Dettagli del prodotto
Place of Origin: China
Marca: ZMSH
Termini di pagamento e spedizione
Delivery Time: 2-4weeks
Payment Terms: T/T
Doping control: |
Better than ± 10% |
PLWavelength uniformity: |
Std, Dev better than inm @inner 42mm |
P-InP doping (cm³): |
Zn doped: 5e17 to 2e18 |
N-inP doping (cm3): |
Si doped: 5e17 to 3e18 |
InGaAs doping (cm·*): |
5e14 to 4e19 |
Potenza frontale: |
>8 |
Doping control: |
Better than ± 10% |
PLWavelength uniformity: |
Std, Dev better than inm @inner 42mm |
P-InP doping (cm³): |
Zn doped: 5e17 to 2e18 |
N-inP doping (cm3): |
Si doped: 5e17 to 3e18 |
InGaAs doping (cm·*): |
5e14 to 4e19 |
Potenza frontale: |
>8 |
Wafer DFB N-InP substrato epiwafer strato attivo InGaAlAs/InGaAsP 2 4 6 pollici per sensore di gas
DFB wafer N-InP substrato epiwafer's brief
Un wafer DFB (Distributed Feedback) su un substrato di fosfuro indio (N-InP) di tipo n è un materiale critico utilizzato nella produzione di diodi laser DFB ad alte prestazioni.Questi laser sono essenziali per le applicazioni che richiedono un solo modoI laser DFB funzionano in genere nelle fasce di lunghezza d'onda da 1,3 μm a 1,55 μm.che sono ottimali per la comunicazione in fibra ottica a causa della trasmissione a bassa perdita nelle fibre ottiche.
IlSubstrato InP di tipo nfornisce un'ottima corrispondenza reticolare per gli strati epitaxiali, come InGaAsP, che vengono utilizzati per formare la regione attiva, gli strati di rivestimento e la struttura integrata della griglia del laser DFB.Questa griglia consente un feedback preciso e il controllo della lunghezza d'onda, che lo rende ideale per le comunicazioni a lunga distanza e i sistemi di multiplexing a divisione di lunghezza d'onda (WDM).
Le principali applicazioni degli epiwafer DFB su substrati N-InP includono trasmettitori ottici ad alta velocità, interconnessioni dei data center, rilevamento dei gas ambientali,e di imaging medico mediante tomografia ottica di coerenza (OCT)Le caratteristiche prestazionali del wafer, quali la modulazione ad alta velocità, la stabilità della lunghezza d'onda e la larghezza di linea spettrale ristretta, lo rendono indispensabile per le moderne tecnologie di comunicazione e di rilevamento.
Proprietà dell'epiwafer del substrato N-InP del wafer DFB
Materiale del substrato: fosfuro di indio di tipo N (N-InP)
Regione attiva e strati epitaxiali
Lunghezza d'onda operativa
Uni-modo e larghezza di linea ristretta
Stabilità della lunghezza d'onda
Corrente di soglia bassa
Capacità di modulazione ad alta velocità
Test di mappatura PL dell'epiafilo del substrato N-InP del wafer DFBZMSH DFB inp epiwafer.pdf)
Risultato di prova XRD e ECV dell'epiafilo con substrato N-InP del wafer DFB
Applicazione dell'epiwafer a substrato N-InP del wafer DFB
I wafer DFB (Distributed Feedback) su substrati di fosfuro di indio (N-InP) di tipo n sono cruciali in varie applicazioni optoelettroniche ad alte prestazioni, in particolare in cui il mono-modo,è richiesta un'emissione luminosa a larghezza di linea strettaDi seguito sono riportate le principali applicazioni:
DFB wafer N-InP substrato epiwafer foto reali
Parole chiave:Wafe DFB,r N-InP substrato epiwafer,strato attivo InGaAlAs/InGaAsP