Piastre di vetro di quarzo ad alta purezza personalizzate JGS1/JGS2/JGS3 Alta trasmittanza

Piastre di vetro di quarzo ad alta purezza personalizzate JGS1/JGS2/JGS3 Alta trasmittanza

La silice fusa è un materiale amorfo formato dalla fusione di biossido di silicio di alta purezza ad alte temperature seguita da un raffreddamento rapido.e inerzia chimicaSulla base dei livelli di purezza e della trasmissione ultravioletta, è classificato in tre gradi:JGS1, JGS2 e JGS3.

Classificazione per prestazioni ottiche:

1. JGS1 (silica fusa ottica ultravioletta lontana)

• Prodotto utilizzando SiCl4 come materia prima, fuso in una fiamma di idrogeno-ossigeno ad alta purezza. Contiene un elevato contenuto di idrossile (≈2000 ppm) e dimostra una straordinaria trasmissibilità ultravioletta.in particolare nella regione delle onde UV corte. La trasmittanza supera il 90% a 185 nm. La silice fusa sintetica presenta un forte picco di assorbimento a 2730 nm senza struttura granulare. È un materiale ottico ideale per la gamma 185 ∼ 2500 nm.

2. JGS2 (silica fusa ottica ultravioletta)

• Prodotto da materia prima cristallina attraverso raffinazione del gas. Contiene decine di impurezze metalliche in ppm. Dispone di un picco di assorbimento a 2730 nm (contenuto di idrossile:100~200 ppm) con striature e struttura granulareÈ un materiale adatto per la gamma di lunghezza d'onda 220 ∼ 2500 nm.

3. JGS3 (silica fusa ad infrarossi ottica)

• Prodotto da materie prime di sabbia di quarzo cristallina o di alta purezza utilizzando un forno a pressione a vuoto (metodo di fusione elettrica). Contiene decine di impurezze metalliche in ppm. Caratterizzato da bolle minime,Struttura granulare fine, striature e contenuto di OH trascurabile. Offre una elevata trasmissione a infrarossi (>85%).

Vetro al quarzo JGS1/JGS2/JGS3 Principali campi di applicazione

1. Sistemi ottici di fascia alta

• JGS1: Lenti per macchine di litografia DUV, specchi per telescopi spaziali, componenti di collimazione laser UV.
• JGS2: Dispositivi ottici di consumo quali lenti per fotocamere, prismi proiettori, obiettivi per microscopi.
• JGS3: finestre per apparecchi di imaging termico a infrarossi, specchi di messa a fuoco per laser a CO2.

2. Fabbricazione di semiconduttori

• Sottostrati di foto-maschera: JGS1 è un materiale di base per i substrati di foto-maschera per litografia EUV a causa del suo coefficiente di espansione termica estremamente basso (5,5×10−7/°C) e dell'elevata trasmissibilità UV.
• Trasportatori per la lavorazione di wafer: JGS2 è utilizzato per componenti ad alta temperatura, come i tubi di forno a diffusione a semiconduttori e i supporti per barche.

3Tecnologia laser

• Sistemi laser ad alta energia: JGS1 è utilizzato per la fabbricazione di specchi a risonanza per laser Nd:YAG (soglia di danno indotto dal laser: 15 J/cm2).
• Trasmissione laser a infrarossi: JGS3 è adatto per cavi di trasmissione laser a CO2 a lunghezza d'onda di 10,6 μm.

4. Aerospaziale

• Finestre di veicoli spaziali: JGS1 è utilizzato per finestre resistenti alle radiazioni nei sensori ottici da remoto satellitari (resiste alle radiazioni spaziali).
• Domi di missili: JGS3 è applicato nelle teste di ricerca infrarossi dei veicoli ipersonici a causa della sua eccellente resistenza allo shock termico (ΔT > 1000°C).

5Illuminazione speciale.

• Lampade UV: lampade UV ad alta purezza realizzate con JGS1 sono utilizzate per il trattamento dell'acqua e la sterilizzazione medica.
• Casse per lampade a mercurio: JGS2 è utilizzato per la fabbricazione di casse trasparenti per lampade a mercurio ad alta pressione, resistenti agli urti ad alta temperatura.

5- attrezzature per la ricerca scientifica

• Strutture di radiazione sincrotron: JGS1 è utilizzato per finestre a linea di raggio e componenti monocromatori.
• Detettori di particelle: JGS2 funge da mezzo trasparente per i radiatori Cherenkov.

Caratteristiche di lavorazione del vetro di quarzo JGS1/JGS2/JGS3

• Precisione di ricottura:Il ricottamento a gradiente in più fasi (fino a 1300°C) elimina lo stress interno e previene la distorsione ottica.
• Trattamento superficiale:La lucidatura magnetoreologica (MRF) consente di ottenere una rugosità superficiale di Ra < 0,5 nm (adatta per la litografia EUV).
• Tecnologia di rivestimento:I rivestimenti applicabili comprendono rivestimenti antiriflesso (AR), ad alta riflessione (HR) e resistenti alla corrosione (ad esempio fluoruro di magnesio).

Proprietà ottiche del vetro di quarzo JGS1/JGS2/JGS3

Specificativi standard del vetro di quarzo JGS1/JGS2/JGS3

- Sì.

D1: Quali sono le principali differenze tra la silice fusa JGS1, JGS2 e JGS3?
A1: JGS1 offre >90% di trasmissione UV (185nm) con 2000ppm di OH, JGS2 fornisce 220-2500nm di trasmissione con 200ppm di OH, mentre JGS3 offre >85% di trasmissione IR con un contenuto di OH vicino allo zero.

Q2: Quale grado di silice fuso è migliore per le applicazioni laser UV?
A2: JGS1 è ideale per i laser UV a causa della sua trasmittanza superiore al 90% a 185nm e della soglia di danno laser di 15J/cm2.

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