Dettagli del prodotto
Place of Origin: China
Marca: ZMSH
Model Number: N-GaAs Substrate
Termini di pagamento e spedizione
Delivery Time: 2-4 weeks
Payment Terms: T/T
Materiale: |
Arsenuro di gallio |
Dimensione: |
2 pollici |
Spessore: |
430um |
orientamento: |
Classificazione: |
Tipo: |
tipo di n |
Modalità cavità Uniformità: |
≤ 1% |
Materiale: |
Arsenuro di gallio |
Dimensione: |
2 pollici |
Spessore: |
430um |
orientamento: |
Classificazione: |
Tipo: |
tipo di n |
Modalità cavità Uniformità: |
≤ 1% |
2 pollici di substrato di arsenide di N-gallio, N-GaAs VCSEL epitaxial wafer, semiconduttore epitaxial wafer, 2 pollici di substrato di N-GaAs, GaAs single crystal wafer 2 pollici 3 pollici 4 pollici di substrati di N-GaAs,wafer a semiconduttore, N-gallio arsenide laser epitaxial wafer
Caratteristiche del substrato di N-GaAs
- utilizzare per la fabbricazione dei substrati di GaAs
- supportare quelli personalizzati con disegni artistici
- bandgap diretto, emette luce in modo efficiente, usato nei laser.
- nella gamma di lunghezza d'onda da 0,7 μm a 0,9 μm, strutture di pozzi quantistici
- utilizzando tecniche quali MOCVD o MBE, incisione, metallizzazione e confezionamento per ottenere la forma finale del dispositivo
Descrizione diSubstrato di N-GaAs
VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) epitaxial wafers based on N-GaAs (n-type gallium arsenide) substrates are a key optoelectronic material widely used in the fields of lasers and optical communications.
Il substrato N-GaAs è composto da gallio (Ga) e arsenico (As) e utilizza la tecnologia di doping di tipo n per aumentare la concentrazione di elettroni liberi,migliorando così la conduttività e la mobilità degli elettroni.
Questo materiale ha una larghezza di banda di energia di circa 1,42 eV, che è adatta per l'emissione laser e ha ottime proprietà optoelettroniche.
La struttura del VCSEL di solito include più pozzi quantistici e strati riflettenti, che vengono coltivati sul substrato N-GaAs per formare una cavità laser efficiente.
Lo strato di pozzo quantistico è responsabile dell'eccitazione e dell'emissione dei laser, mentre il riflettore migliora l'efficienza di uscita del laser.
L'eccellente stabilità termica e le proprietà elettriche del substrato N-GaAs garantiscono le elevate prestazioni e la stabilità del VCSEL, rendendolo in grado di funzionare bene nella trasmissione di dati ad alta velocità.
I VCSEL basati su substrati N-GaAs sono ampiamente utilizzati in settori come le comunicazioni in fibra ottica, le stampanti laser e i sensori.
La sua elevata efficienza e il suo basso consumo energetico la rendono una parte importante della moderna tecnologia delle comunicazioni.
Con la crescente domanda di trasmissione di dati ad alta velocità, la tecnologia VCSEL basata sul substrato N-GaAs sta gradualmente diventando una direzione importante per lo sviluppo dell'optoelettronica,promuovere il progresso e l'innovazione di varie applicazioni.
Dettagli del substrato di N-GaAs
Parametro | VCSEL |
tasso | 25G/50G |
lunghezza d'onda | 850 nm |
dimensione | 4 pollici / 6 pollici |
Tolleranza in modalità cavità | Entro ± 3% |
Modalità cavità Uniformità | ≤ 1% |
Tolleranza al doping | Entro il ±30% |
Livello di doping Uniformità | ≤ 10% |
PL Uniformità della lunghezza d'onda | Std.Dev migliore di 2nm @ interno 140mm |
Uniformità dello spessore | Migliore di ± 3% @interno 140 mm |
Frazione mole x Tolleranza | Entro ± 0.03 |
Frazione mole x Uniformità | ≤ 0.03 |
Ulteriori campioni di N-GaAs Substrato
* Se avete i requisiti personalizzati, si prega di contattarci.
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Domande frequenti
1. D: Che dire del costo dei substrati N-GaAs rispetto ad altriSottostati?
A:Substrati di N-GaAstendono ad essere più costosi del silicioSottostatie alcuni altri materiali semiconduttori.
2D: Che dire delle prospettive future diSubstrati di N-GaAs?
A: Le prospettive future diSubstrati di N-GaAssono molto promettenti.
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