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Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori

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Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori

High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing
High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing High Purity SiC End Effector for Wafer Handling Corrosion Heat Resistant Fork for Semiconductor Processing

Grande immagine :  Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 5
Prezzo: 100
Imballaggi particolari: Cuscino di schiuma + scatola di cartone
Tempi di consegna: 3-4 settimana
Termini di pagamento: t/t
Capacità di alimentazione: mese 1000per
Descrizione di prodotto dettagliata
Resistenza superficiale: 104~109Ω Dimensione: Personalizzabile (per wafer da 4 ′′12")
Purezza: 990,9% Densità: D=8,91 ((g/cm3)
Diametro: 25-500 mm Applicazione: Prova del pacchetto, smistamento dei chip
Forza meccanica: Resistenza a flessione > 400 MPa Resistenza: 0.1~60 ohm.cm
resistenza termica: ℃ 1600 Resistenza chimica: Resistente ad acidi, basi e plasma
Evidenziare:

Effettore finale in SiC per la lavorazione dei semiconduttori

,

Effettore finale in SiC per la movimentazione di wafer

,

Effettore finale in SiC resistente alla corrosione

 

Descrizione del prodotto:

 

Il nostroEffettori terminali SiCsono progettati per la manipolazione di wafer ultra-pulite in ambienti di produzione di semiconduttori.carburo di silicio di alta purezza, queste forchette fornisconoresistenza termica eccezionale,stabilità chimica, eresistenza meccanicaRendili ideali per l'uso incamere di processo rigidecome l'incisione, la deposizione e i sistemi di trasporto ad alta temperatura.

Il corpo di SiC denso e a grana fine garantiscebassa generazione di particelle,eccellente stabilità dimensionale, e compatibilità conWafer da 200 mm a 300 mmDisegni personalizzati sono disponibili per specifici bracci robotici e vettori di wafer.

 


 

Caratteristiche chiave:

  • Materiale: Carburo di silicio (SiC) di alta purezza

 

  • Eccellente resistenza termica (fino a 1600°C)

 

  • Resistenza alla corrosione chimica e plasmatica superiore

 

  • Alta resistenza meccanica e rigidità

 

  • Basso livello di produzione di particelle per l'uso in camera bianca

 

  • Disponibile per la movimentazione di wafer da 4", 6", 8" e 12"

 

  • Forme e slot personalizzati per la compatibilità con i robot

 


 

 

Specificativi del prodotto:

 

Parametro Specificità
Materiale SiC di alta purezza (≥99%)
Dimensione Personalizzabile (per wafer da 4 ′′12")
Finitura superficiale Polito o mattato secondo esigenze
Resistenza termica Fino a 1600°C
Resistenza chimica Resistente agli acidi, alle basi e al plasma
Forza meccanica Resistenza alla flessione > 400 MPa
Grado della stanza pulita Adatto per la classe 1?? 100

 

 

Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 0Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 1Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 2Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 3Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 4Effettore finale in SiC ad alta purezza per la movimentazione di wafer - Forcella resistente alla corrosione e al calore per la lavorazione dei semiconduttori 5

 

 

 

 

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Dettagli di contatto
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Persona di contatto: Mr. Wang

Telefono: +8615801942596

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