Substrato di quarzo per wafer JGS2 da 6 pollici DSP 1mmt Silice fusa per finestra ad alte prestazioni

6 pollici JGS2 Wafer DSP 1 mmt Display del prodotto

Wafer di quarzo JGS2 da 6 pollici

Il substrato di wafer JGS2 DSP (Double-Side Polished) da 6 pollici con uno spessore di 1 mm è un materiale base di alta precisione fabbricato da silice fuso di grado UV (JGS2).Il suo valore fondamentale risiede nell'eccezionale trasmittanza ottica di JGS2 in un ampio intervallo spettrale da 220 nm a 2500 nm (particolarmente adatto per le lunghezze d'onda da UV a infrarosso vicino)Inoltre, a causa del suo coefficiente di espansione termica estremamente basso (circa 5,8×10−7/K) e dell'elevata durezza di Mohs (circa grado 7),mantiene una eccezionale stabilità dimensionale e resistenza fisica in condizioni difficili come alte temperature e ambienti corrosiviQuesto substrato subisce una lucidatura a doppio lato, ottenendo una rugosità superficiale su scala nanometrica.substrati di filtri ottici ad alte prestazioni, dispositivi di comunicazione fotonica (ad esempio, chip di filtro DWDM) e sensori MEMS, che forniscono una base materiale affidabile per sistemi ottici di precisione.

Parametri chiave del substrato di quarzo JGS2 da 6 pollici

Caratteristiche del materiale: JGS2 Silice fuso

JGS2 è un vetro di quarzo ottico UV prodotto tramite fusione di fiamma idrogeno-ossigeno.

• Performance ottica eccellente: JGS2 presenta un' elevata trasmittanza su un' ampia gamma spettrale da 220 nm a 2500 nm,Il che significa che permette alla luce dall'ultravioletto all'infrarosso vicino di passare efficacementeQuesto lo rende un materiale ideale per la produzione di finestre ottiche, substrati di lenti e altri componenti.
• Eccezionale stabilità termica: il suo coefficiente di espansione termica estremamente basso gli consente di resistere a drastici variazioni di temperatura senza crepare o deformarsi,garantire la stabilità dimensionale in ambienti di processo ad alta temperatura.
• Buona resistenza meccanica e inerzia chimica: l'elevata durezza e il modulo di Young forniscono una resistenza meccanica sufficiente.mentre la sua resistenza a varie sostanze chimiche (ad eccezione dell'acido fluoridrico e dell'acido fosforico caldo) soddisfa le esigenze di ambienti industriali rigorosi.

6 pollici JGS2 Wafer Scenari di applicazione primaria

1. Sulla base delle proprietà di cui sopra, questo prodotto è principalmente utilizzato in:
2. Processi per semiconduttori: utilizzato come substrato per maschere o come wafer portante in processi quali la fotolitografia e l'incisione, dove la sua elevata purezza e la sua stabilità termica sono cruciali.
3. Fabbricazione di componenti ottici: funge da materiale base per finestre, prismi e filtri ad alte prestazioni, particolarmente adatto per sistemi ottici che richiedono trasmissione UV.
   Dispositivi di comunicazione fotonica: utilizzati nella fabbricazione di substrati filtranti per sistemi DWDM (Densed Wavelength Division Multiplexing), in cui l'omogeneità ottica e la bassa perdita sono fondamentali.

Domande e risposte su Wafer JGS2 da 6 pollici

Q1: Quali sono i principali vantaggi dell'utilizzo di un substrato di wafer JGS2 DSP da 6 pollici con uno spessore di 1 mm per applicazioni ottiche UV?
A1: Il suo vantaggio principale è la sua eccezionale trasmissibilità UV (fino a 220 nm) e il suo coefficiente di espansione termica estremamente basso (~ 5,5 × 10−7 °C),assicurando una minima distorsione termica sotto esposizione ad UV ad alta potenza e prestazioni stabili in ambienti esigenti come la litografia a semiconduttori o i sistemi laser.

D2: In che modo lo spessore di 1 mm contribuisce alle prestazioni del substrato nei sistemi ad alta precisione?
A2: lo spessore di 1 mm fornisce un equilibrio ottimale tra resistenza meccanica (resistenza alle sollecitazioni di movimentazione) e piattezza ottica;che è fondamentale per mantenere la coerenza del fascio e ridurre la distorsione del fronte d'onda negli strumenti di ottica di precisione e di fotolitografia.

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- Sì.