​​Apparecchiatura di lucidatura unilaterale ad alta precisione

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August 15, 2025
Connessione Categoria: Attrezzatura a semiconduttore
L'apparecchiatura di lucidatura monofacciale ad alta precisione è uno strumento di lavorazione di precisione specializzato progettato per materiali duri e fragili (ad esempio, wafer di silicio per semiconduttori, carburo di silicio, arseniuro di gallio, zaffiro, quarzo, ceramica). Attraverso la rettifica rotazionale unidirezionale e la sinergia chimica, raggiunge una finitura superficiale ultra-elevata con planarità ≤0,01 mm e rugosità superficiale Ra ≤0,4 nm. Questa apparecchiatura è ampiamente utilizzata nell'assottigliamento di wafer a semiconduttore, nella lucidatura di lenti ottiche, nella lavorazione di componenti di tenuta in ceramica e supporta sia la lavorazione di singoli pezzi che in lotti, migliorando significativamente l'efficienza e l'uniformità.
Riassunto: Scopri l'attrezzatura di lucidatura monofacciale ad alta precisione, progettata per wafer di Si, SiC e materiali di zaffiro. Ottieni una finitura superficiale ultra-elevata con planarità ≤0,01 mm e rugosità Ra ≤0,4 nm. Ideale per applicazioni nel settore dei semiconduttori, ottico e ceramico.
Caratteristiche del prodotto correlate:
  • Specializzato per materiali duri e fragili come wafer di silicio, carburo di silicio e zaffiro.
  • Raggiunge una finitura superficiale ultra elevata con piattezza ≤ 0,01 mm e rugosità Ra ≤ 0,4 nm.
  • Supporta sia l'elaborazione singola che batch per una maggiore efficienza.
  • Features a high-rigidity frame with integrated casting-forging structure for stability.
  • Usa componenti internazionali come la Germania SEW e il Giappone THK per la precisione.
  • 10-inch industrial touchscreen for preset recipes and real-time monitoring.
  • Flexible configuration with polishing disc sizes from φ300 mm to φ1900 mm.
  • Widely used in semiconductor, optics, electronics, and aerospace industries.
FAQ:
  • Quali sono i principali vantaggi delle vostre apparecchiature di lucidatura ad alta precisione?
    Raggiunge una precisione sub-micron con un'elevata efficienza, ideale per wafer di silicio, SiC e zaffiro nella produzione di semiconduttori.
  • Quali materiali semiconduttori può elaborare questa macchina di lucidatura a un lato?
    Progettato specificamente per wafer di silicio, carburo di silicio (SiC) e substrati di zaffiro.
  • Quali industrie traggono vantaggio da queste apparecchiature di lucidatura?
    L'industria dei semiconduttori, dell'ottica, dell'elettronica e dell'aerospaziale traggono vantaggio dalla sua precisione e versatilità.