Piastra ceramica a scalinata di carburo di silicio (SiC) su misura per apparecchiature a semiconduttore

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Questo componente in ceramica a carburo di silicio personalizzato presenta una geometria di piastra circolare con un bordo a gradini lavorato con precisione.La struttura a gradini consente un posizionamento assiale accurato e un'integrazione stabile nelle camere di processo dei semiconduttori e nei sistemi termici avanzati.

Prodotto in ceramica SiC di alta purezza, il componente offre un'eccellente resistenza alle alte temperature, all'esposizione al plasma, alla corrosione chimica e allo shock termico.La superficie è lasciata intenzionalmente senza lucidare, in quanto il componente è progettato per un uso funzionale e strutturale piuttosto che per applicazioni ottiche o elettroniche.

Gli usi tipici comprendono coperture di camera, tappi di rivestimento, piastre di supporto,e componenti strutturali protettivi nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori in cui la stabilità dimensionale a lungo termine e l'affidabilità dei materiali sono fondamentali.

Caratteristiche chiave

• Materiale ceramico al carburo di silicio di alta purezza

• Progettazione a gradini per posizionamento e montaggio precisi

• Superficie macinata non lucidata ottimizzata per le prestazioni funzionali

• Eccellente stabilità termica e bassa deformazione termica

• Superiore resistenza al plasma, alle sostanze chimiche e ai gas corrosivi

• Alta resistenza meccanica e rigidità

• Adatti per ambienti a vuoto e a processi puliti

• Dimensioni e geometrie personalizzate disponibili

Parametri tecnici (tipici)

Nota: i parametri possono variare a seconda del grado di SiC, del metodo di formazione e dei requisiti di lavorazione.

Applicazioni tipiche

• Camere di processo a semiconduttori (CVD, PECVD, LPCVD, sistemi di incisione)

• Cappelle e tappi per camere

• Piastre di supporto strutturale in apparecchiature ad alta temperatura

• Componenti in ceramica di plasma o adiacenti al plasma

• Sistemi avanzati di elaborazione a vuoto

• Parti strutturali in ceramica su misura per apparecchiature per semiconduttori e optoelettroniche

Capacità di personalizzazione

• Diametro esterno e spessore personalizzati

• Altezza e larghezza dei gradini personalizzati

• Smallatura o lucidatura fine facoltativa su richiesta

• Fabbricazione a partire da pezzi staccati

• Sostenuta la produzione di piccoli lotti, prototipi e in volume

Domande frequenti

Q1: Qual è la funzione principale di questa piastra ceramica a gradini di SiC?

A:
Questo componente è utilizzato principalmente come parte ceramica strutturale o funzionale, come un coperchio della camera, una piastra di supporto o un tappo di rivestimento, in apparecchiature per semiconduttori e processi ad alta temperatura.La progettazione a gradini consente un posizionamento preciso e un montaggio stabile all'interno delle strutture dell'attrezzatura.

D2: Perché la superficie non è lucidata?

A:
La superficie non lucidata è intenzionale e non è utilizzata per funzioni ottiche o elettroniche, ma per scopi strutturali e di protezione.Le superfici di terra sono sufficienti e spesso preferite per una migliore stabilità meccanica e un costo di produzione ridotto nelle applicazioni in camera di processo.

D3: Questo componente è adatto per gli ambienti plasmatici?

A:
Il carburo di silicio offre un'eccellente resistenza all'erosione plasmatica e alla corrosione chimica, rendendolo adatto per applicazioni a fronte o adiacenti al plasma nelle camere di processo dei semiconduttori.

D4: Questa parte può essere utilizzata nei sistemi a vuoto?

A:
Il materiale e il processo di produzione sono compatibili con gli ambienti a vuoto.La ceramica SiC presenta un basso rilascio di gas e mantiene la stabilità dimensionale in condizioni di vuoto e ciclo termico.

Q5: Le dimensioni e la geometria del passo possono essere personalizzate?

A:
Il diametro esterno, lo spessore, l'altezza del gradino, la larghezza del gradino e le caratteristiche dei bordi possono essere personalizzati in base ai disegni del cliente o alle esigenze dell'applicazione.

D6: Offrite versioni lucide o rivestite?

A:
Su richiesta è possibile fornire finitura superficiale opzionale, compresa la levigatura o la lucidatura, e possono essere disponibili anche rivestimenti a seconda dell'applicazione e dell'ambiente di funzionamento.

D7: Quali industrie utilizzano tipicamente questo tipo di componente?

A:
Questo tipo di componente ceramico SiC è comunemente utilizzato nella produzione di semiconduttori, optoelettronica, sistemi a vuoto avanzati e attrezzature di elaborazione industriale ad alta temperatura.

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