| Marchio: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Tempo di consegna: | 2-4 settimane |
| Condizioni di pagamento: | T/T |
Il vassoio in ceramica a carburo di silicio (SiC) è un vassoio ad alte prestazioni progettato per supportare wafer a semiconduttori e altri materiali in ambienti ad alta temperatura e chimicamente aggressivi.Nota per la sua eccellente resistenza alla corrosione, elevata stabilità termica e resistenza meccanica, il vassoio SiC garantisce prestazioni costanti e un supporto affidabile per processi critici come epitaxia, diffusione, ossidazione,e sinterizzazione ad alta temperatura.
I vassoi SiC sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nella produzione di ceramiche avanzate, nella lavorazione chimica, nell'elettronica, nei componenti ottici, nell'aerospaziale, nell'automotive e nella fabbricazione di dispositivi medici.
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| Immobili | Valore |
|---|---|
| Materiale | Carburo di silicio di alta purezza (SiC) |
| Purezza | 990,9% |
| Colore | Nero |
| Densità | 3.0 ∙ 3,2 g/cm3 |
| Rapporto di Poisson | 0.15 ¢0.21 |
| Durezza della frattura | 2°4 MPa·m^1/2 |
| Durezza Vickers | 21° 28° GPa |
| Forza flessibile | 400 ∼ 600 MPa |
| Forza di compressione | 2200 MPa |
| Modulo elastico | 400-450 GPa |
| Espansione termica (20-1000°C) | 4,6 × 10^-6/K |
| Conduttività termica | 100 ‰ 230 W/m·K |
| Temperatura massima di funzionamento | 1300 ∼ 1650°C |
| Resistenza elettrica | 1×4×10^5 Ω·cm |
| Apparizione | Tavolo nero liscio, uniforme e a bassa porosità |
Metodi di produzione:Sinterizzazione senza pressione, pressatura a caldo, rivestimento CVD, legato a reazione.
Alta stabilità termica: mantiene le prestazioni a temperature estreme, adatta per la sinterizzazione e la lavorazione dei semiconduttori.
Resistenza meccanica: l'elevata durezza e la capacità portante impediscono deformazioni o crepe.
Resistenza alle sostanze chimiche: resiste agli acidi forti, alle alcaline e alle sostanze chimiche corrosive.
Conduttività termica: trasferimento di calore efficiente a temperature di lavorazione uniformi.
Bassa espansione termica: garantisce la stabilità dimensionale sotto il ciclo termico.
Isolamento elettrico: fornisce un isolamento affidabile per applicazioni elettroniche.
Opzioni di rivestimento CVD: disponibile per una maggiore resistenza all'usura e protezione da urti termici.
Dimensioni e forme personalizzabili: supporta requisiti specifici del processo.
Fabbricazione di semiconduttori:Supporta i chip LED e wafer nei processi di epitaxia, diffusione e ossidazione.
Sinterizzazione ad alta temperatura:Fornisce un supporto stabile per ceramiche e metalli durante la sinterizzazione.
Trasformazione chimica:Gestisce in modo sicuro sostanze chimiche aggressive in ambienti industriali o di laboratorio.
Produzione elettronica e ottica:Supporta substrati e componenti ottici che richiedono un controllo termico preciso.
Aerospaziale e Automotive:Scaffali leggeri e resistenti adatti a componenti che necessitano di gestione termica e resistenza alla corrosione.
Produzione di dispositivi medici:Adatto per vassoi resistenti alle sostanze chimiche e sterilizzabili.
Produzione di batterie e industria solare:Supporta processi ad alta temperatura per batterie agli ioni di litio e celle fotovoltaiche.
Laboratorio e ricerca e sviluppo:Ideale per esperimenti che comportano calore elevato o materiali corrosivi.
Metallurgia della polvere e industria del vetro/ceramica:Garantisce un riscaldamento uniforme e un controllo affidabile del processo.
L'alta purezza e l'inerzia chimica riducono il rischio di contaminazione.
Proprietà meccaniche stabili in condizioni estreme.
Eccellente resistenza all'usura per un uso a lungo termine.
Leggera ma resistente per una facile manipolazione.
Versatile per applicazioni industriali multiple.
Tutti i vassoi in ceramica a carburo di silicio sono accuratamente confezionati per ridurre al minimo i danni durante lo stoccaggio e il trasporto, garantendo che i prodotti arrivano in condizioni impeccabili.
Domande frequenti
1 I vassoi in ceramica SiC possono resistere a temperature estreme durante la produzione di semiconduttori?
Sì, i vassoi in ceramica SiC sono progettati per resistere a temperature di funzionamento continue fino a 1650°C, rendendoli ideali per processi ad alta temperatura come epitaxia, diffusione,e ossidazione nella produzione di semiconduttori e LED.
2 Quanto sono resistenti i vassoi a SiC alla corrosione e all'esposizione chimica?
I vassoi in SiC offrono un'eccezionale resistenza chimica agli acidi forti, alle alcaline, al plasma e ad altri ambienti corrosivi.recipienti di reazione chimica, e altri ambienti industriali difficili in cui l'integrità dei materiali è fondamentale.
3 I vassoi in ceramica SiC sono personalizzabili in termini di dimensioni, forma e rivestimento?
Sì, i vassoi in ceramica SiC possono essere personalizzati per soddisfare requisiti specifici, tra cui dimensioni, spessore e finitura superficiale.Offriamo rivestimenti CVD per una maggiore resistenza all'usura e una migliore resistenza allo shock termico, a seconda delle esigenze della domanda.
I vassoi ceramici a carburo di silicio ZMSH combinano eccellenza termica, chimica e meccanica per fornire una piattaforma affidabile per wafer a semiconduttori e processi di produzione avanzati.La loro elevata precisione, resistenza alla corrosione e stabilità termica li rendono componenti essenziali nelle moderne industrie ad alta tecnologia.
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