Il cilindro/il vassoio in ceramica al carburo di silicio è un apparecchio ad alte prestazioni utilizzato nei settori dei semiconduttori, dei LED, del fotovoltaico e di altri settori della produzione di precisione, utilizzato principalmente per fissare e trasportare wafer,substrati di zaffiroIl suo materiale di base è il carburo di silicio (SiC), che viene prodotto con lavorazione di precisione, ha eccellenti proprietà fisiche e chimiche,e può soddisfare le esigenze di elaborazione di alta precisione e alta stabilità.
Parametro del prodotto
| (Proprietà materiale) |
(Unità) |
(ssic) |
| (Contenuto di SiC) |
|
(Wt) % |
> 99 |
| (dimensione media del grano) |
|
micron |
4-10 |
| (Densità) |
|
kg/dm3 |
>3.14 |
| (porosità apparente) |
|
Vo1% |
< 0.5 |
| (Vickers durezza) |
HV 0.5 |
GPa |
28 |
*()
Forza flessibile* (tre punti) |
20oC |
MPa |
450 |
| (Forza di compressione) |
20oC |
MPa |
3900 |
| (Modulo elastico) |
20oC |
GPa |
420 |
| (Tresure alla frattura) |
|
MPa/m'% |
3.5 |
| (conduttività termica) |
20°oC |
W/(m*K) |
160 |
| (Resistenza) |
20°oC |
Ohm.cm |
106-108 |
(coefficiente di espansione termica) |
a(RT**...80oC) |
K-1*10-6 |
4.3 |
(Temperatura massima di funzionamento) |
|
ooC |
1700 |
Caratteristica del prodotto
1.Ultra elevata durezza e resistenza all'usura: durezza del carburo di silicio vicina al diamante, eccellente resistenza all'usura, può resistere a lunghe lavorazioni ad alta resistenza, prolungando significativamente la durata di vita.
2Performance eccellenti di gestione termica: high thermal conductivity and low thermal expansion coefficient to ensure rapid heat dissipation in high temperature environments and maintain dimensional stability to avoid deformation caused by thermal stress.
3- eccellente stabilità chimica: forte resistenza alla corrosione, in grado di resistere ad acidi, alcalini e a una varietà di solventi chimici, adatti a ambienti di processo difficili.
4. Alta piattezza e finitura superficiale: dopo la lavorazione di precisione, la piattezza superficiale è fino al livello di micron, garantendo un'alta precisione e un basso inquinamento durante la lavorazione.
Applicazione del prodotto
Nella fabbricazione di semiconduttori, il manicomio in ceramica a carburo di silicio può essere utilizzato per il taglio dei wafer, la lucidatura, la litografia e altri processi chiave per garantire un'elaborazione di alta precisione.Come piattaforma portante per la lavorazione del substrato di zaffiro nella produzione di LED, supporta il taglio, la macinatura e la crescita epitaxiale.
Inoltre, i freni ceramici a carburo di silicio sono utilizzati come vassoi in apparecchiature ad alta temperatura come CVD e PVD,utilizzando processi ad alta temperatura per resistere a ambienti estremi e mantenere la stabilitàNell'industria fotovoltaica, viene utilizzato per il taglio di wafer di silicio e la produzione di celle solari a pellicola sottile per migliorare l'efficienza e il rendimento delle lavorazioni.
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