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Dettagli dei prodotti

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Attrezzatura a semiconduttore
Created with Pixso. Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite

Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite

Marchio: ZMSH
MOQ: 1
Tempo di consegna: 2-4 SETTIMANE
Condizioni di pagamento: T/T
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
Shangai, Cina
Dimensioni della macchina:
920×1060×1620 mm
Area di rivestimento efficace:
500 × 500 mm
Alimentazione elettrica:
120 V/220 V ±10%, 50–60 Hz
Tipo di ugello:
Ultrasuoni, molteplici opzioni disponibili
Spessore del rivestimento:
20 nm – decine di µm
Portata del liquido:
0,006 – 3ml/s
Posizionamento:
Allineamento del laser
controllo del movimento:
Assi coordinati XYZ, programmabili indipendentemente
consegna liquida:
Flusso costante con dispersione in linea
Gestione dei rifiuti:
Ugello autopulente, riciclaggio dei liquidi di scarto, sistema di scarico
Evidenziare:

Macchina per la deposizione precisa di adesivo SiC

,

Macchina per la deposizione di adesivo a funzionamento automatico

,

Sistema di rivestimento per semiconduttori ad ampia compatibilità

Descrizione di prodotto

Macchina per rivestimento in SiC


Visualizzazione del prodotto


La macchina di rivestimento in SiC è un sistema autonomo completamente automatizzato e programmabile progettato per la deposizione di adesivi precisi tra wafer, semi di SiC, carta di grafite e piastre di grafite.

Garantisce uno spessore di rivestimento controllato e uniforme, impedendo l'accumulo locale o i punti sottili, e fornisce una base stabile per la successiva degassatura al vuoto e la sinterizzazione ad alta temperatura.

Ideale per la produzione a scala pilota o di lotti di medie e grandi dimensioni, il sistema offre un'elevata ripetibilità e una qualità del rivestimento costante.


Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite 0Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite 1


Caratteristiche chiave


  • Rivestimento di precisione:Lo spessore dell'adesivo controllato garantisce una deposizione uniforme tra le wafer, la carta di grafite e le piastre di grafite.Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite 2

  • Ampia compatibilità:Funziona con adesivi contenenti particelle solide, che supportano una vasta gamma di formulazioni.

  • Funzionamento automatizzato:Controllo autonomo programmabile con movimento coordinato XYZ; adatto alla produzione a serie o a scala pilota.

  • Pre-trattamento stabile:Fornisce una base affidabile per la successiva degassatura a vuoto e la sinterizzazione ad alta temperatura.

  • Alta ripetibilità:Garantisce un rivestimento coerente su tutti i lotti, migliorando il rendimento e la stabilità del processo.

Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite 3


Specificità


Parametro Specificità Altre note
Dimensioni della macchina 920 × 1060 × 1620 mm Modello standard, personalizzabile
Area di rivestimento efficace 500 × 500 mm Espandibile
Fornitore di energia 120V / 220V ±10%, 50 ∼ 60 Hz Dipende dalla regione
Tipo di ugello Ultrasuoni, opzioni multiple disponibili Compatibile con vari requisiti di spessore del rivestimento
Spessore del rivestimento 20 nm ¢ decine di μm Controllato con precisione, evita accumuli locali o rivestimenti sottili
Tasso di flusso di liquidi 0.006 3 ml/s Dipende dal tipo di solvente e di ugello
Posizionamento Allineamento laser Posizionamento preciso dell'ugello
Controllo del movimento Assi coordinati XYZ, programmabili in modo indipendente Supporta la produzione a serie o a scala pilota
Consegna di liquidi Flusso costante con dispersione in linea Gestisce gli adesivi contenenti solidi, impedisce la sedimentazione
Gestione dei rifiuti ugello di pulizia automatica, riciclaggio dei liquidi di scarico, sistema di scarico Riduce i costi di manutenzione
Riscaldamento Piastra di riscaldamento ad assorbimento a vuoto su scala micron, controllo multi-zona Adatti a substrati flessibili quali separatori di batterie
Opzione ad alta temperatura Fino a 750 °C Consente la preparazione di film sottile per la pirolisi a spruzzo


Applicazioni tipiche


  • Semiconduttori e crescita dei cristalli di SiC:Collegamento di semi, preparazione di wafer

  • Rivestimenti conduttivi e funzionali:SiC, flux, rivestimenti fotoresistenti

  • Substrati flessibili e separatori di batterie:Maniglia di soluzioni adesive contenenti solidi

  • Materiali di vetro e fotovoltaici:Rivestimento uniforme tra le lastre di grafite e la carta


Domande frequenti


D1: La macchina può gestire gli adesivi contenenti solidi?
A1:La macchina utilizza una distribuzione a flusso costante ad alta precisione con dispersione online, garantendo una spruzzatura uniforme di adesivi solidi senza intasamento dell'ugello.


Q2: Quanto è preciso il controllo dello spessore del rivestimento?
A2:Lo spessore del rivestimento varia da 20 nm a decine di micron, con un controllo preciso per l'uniformità e la ripetibilità.


D3: Quali tipi di substrati sono supportati?Macchina per il rivestimento SiC – Deposizione precisa di adesivo per wafer e materiali in grafite 4
A3:Wafer, semi di SiC, carta di grafite e piastre di grafite, compresi i substrati flessibili con riscaldamento assistito dal vuoto.


Q4: La macchina può essere utilizzata per la produzione a serie?
A4:Il controllo programmabile a asse XYZ supporta la produzione a scala pilota a batch di medie dimensioni, con funzionamento parallelo multi-ugello.


Q5: Come si assicura l'uniformità del rivestimento?
A5:L'allineamento laser, la consegna a flusso costante, la sincronizzazione multi-ugello e la tecnologia degli ugelli ad ultrasuoni assicurano un'uniformità > 95%.


D6: La manutenzione delle macchine è complicata?
A6:La macchina è dotata di ugelli di pulizia automatica, riciclaggio dei liquidi di scarico e sistemi di scarico, riducendo al minimo i requisiti di manutenzione.