Dettagli:
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Materiale: | Wafer di silicio | dimensione: | Personalizzato |
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Spessore: | personalizzato | Fase cristallina: | 110/111/100 |
Processo: | sputtering magnetronico/evaporazione termica/elettroplatazione, ecc.; | Struttura:: | sottostrato + strato adesivo + rivestimento; |
Applicazione: | Coltivare nanomateriali, microscopio elettronico a scansione (SEM) | ||
Evidenziare: | Wafer di silicio da 4 pollici,Wafer di silicio da 8 pollici,Wafer di silicio da 6 pollici |
Dimensione: | 2, 4, 6, 8 pollici, altri possono essere personalizzati; |
Processo: | sputtering magnetronico/evaporazione termica/elettroplatazione, ecc.; |
Struttura: | sottostrato + strato adesivo + rivestimento; |
Materiale del substrato: | Wafer di silicio, quarzo, vetro BF33, ecc. |
Tipo di pellicole metalliche: | oro Au, platino Pt, alluminio Al, rame Cu, nichel Ni, argento Ag e altre pellicole metalliche; |
Spessore della pellicola metallica: | 10nm-10um; spessore comune: 100nm, 300nm, 500nm; L'uniformità è migliore dell'1%. |
Persona di contatto: Mr. Wang
Telefono: +8615801942596