica, operando in modo affidabile da -60°C a 180°C e resistendo a vibrazioni, urti e corrosione.
Quali sono le principali applicazioni degli specchi di SiC lucidati a doppio lato?
Gli specchi in SiC lucidati su entrambi i lati sono utilizzati negli occhiali AR/MR, nella litografia dei semiconduttori, nei sistemi laser di fascia alta e nei micromirrors MEMS, soddisfacendo i severi requisiti di precisione, stabilità e miniaturizzazione.