Evidenziare:
sic wafer
, sic substrato
materiale: |
sic di cristallo |
industria: |
wafer a semiconduttore |
applicazione: |
semiconduttore, principale, dispositivo, elettronica di potenza, 5G |
colore: |
blu, verde, bianco |
tipo: |
4H, 6H, VERNICIATO, nessuna elevata purezza verniciata e |
Wafer a 3 pollici del carburo di silicio, sic caratteristiche transitorie eccellenti del substrato
3inch sic wafer, substrati del carburo di silicio di elevata purezza 4H, substrati di elevata purezza 4inch sic, substrati per il semiconduttore, 4inch sic substrati, substrati per il semconductor, wafer del monocristallo sic, sic lingotti del carburo di silicio 4inch del carburo di silicio per la gemma
Campi di applicazione
1 diodo Schottky degli apparecchi elettronici di alto potere e di alta frequenza, JFET, BJT, PiN, diodi, IGBT, MOSFET
2 dispositivi optoelettronici: pricipalmente utilizzato in GaN/nel materiale sic blu del substrato del LED (GaN/sic) LED
advantagement
• Disadattamento basso della grata
• Alta conducibilità termica
• Basso consumo energetico
• Caratteristiche transitorie eccellenti
• Alto intervallo di banda
Carborundum sic di cristallo del wafer del substrato del carburo di silicio
PROPRIETÀ MATERIALI DEL CARBURO DI SILICIO
| Proprietà |
4H-SiC, monocristallo |
6H-SiC, monocristallo |
| Parametri della grata |
a=3.076 Å c=10.053 Å |
a=3.073 Å c=15.117 Å |
| Impilamento della sequenza |
ABCB |
ABCACB |
| Durezza di Mohs |
≈9.2 |
≈9.2 |
| Densità |
3,21 g/cm3 |
3,21 g/cm3 |
| Therm. Coefficiente di espansione |
4-5×10-6/K |
4-5×10-6/K |
| Indice @750nm di rifrazione |
nessun = 2,61
Ne = 2,66
|
nessun = 2,60
Ne = 2,65
|
| Costante dielettrica |
c~9.66 |
c~9.66 |
| ohm.cm (N tipo e 0,02) di conducibilità termica |
a~4.2 W/cm·K@298K
c~3.7 W/cm·K@298K
|
|
| Conducibilità termica (Semi-isolare) |
a~4.9 W/cm·K@298K
c~3.9 W/cm·K@298K
|
a~4.6 W/cm·K@298K
c~3.2 W/cm·K@298K
|
| Intervallo di banda |
eV 3,23 |
eV 3,02 |
| Campo elettrico di ripartizione |
3-5×106V/cm |
3-5×106V/cm |
| Velocità di deriva di saturazione |
2.0×105m/s |
2.0×105m/s |
2. dimensione dei substrati della norma
| Specifiche a 3 pollici del substrato del carburo di silicio del diametro 4H |
| PROPRIETÀ DEL SUBSTRATO |
Ultra grado |
Grado di produzione |
Grado di ricerca |
Grado fittizio |
| Diametro |
76,2 millimetri ±0.38 millimetro |
| Orientamento di superficie |
su asse: ± 0.2° {di 0001}; fuori asse: 4°toward <11-20> ± 0.5° |
| Orientamento piano primario |
<11-20> ̊ del ± 5,0 |
| Orientamento piano secondario |
90,0 ̊ CW dal ̊ primario del ± 5,0, silicio rivolto verso l'alto |
| Lunghezza piana primaria |
22,0 millimetri di ± 2,0 millimetri |
| Lunghezza piana secondaria |
11,0 millimetri di ± 1.5mm |
| Bordo del wafer |
Smusso |
| Densità di Micropipe |
cm2 di ≤1 micropipes/ |
cm2 di ≤5 micropipes/ |
cm2 di ≤10 micropipes/ |
cm2 di ≤50 micropipes/ |
| Aree di Polytype da luce ad alta intensità |
Nessuno hanno permesso |
area di ≤10% |
| Resistività |
0,015 Ω·cm~0.028 Ω·cm |
(area 75%) 0.015Ω·cm~0.028 Ω·cm |
| Spessore |
350,0 μm del μm del ± 25,0 del μm o 500,0 del ± 25,0 del μm |
| TTV |
μm ≤10 |
μm ≤15 |
| Arco (valore assoluto) |
μm ≤15 |
μm ≤25 |
| Filo di ordito |
μm ≤35 |
3.sample
FAQ:
Q: Che cosa è il modo del termine di trasporto e di costo e di paga?
A: (1) noi accept100% T/T in anticipo da DHL, da Fedex, dallo SME ecc.
(2) se avete vostro proprio conto preciso, è grande. Se non, potremmo aiutarvi a spedirli.
Il trasporto è conforme allo stabilimento reale.
Q: Che cosa è il vostro MOQ?
A: (1) per l'inventario, il MOQ è 2pcs.
(2) per i prodotti su misura, il MOQ è 25pcs su.
Q: Posso personalizzare i prodotti basati sul mio bisogno?
A: Sì, possiamo personalizzare il materiale, le specifiche e la forma, dimensione basata sui vostri bisogni.
Q: Che cosa è il termine di consegna?
A: (1) per i prodotti standard
Per l'inventario: la consegna è 5 giorni feriali dopo che ordinate.
Per i prodotti su misura: la consegna è 2 o 3 settimane dopo che ordinate.
(2) per i prodotti a forma di speciale, la consegna è 4 settimane lavorative dopo che ordinate.
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