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JGS1 JGS2 Wafers Wafers di quarzo fuso di grado ottico 2-12 pollici

Name: JGS1 JGS2 Wafers Wafers di quarzo fuso di grado ottico 2-12 pollici
Brand: SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD
SKU: JGS1 JGS2 Wafer
Price: 50,002.00 USD
Availability: InStock

Marchio:	ZMSH
Numero di modello:	JGS1 JGS2 Wafer
MOQ:	25
prezzo:	by case
Tempo di consegna:	2-4 settimane
Condizioni di pagamento:	T/t

Informazioni dettagliate

Descrizione di prodotto

Informazioni dettagliate

Luogo di origine:

Cina

Certificazione:

rohs

Densità:

2.2 g/cm3

Durezza di Mohs:

6-7

Resistenza a compressione:

1100

Costante dielettrico (10 GHz):

3.74

Fattore di perdita (10 GHz):

0.0002

Punto di deformazione:

1080

Conducibilità termica (20 ℃):

1.4

Applicazioni:

Litografia a semiconduttore, comunicazione in fibra ottica

Imballaggi particolari:

Pacchetto in sala di pulizia di 100 gradi

Descrizione di prodotto

Riepilogo Wafer JGS1 JGS2

Wafer JGS1 JGS2 in quarzo fuso di grado ottico, 2-12 pollici

JGS1 JGS2 Wafers Wafers di quarzo fuso di grado ottico 2-12 pollici 0

JGS1 e JGS2 sono entrambi tipi di vetro di quarzo sintetico ad alta purezza, principalmente composto da biossido di silicio (SiO₂). La differenza fondamentale tra loro risiede nei loro processi di fabbricazione e nelle conseguenti proprietà di purezza e ottiche.

•JGS1 è prodotto utilizzando il metodo di deposizione chimica da vapore (CVD). Presenta un contenuto di impurità metalliche estremamente basso (tipicamente controllato al di sotto di 0,1 ppm) e un contenuto di idrossili (OH) molto basso (<5 ppm). Questo gli conferisce un'eccezionale trasmittanza nello spettro ultravioletto profondo (DUV) (ad esempio, oltre l'85% di trasmittanza a una lunghezza d'onda di 185 nm per un bianco di 10 mm di spessore). Inoltre, presenta bolle e striature interne minime, offrendo un'omogeneità ottica estremamente elevata.

•JGS2 è tipicamente prodotto utilizzando il metodo di fusione a fiamma idrogeno-ossigeno. Ha un contenuto di impurità metalliche relativamente più elevato (circa 1 ppm) e un contenuto di idrossili più elevato (tipicamente 30-50 ppm). Ciò si traduce in buone prestazioni dallo spettro ultravioletto (UV) al vicino infrarosso (NIR) (tipicamente >80% di trasmittanza a una lunghezza d'onda di 220 nm), ma presenta una significativa banda di assorbimento nell'intervallo 2600-2800 nm. La sua struttura interna può contenere bolle minori, strutture granulari o striature rotazionali.

In parole povere, JGS1 rappresenta la ricerca della massima trasmittanza UV e delle prestazioni ultra-elevate ("alta purezza"), mentre JGS2 offre una scelta più conveniente soddisfacendo le esigenze della maggior parte delle applicazioni UV e a luce visibile.

Caratteristiche principali del wafer di quarzo JGS1 JGS2

Per un confronto intuitivo, le caratteristiche principali di JGS1 e JGS2 sono riassunte nella tabella seguente.

Caratteristica Dimensione	JGS1 (Vetro di quarzo ottico ultravioletto lontano)	JGS2 (Vetro di quarzo ottico ultravioletto)
Gamma di trasmissione ottica	185 nm - 2500 nm	220 nm - 2500 nm
Trasmittanza @185nm/220nm	>85% @185nm (10mm di spessore)	>80% @220nm (10mm di spessore)
Assorbimento 2600-2800nm	Presenza di una forte banda di assorbimento	Presenza di una forte banda di assorbimento
Contenuto di impurità metalliche	Estremamente basso (circa 0,1 ppm)	Relativamente basso (circa 1 ppm)
Contenuto di idrossili (OH)	Molto basso (<5 ppm)	Più alto (30-50 ppm)
Difetti interni	Pochissime bolle e striature, omogeneità ottica estremamente elevata	Può contenere bolle minori, strutture granulari o striature rotazionali
Coefficiente termico dell'indice di rifrazione (dn/dT)	Relativamente più alto	Più basso (ad esempio, ~1,2×10⁻⁶/℃ @1550nm), stabilità termica superiore
Micro-rugosità superficiale	Estremamente bassa (RMS può raggiungere 0,2 nm), adatta per requisiti di lavorazione λ/20	Elevata densità di idrossili superficiali dopo il trattamento HF, che fornisce un'interfaccia ideale per il rivestimento
Processo di fabbricazione tipico	Deposizione chimica da vapore (CVD)	Fusione a fiamma idrogeno-ossigeno

Oltre alle caratteristiche principali nella tabella sopra, condividono anche alcune eccellenti qualità comuni:

•Elevata resistenza al calore: Punto di rammollimento intorno a 1683°C, può resistere a temperature di esercizio continue di 1100°C.

•Basso coefficiente di espansione termica: Circa 5,15×10⁻⁷/℃ (a 100°C), indicando una buona stabilità termica.

•Buona stabilità chimica: Resistente a vari acidi e alcali.

•Resistenza meccanica relativamente elevata: Durezza Mohs di circa 7.

Applicazioni principali del wafer di quarzo JGS1 JGS2

JGS1 JGS2 Wafers Wafers di quarzo fuso di grado ottico 2-12 pollici 1

Grazie alle loro proprietà uniche, JGS1 e JGS2 sono utilizzati in diversi settori di fascia alta.

Applicazioni JGS1 (Ricerca delle massime prestazioni UV)

Grazie alla sua trasmittanza UV estremamente elevata e alle impurità ultra-basse, JGS1 viene utilizzato principalmente in:

Litografia a semiconduttore: Un materiale chiave per i componenti ottici (ad esempio, lenti, lastre di maschera) nei sistemi di litografia ultravioletti profondi (DUV). La sua purezza influisce direttamente sulla larghezza della linea e sulla resa della produzione di chip.
Sistemi laser UV di fascia alta: Utilizzato per la produzione di finestre e lenti ottiche in laser ad eccimeri e apparecchiature di elaborazione laser UV, in grado di resistere alle radiazioni laser ad alta energia.
Rilevamento e rilevamento ottico di precisione: Utilizzato nei componenti ottici principali di sensori di monitoraggio dell'ozono, spettrometri UV e altri scenari che richiedono la trasmissione UV profonda.
Dispositivi di filtro per comunicazioni ottiche: Nei sistemi di multiplexing a divisione di lunghezza d'onda densa (DWDM), la sua perdita ultra-bassa e l'eccellente stabilità spettrale (fluttuazione della trasmittanza <0,1%/nm nella banda C) lo rendono altamente adatto per i substrati di filtri come le Arrayed Waveguide Gratings (AWG), consentendo di comprimere la spaziatura dei canali a 50 GHz.

JGS1 JGS2 Wafers Wafers di quarzo fuso di grado ottico 2-12 pollici 2

Applicazioni JGS2 (Bilanciamento delle prestazioni e dei costi)

Le buone prestazioni di JGS2 nella regione UV-NIR gli conferiscono un'ampia gamma di applicazioni:

Comunicazione in fibra ottica: Utilizzato per la produzione di connettori ottici, finestre di isolatori ottici, ecc. La sua stabilità termica superiore (dn/dT inferiore) è preziosa per gli specchi ottici che richiedono la compensazione della temperatura, con una riflettività che raggiunge fino al 99,998% a 1550 nm.
Elaborazione UV industriale: Utilizzato per alloggiamenti di lampade e finestre di osservazione in lampade a vapori di mercurio ad alta pressione e apparecchiature di sterilizzazione UV, nonché finestre ottiche UV generiche.
Componenti ottici generici: Una scelta conveniente per la produzione di elementi ottici convenzionali come lenti, prismi e specchi, comunemente presenti in strumenti ottici come microscopi e telescopi.
Altri passaggi del processo di litografia: Sebbene non venga utilizzato direttamente nelle lenti principali di litografia più avanzate, può essere utilizzato in altri passaggi o apparecchiature che richiedono la trasmissione UV in cui le massime prestazioni non sono fondamentali.

Proprietà fisiche del wafer di quarzo JGS1 JGS2

Proprietà meccaniche
Densità/g/cm³	2.2
Durezza Mohs	6-7
Resistenza alla compressione	1100
Resistenza alla trazione	50
Resistenza alla flessione	65
Resistenza alla torsione	30
Modulo di Young	7,5 * 104 GPa
Rapporto di Poisson	0,17
Proprietà elettriche
Costante dielettrica (10 GHz)	3.74
Fattore di perdita (10 GHz)	0,0002
Resistenza dielettrica (10 GHz)	3,7 * 107 V·m
Resistività (20℃)	1 * 1020 Ω·m
Resistività (1000℃)	1 * 108 Ω·m
Proprietà termiche
Punto di deformazione	1080
Punto di ricottura	1180
Punto di rammollimento	1630
Conducibilità termica (20℃)	1.4
Calore specifico (20 ℃)	670
(20–320℃)Coefficiente di espansione: 30℃–600℃	5,5 * 10-7

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Wafer di quarzo JGS1 JGS2 FAQ

1. D: Qual è la differenza tra i wafer di silice fusa JGS1 e JGS2?

R: JGS1 offre una trasmissione ultravioletta profonda (DUV) superiore grazie alle sue impurità metalliche e al contenuto di idrossili estremamente bassi, mentre JGS2 offre prestazioni convenienti per applicazioni da UV a vicino infrarosso, ma con un contenuto di OH più elevato e una significativa banda di assorbimento a 2600-2800 nm.

2. D: Quali applicazioni sono più adatte per i wafer JGS1 rispetto a JGS2?

R: JGS1 è ideale per applicazioni UV profonde come la litografia a semiconduttore e i laser ad eccimeri, mentre JGS2 è comunemente utilizzato in ottiche UV generiche, comunicazioni in fibra e lavorazione UV industriale in cui le prestazioni DUV estreme non sono critiche.

Tag: #Wafer JGS1 JGS2, #Personalizzato, #Grado ottico, #Wafer in quarzo fuso, #2-12 pollici

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