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Vassoio in ceramica al carburo di silicio per epitassia di wafer LED e processi di incisione ICP

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November 17, 2025
Connessione Categoria: substrato ceramico
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#Substrato ceramico dell'allumina #substrato ceramico del aln #Carburo di silicio ceramico
Riassunto: Unisciti a noi per un'analisi ravvicinata del vassoio in ceramica al carburo di silicio, progettato per l'epitassia di wafer LED e i processi di incisione ICP. Scopri la sua elevata stabilità termica, resistenza meccanica e resistenza chimica in azione.
Caratteristiche del prodotto correlate:
  • Elevata stabilità termica: Mantiene le prestazioni a temperature estreme fino a 1650°C.
  • Resistenza meccanica: Elevata durezza e capacità di carico prevengono deformazioni o rotture.
  • Resistenza chimica: Resiste ad acidi forti, alcali e sostanze chimiche corrosive.
  • Conducibilità termica: Trasferimento di calore efficiente per temperature di lavorazione uniformi.
  • Bassa dilatazione termica: Garantisce la stabilità dimensionale durante i cicli termici.
  • Isolamento elettrico: Fornisce un isolamento affidabile per applicazioni elettroniche.
  • Opzioni di rivestimento CVD: Disponibili per una maggiore resistenza all'usura e protezione dagli shock termici.
  • Dimensioni e forme personalizzabili: supporta requisiti di processo specifici in vari settori.
FAQ:
  • Quali settori utilizzano comunemente il vassoio in ceramica al carburo di silicio?
    Il vassoio è ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nella produzione di ceramiche avanzate, nella lavorazione chimica, nell'elettronica, nell'aerospaziale, nell'automotive e nella fabbricazione di dispositivi medici.
  • Quali sono i principali vantaggi dell'utilizzo di questo vassoio in ceramica SiC?
    Il vassoio offre elevata purezza, inerzia chimica, proprietà meccaniche stabili in condizioni estreme, eccellente resistenza all'usura e durata leggera.
  • Il vassoio in ceramica al carburo di silicio può essere personalizzato?
    Sì, il vassoio può essere personalizzato in dimensioni e forme per soddisfare specifiche esigenze di processo, inclusi rivestimenti CVD opzionali per prestazioni migliorate.
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