Cos'è un Wafer di Quarzo?
 

      Un Wafer di Quarzo è un substrato circolare a forma di wafer prodotto da quarzo fuso / silice fusa (SiO₂) ad alta purezza. Offre un'eccellente trasmissione ottica, stabilità termica, basso coefficiente di espansione termica, isolamento elettrico e resistenza chimica.

      I wafer di quarzo possono essere lavorati con precisione secondo le esigenze del cliente, tra cui taglio, finitura dei bordi, rettifica, lucidatura su un lato, lucidatura su entrambi i lati, foratura, fresatura e altri processi personalizzati, rendendoli adatti per applicazioni nei settori dei semiconduttori, ottico, MEMS, fotonica e ricerca.
 

Processo di Produzione
 

      Un tipico processo di produzione di wafer di quarzo include:
 

Selezione del Materiale di Quarzo ad Alta Purezza
↓
Preparazione del Blocco di Quarzo Fuso / Quarzo
↓
Taglio / Sagomatura del Wafer
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Rettifica e Controllo dello Spessore
↓
Arrotondamento / Lavorazione dei Bordi
↓
Lucidatura su un Lato o su Entrambi i Lati
↓
Pulizia
↓
Ispezione Dimensionale, dello Spessore, TTV, Planarità e Superficie
↓
Imballaggio in Camera Bianca

Caratteristiche Principali
 

1. Alta Purezza

Prodotto da quarzo / silice fusa ad alta purezza, con gradi di materiale selezionabili in base ai requisiti dell'applicazione.

2. Eccellente Stabilità Termica

Il quarzo ha un coefficiente di espansione termica molto basso, fornendo una buona stabilità dimensionale durante le fluttuazioni di temperatura e le lavorazioni ad alta temperatura.

3. Eccellente Resistenza Chimica

Adatto per molti ambienti chimici nei settori dei semiconduttori e di laboratorio.

4. Eccellente Trasmissione Ottica

La silice fusa ad alta purezza offre un'ampia trasmissione spettrale dalle lunghezze d'onda UV profonde a quelle nel vicino infrarosso, a seconda del grado del materiale.

5. Eccellente Isolamento Elettrico

Adatto come substrato isolante e supporto di processo per applicazioni elettroniche selezionate.

6. Lavorazione di Precisione

Diametro, spessore, TTV, planarità, rugosità superficiale e geometria dei bordi possono essere controllati con precisione.

7. Personalizzazione Disponibile

Dimensioni, spessore, finitura superficiale, fori, fessure e altre caratteristiche possono essere personalizzati in base alle esigenze del cliente.
 

Specifiche Chiave
 

Applicazioni

Semiconduttori

Utilizzato nella lavorazione dei semiconduttori, processi a livello di wafer, applicazioni relative alla litografia e piattaforme di ricerca o apparecchiature selezionate.

MEMS｜MEMS

Utilizzato come substrato isolante, ottico o di processo per la fabbricazione di MEMS.

Ottica e Fotonica

Utilizzato per ottiche UV, dispositivi fotonici, rivestimenti ottici, laser e sistemi ottici di precisione.

Ricerca e Sviluppo & Laboratorio

Adatto per esperimenti di ricerca, deposizione di film sottili, ricerca sui materiali e substrati di laboratorio personalizzati.

FAQ

D1. Cos'è un Wafer di Quarzo?

Un Wafer di Quarzo è un substrato circolare a forma di wafer realizzato in quarzo fuso / silice fusa ad alta purezza.

D2. Quale materiale viene utilizzato?

È realizzato principalmente in quarzo fuso / silice fusa ad alta purezza (SiO₂).

D3. Quali dimensioni sono disponibili?

Le dimensioni possono essere personalizzate. Le dimensioni comuni nel settore includono 2", 4", 6", 8" e 12".

D4. Potete fornire wafer di quarzo lucidati su entrambi i lati?

Sì. Possono essere forniti wafer di quarzo lucidati su un lato (SSP) o su entrambi i lati (DSP) in base alle esigenze del cliente.

D5. È possibile aggiungere fori o fessure?

Sì. È possibile fornire foratura, fresatura e altre lavorazioni personalizzate in base al design del prodotto.

D6. Quali informazioni sono necessarie per un preventivo?

Si consiglia di fornire:

Diametro + Spessore + Grado del Materiale + Finitura Superficiale + TTV + Planarità + Rugosità + Profilo del Bordo + Quantità + Applicazione

Per prodotti personalizzati, è fortemente raccomandato un disegno 2D o un file CAD 3D.

D7. Cosa rende il quarzo adatto per applicazioni nei semiconduttori?

Le ragioni principali includono alta purezza, basso coefficiente di espansione termica, eccellente stabilità termica, isolamento elettrico e stabilità chimica.



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