| Marchio: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Tempo di consegna: | 2-4 SETTIMANE |
| Condizioni di pagamento: | T/T |
SiC macchina di incollaggio a spruzzo completamente automatica per applicazioni di wafer e piastre di grafite ad alta precisione
La macchina di incollaggio a spruzzo completamente automatica SiC è un sistema integrato che combina il rivestimento a spruzzo ad ultrasuoni e l'incollaggio automatico per wafer, semi SiC, carta di grafite e piastre di grafite.
Utilizzando un manipolatore e un calibratore, il sistema ottiene una precisa deposizione dell'adesivo, l'allineamento centrale, il legame del wafer, la lettura dell'ID e il rilevamento delle bolle.I materiali legati vengono quindi trasformati nel forno di sinterizzazione SiC, ottenendo una sinterizzazione e una carbonizzazione uniformi e senza bolle.
Ottimizzato per la tecnologia di legame dei semi SiC, questo sistema garantisce adesione affidabile e di alta resistenza, rendendolo ideale per ambienti ad alta temperatura, alta resistenza e corrosivi.
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Principio:
Le particelle di semi di SiC vengono gradualmente depositate sull'agente di legame ad alta temperatura.
L'adesivo reagisce con le superfici di SiC a temperatura e pressione controllate, formando unalegame chimico e meccanico stabile.
La spruzzatura ad ultrasuoni garantisce un flusso uniforme e una distribuzione uniforme della pressione.
Il raffreddamento e il riscaldamento controllati completano il legame, producendo interfacce SiC-SiC o SiC-substrato stabili e resistenti.
Vantaggi:
Forza di legame elevata:Forte adesione su più strati e interfacce.
Compatibilità del materiale:Eccellente compatibilità chimica e strutturale con il SiC.
Adesivo a basso residuo:Agente di legame residuo minimo, garantendo la stabilità a lungo termine.
Alta efficienza produttiva:Supporta un'elaborazione SiC di grandi dimensioni, ad alta precisione e veloce.
Ottimizzazione dei processi:
Spessore di adesivo regolabile per le caratteristiche del materiale.
Temperatura di legame controllata e tempo di reazione per proprietà chimiche e fisiche stabili.
Validazione dei processi e controlli di qualità regolari per ottenere risultati coerenti.
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Configurazione modulare:Configurazione flessibile per wafer singoli o multipli.
Ciclo di processo automatizzato:Riduce il funzionamento manuale, garantendo ripetibilità e elevato rendimento.
Supporto a wafer da 12 pollici:Compattibile con i wafer più piccoli.
Alto parallelizzato dei wafer:Garantisce un legame uniforme e una distribuzione della tensione.
Produzione a basso volume/medio volume:Adatto per la ricerca e sviluppo, per la produzione pilota o per la produzione di lotti di piccole o medie dimensioni.
Caratteristiche di sicurezza standard del settore
Automazione multifunzione:Raccolta dati, personalizzazione del flusso di lavoro e modalità automatizzate.
Interfaccia touchscreen user-friendly
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Alta precisione:Mantiene rigorose specifiche di diametro e spessore per i wafer incollati.
Alta affidabilità:I componenti critici vengono acquistati da produttori di livello mondiale.
Alta velocità:Trasformazione rapida di grandi quantità di wafer.
Alta automazione:Minimizza l'operazione manuale e aumenta il throughput.
Collegamento senza bolle:Il collegamento integrato assistito dal vuoto e il rilevamento delle bolle assicurano risultati privi di difetti.
Efficienza di spruzzatura ad ultrasuoni:Le goccioline a bassa velocità riducono l'eccesso di spruzzo e migliorano l'utilizzo del materiale (più di 4 volte superiore rispetto alla spruzzatura convenzionale a due fluidi).
| Parametro | Specificità | Altre note |
|---|---|---|
| Dimensione della camera | ≤ 12 pollici | Compatibile con wafer più piccoli |
| Intervallo di temperatura | ≤ 300 °C | Regolabile per il processo di incollaggio |
| Tempo di ciclo | 0 ¢ 60 min | Completamente regolabile |
| Fornitore di energia | 220 V | di cilindrata inferiore o uguale a |
| Tecnologia di spruzzatura | Atomizzazione ad ultrasuoni | Sistema YMUS |
| Controllo del movimento | Manipolatore e calibratore integrati | Consente un rivestimento preciso, allineamento centrale, legame, lettura dell'ID e rilevamento delle bolle |
| Precisione del rivestimento | Alta uniformità, senza bolle | Confezionati per la produzione di prodotti di cui al capitolo 85 |
| Capacità di legame | Oggetti, fogli e fogli di carta di grafite | Allineamento centrale, lettura ID, rilevamento delle bolle |
Semiconduttori e crescita dei cristalli di SiC:Collegamento di semi, preparazione di wafer
Ambienti ad alta temperatura e corrosivi:Componenti meccanici ad alta resistenza
Sottostrati flessibili o compositi:Carta di grafite, lamiere di grafite
Ricerca e produzione pilota:Ricerca e sviluppo, legame SiC su scala pilota, rivestimenti a film sottile
Q1: Quali materiali può gestire la macchina di incollaggio a spruzzo SiC?
A1:Wafer, semi di SiC, carta di grafite e piastre di grafite, compresi i substrati rigidi e flessibili.
Q2: Quanto è preciso il rivestimento adesivo?
A2:La spruzzatura ad ultrasuoni garantiscespessore del rivestimento altamente uniforme e controllato, evitando accumuli locali o punti sottili.
D3: Come fa il sistema a garantire un'incollaggio senza bolle?
A3:Integratolegame assistito dal vuoto, allineamento centrale e rilevamento delle bolle, in combinazione con la lavorazione in forno di sinterizzazione,senza bolle, adesione uniforme.
Q4: Qual è la dimensione massima dei wafer supportata?
A4:Fino a15 centimetri, retrocompatibile con wafer più piccoli.
D5: Il sistema può essere utilizzato per la produzione su scala pilota e a medio volume?
A5:Il controllo programmabile a asse XYZ e il collegamento multi-wafer consentono ricerca e sviluppo, produzione pilota o di piccole e medie serie.