Riassunto: Questo video dimostra il vassoio in ceramica al carburo di silicio (SiC Tray) in azione, mostrando la sua elevata purezza, resistenza alla corrosione e durata nel processo di fabbricazione dei wafer a semiconduttore ad alta temperatura. Gli spettatori vedranno come si comporta in applicazioni critiche come epitassia, diffusione e ossidazione.
Caratteristiche del prodotto correlate:
L'elevata stabilità termica mantiene le prestazioni a temperature estreme fino a 1650°C.
L'eccezionale resistenza meccanica previene deformazioni o rotture sotto carichi pesanti.
Resistenza chimica superiore resiste ad acidi forti, alcali e sostanze chimiche corrosive.
La conducibilità termica efficiente assicura una distribuzione uniforme del calore per una lavorazione costante.
La bassa espansione termica garantisce la stabilità dimensionale durante i cicli termici.
Isolamento elettrico affidabile per un utilizzo sicuro in applicazioni elettroniche.
Il rivestimento CVD opzionale migliora la resistenza all'usura e la protezione dagli shock termici.
Dimensioni e forme personalizzabili per soddisfare le specifiche esigenze dei processi industriali.
FAQ:
Quali settori utilizzano comunemente i vassoi in ceramica al carburo di silicio?
Questi vassoi sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella produzione di ceramiche avanzate, nella lavorazione chimica, nell'elettronica, nell'aerospaziale, nell'automotive, nella fabbricazione di dispositivi medici e nelle industrie solari.
Come si comporta il vassoio in SiC in ambienti ad alta temperatura?
Il vassoio mantiene un'eccellente stabilità termica e resistenza meccanica a temperature fino a 1650°C, rendendolo ideale per la sinterizzazione e la lavorazione dei semiconduttori.
Sono disponibili dimensioni e forme personalizzate per applicazioni specifiche?
Sì, il vassoio in ceramica al carburo di silicio può essere personalizzato in varie dimensioni e forme per soddisfare le specifiche esigenze di processo in diversi settori.