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Dettagli dei prodotti

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Wafer del fosfuro di indio
Created with Pixso. 3,58 substrato del cristallo dell'ossido di magnesio del wafer del substrato/MgO del MgO di densità

3,58 substrato del cristallo dell'ossido di magnesio del wafer del substrato/MgO del MgO di densità

Marchio: zmkj
Numero di modello: MgO-001
MOQ: 10pcs
prezzo: by case
Tempo di consegna: 1-4weeks
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
La Cina
Materiali:
Monocristallo del MgO
industria:
substrati a semiconduttore, dispositivo,
colore:
bianco
sistema cristallino:
cubo
Densità:
3,58
Dimensioni:
10x10,20x20,5x5mmt
Lucido:
DSP/SSP OKAY
Imballaggi particolari:
singola cassa del wafer
Capacità di alimentazione:
1000pcs/month
Evidenziare:

wafer del inp

,

Wafer di Gap

Descrizione di prodotto

Substrati del MgO, wafer del MgO di 10X10mm, wafer a semiconduttore, substrato di cristallo di (MgO) dell'ossido di magnesio, WAFER 5x5mm del MgO del fornitore dei cristalli

Descrizione di prodotto:
L'ossido di magnesio (MgO) è eccellente per il substrato monocristallino è ampiamente usato nella produzione del film sottile ferroelettrico,
film a strato magnetico e ottico ed il film sottile, ecc. superconduttori ad alta temperatura, poichè è nella costante dielettrica della banda di microonda e la perdita è piccola e può ottenere un'ampia area di un substrato (un diametro di 2 pollici e più grande), è l'industria corrente, un film sottile superconduttore ad alta temperatura importante dei substrati monocristallini. Può essere usato per fare le attrezzature di comunicazione mobili richieste per i filtri superconduttori ad alta temperatura da a microonde ed altri dispositivi. siamo scarico facendo uso di una dimensione speciale della crescita di elevata purezza di circa 2" x2» x 1", MgO a basso costo del monocristallo, pronto tramite lucidatura meccanica chimica la superficie dei substrati di alta qualità atomico.

Parametri tecnici:

Sistema cristallinoCubo
Costante della grataa = 4.216Å
Metodo di crescitaArco Francia
Mp°C 2850
Densità3.58g/cm3
Durezza di Mohs5,5 Mohs
Coefficiente di espansione termica× 12,8 10 -6/°C
Costante dielettrica9,8
Trasmissione ottica
> 90% @ 200 ~ 400 nm> 98% 500 ~ 1000 nanometro
Aereo di cristallo di fenditura
<100>
Specifiche:

<100> <110>, <111> tolleranza: +/-0,5 gradi
dia2 «x0.5mm, 10x10x0.5mm, 15x15x0.5mm, 10x3mmt, 10x5mmt, 20X15mmt, 20x20mmt,
2sp lucidato o doppio del singolo lato, Ra <5a>
Nota: secondo i requisiti e la dimensione dei clienti della direzione corrispondente.

Imballaggio di norma:borsa pulita 1000 stanza pulita, 100 o singolo imballaggio della scatola



3,58 substrato del cristallo dell'ossido di magnesio del wafer del substrato/MgO del MgO di densità 0

3,58 substrato del cristallo dell'ossido di magnesio del wafer del substrato/MgO del MgO di densità 1

FAQ:
Q: Avete prodotti standard?
A: I nostri prodotti standard sull'orientamento standard in azione.

Q: Che cosa è il vostro MOQ?
A: (1) per l'inventario, il MOQ è 10pcs.
(2) per i prodotti su misura, il MOQ è 25pcs su.

Q: Che cosa è il modo di trasporto e di costo?
A: (1) accettiamo DHL, Fedex, lo SME ecc.
(2) se avete vostro proprio conto preciso, è grande. Se non, potremmo aiutarvi a spedirli.
Il trasporto è conforme allo stabilimento reale.
Q: Come pagare?
A: 100%T/T, Paypal, pagamento sicuro e pagamento di assicurazione.
Q: Che cosa è il termine di consegna?
A: (1) per i prodotti standard
Per l'inventario: la consegna è 5 giorni feriali dopo che ordinate.
Per i prodotti su misura: la consegna è 2 o 3 settimane dopo che ordinate.

Q: Posso personalizzare i prodotti basati sul mio bisogno?
A: Sì, possiamo personalizzare il materiale, le specifiche, la forma, spessore dal vostro bisogno.