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Sic wafer in carburo di silicio tipo 4H-P sull'asse 0°Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: CINESE

Marca: ZMSH

Certificazione: rohs

Numero di modello: SiC 4H-P

Termini di pagamento e spedizione

Prezzo: by case

Termini di pagamento: T/T

Capacità di alimentazione: 1000pc/month

Ottenga il migliore prezzo
Evidenziare:

0° Sic wafer in carburo di silicio

Polytype:
4H-P
Densità:
3,23 G/cm3
Durezza di Mohs:
≈9.2
Orientamento di superficie:
Su asse: [1120] ± 0,5° per 4H-P
Imballaggio:
Imballaggio asettico unico indipendente, livello di pulizia 100
Applicazione:
Chip a LED, comunicazione satellitare
Polytype:
4H-P
Densità:
3,23 G/cm3
Durezza di Mohs:
≈9.2
Orientamento di superficie:
Su asse: [1120] ± 0,5° per 4H-P
Imballaggio:
Imballaggio asettico unico indipendente, livello di pulizia 100
Applicazione:
Chip a LED, comunicazione satellitare
Sic wafer in carburo di silicio tipo 4H-P sull'asse 0°Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza

Descrizione del prodotto:Sic wafer in carburo di silicio tipo 4H-P sull'asse 0°Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza 0

 

Sic wafer in carburo di silicio tipo 4H-P sull'asse 0°Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza

 

 
Il substrato di carburo di silicio di tipo 4H-P è un materiale semiconduttore con una struttura reticolare esagonale,e la conduttività di tipo P è ottenuta mediante un processo di doping specifico (come l'alluminio dopante e altri elementi)Tali substrati hanno in genere elevate concentrazioni di doping e bassa resistività, che li rende ideali per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza.Un asse di 0° di solito si riferisce al fatto che una particolare direzione cristallina o bordo di posizionamento del substrato ha un angolo di 0° da una direzione di riferimento (come il piano del substrato), che contribuisce a garantire la coerenza e l'affidabilità del dispositivo nei successivi processi di fabbricazione.
 
 
 


Sic wafer in carburo di silicio tipo 4H-P sull'asse 0°Utilizzato per la fabbricazione di dispositivi ad alta potenza 1

Caratteristiche:

 

  • Distanza di banda larga:Il carburo di silicio di tipo 4H-P ha un intervallo di banda larga di circa 3,26 eV, che gli consente di funzionare in modo stabile in ambienti ad alta temperatura e alta tensione.

 

  • Alta conduttività termica:Con una conduttività termica di circa 4,9 W/m·K, molto superiore ai materiali al silicio, può dirigere e dissipare efficacemente il calore, adatto per applicazioni ad alta densità di potenza.

 

  • Bassa resistività:Il carburo di silicio dopato di tipo P ha una bassa resistività, adatta per la costruzione di giunzioni PN, in modo da soddisfare le esigenze dei dispositivi ad alta potenza.

 

  • Alta durezza e resistenza meccanica:I materiali a carburo di silicio hanno una resistenza meccanica e una robustezza molto elevate per applicazioni in condizioni difficili.

 

  • Alta tensione di rottura:In grado di resistere a tensioni più elevate, contribuendo a ridurre le dimensioni del dispositivo e migliorare l'efficienza energetica.

 

 


 

Parametro tecnico

 

Proprietà

Tipo P 4H-SiC, cristallo singolo

Parametri del reticolo

a=3,082 Å c=10,092 Å

Sequenza di impilazione

ABCB

Durezza di Mohs

≈9.2

Densità

3.23 g/cm3

Coefficiente di espansione termico

4.3×10-6/K (Caxis) 4.7×10-6/K (Caxis)

Indice di rifrazione @750nm

no = 2.621 ne = 2.671

Costante dielettrico

c~9.66

Conduttività termica

3-5 W/cm·K@298K

Band-Gap

3.26 eV

Campo elettrico di rottura

2-5×106V/cm

Velocità della deriva di saturazione

2.0×105m/s

Orientazione dei wafer

Su asse: [1120] ± 0,5° per 4H/6H-P

 
 


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Applicazioni:

  • elettronica di potenza:Il substrato di carburo di silicio di tipo 4H-P può essere utilizzato per la fabbricazione di tutti i tipi di dispositivi ad alta tensione, come IGBT, MOSFET, ecc. Questi dispositivi sono ampiamente utilizzati nella trasmissione di corrente continua,convertitore di frequenzaIn particolare nei veicoli elettrici e nelle tecnologie delle energie rinnovabili,I dispositivi a carburo di silicio possono migliorare significativamente l'efficienza di conversione dell'energia e ridurre il consumo di energia.

 

  • campo di illuminazione dei semiconduttori:Può essere utilizzato per la produzione di chip LED ad alta efficienza e alta affidabilità, ampiamente utilizzati nella retroilluminazione dei display a cristalli liquidi, nell'illuminazione del paesaggio, nelle luci automobilistiche e in altri campi.L'alta conduttività termica del substrato di carburo di silicio contribuisce a migliorare l'efficienza luminosa e la stabilità dei LED.

 

  • Campo dei sensori:possono essere utilizzati per la fabbricazione di sensori ad alta sensibilità e stabilità, quali sensori di pressione, sensori di temperatura, ecc. Questi sensori hanno importanti applicazioni nell'elettronica automobilistica,attrezzature medicheL'alta stabilità a temperatura e l'inerzia chimica dei substrati SIC ne fanno un materiale ideale per la fabbricazione di sensori altamente affidabili.

 

  • Campo di radiofrequenza a microonde:Sebbene il substrato N del carburo di silicio sia ampiamente utilizzato in questo campo,il substrato di carburo di silicio di tipo 4H-P può essere utilizzato anche da processi specifici per la fabbricazione di dispositivi elettronici ad alta frequenza e ad alta potenza, come amplificatori, oscillatori, ecc. Questi dispositivi hanno potenziali applicazioni nella comunicazione wireless, nella comunicazione satellitare, nel radar e in altri campi.

 

 


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Personalizzazione:

 


 


ZMSH fornisce una gamma completa di servizi 4H-P (asse 0°) per il substrato di carburo di silicio, compresa la lavorazione su misura di precisione per soddisfare le esigenze specifiche del cliente,utilizzo di canali logistici professionali per garantire la sicurezza dei prodotti e la consegna puntuale, e l'uso di materiali di imballaggio a prova di urti e di umidità accuratamente imballati e consegnati per garantire la fornitura di substrati di carburo di silicio di alta qualità.
 

 

 

 

 


 

FAQ:

 


1D: Qual è la differenza tra il substrato di carburo di silicio di tipo 4H-P e di tipo 6H?


R: Rispetto al 6H, il substrato SIC 4H-P ha una maggiore mobilità elettronica e una migliore conduttività termica, che è adatto per la fabbricazione di dispositivi ad alte prestazioni.
 


2D: Qual è l'effetto dell'asse 0° sulle prestazioni del substrato di carburo di silicio?


A:La regolazione dell'albero a 0° contribuisce a garantire la costanza e l'affidabilità del dispositivo nel successivo processo di fabbricazione,miglioramento delle prestazioni elettriche e della stabilità del dispositivo.
 
 

 


 
Tag: #Sic wafer, #silicon carbide substrate, #H-P tipo 4, #asse 0°, #alta purezza, #Sic 4H-P tipo