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Dettagli:
Termini di pagamento e spedizione:
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Materiale: | Silice fuso | Spessore: | 8.2 mm, 8.3 mm |
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Diametro/dimensione: | Personalizzabile | Distanza di trasmissione: | 190 nm ~ 2500 nm |
Parallelismo: | < 3 arcmin | Opzioni di rivestimento: | Rivestimento AR, rivestimento riflettente, ecc. |
Evidenziare: | 8.3mm JGS1 JGS2,8.2 mm JGS1 JGS2,JGS2 Finestre ottiche a silice fuso |
Finestre ottiche in silice fusa spessore 8,2 mm e 8,3 mm JGS1 JGS2
ZMSH è specializzata nella fornitura di finestre ottiche in silice fusa di alta precisione, prodotte con materiale di quarzo JGS1/JGS2 ad alta purezza, garantendo prestazioni di trasmissione eccezionali nello spettro dall'ultravioletto al vicino infrarosso (190nm–2500nm). Le nostre finestre in quarzo presentano un rigoroso controllo dello spessore (8,2 mm e 8,3 mm, tolleranza ±0,1 mm), rendendole ideali per sistemi ottici ad alta precisione. Personalizzabili in dimensioni, rivestimenti e trattamenti superficiali, soddisfano le esigenze rigorose nella tecnologia laser, nell'analisi spettroscopica, nella fabbricazione di semiconduttori e nella ricerca scientifica. Con tecnologie di lavorazione avanzate e un rigoroso sistema di gestione della qualità, ogni finestra garantisce un'elevata omogeneità ottica, un basso coefficiente di espansione termica e una resistenza superiore alle alte temperature, garantendo prestazioni affidabili in ambienti estremi.
Parametro | Finestra da 8,2 mm | Finestra da 8,3 mm |
Materiale | Silice fusa (JGS1/JGS2) | Silice fusa (JGS1/JGS2) |
Tolleranza di spessore | ±0,1 mm | ±0,1 mm |
Trasmittanza | >93% (200nm–2500nm) | >93% (200nm–2500nm) |
Qualità della superficie | 60/40 (aggiornabile a 20/10) | 60/40 (aggiornabile a 20/10) |
Parallelismo | <3 arcmin | <3 arcmin |
Opzioni di rivestimento | Rivestimenti AR UV/Vis/NIR | Rivestimenti AR UV/Vis/NIR |
Applicazioni tipiche | Laser ad alta potenza, spettrometri | Litografia a semiconduttore, finestre di visualizzazione sottovuoto |
(Nota: parametri aggiuntivi come diametro, smussatura, ecc., sono personalizzabili su richiesta.)
1. Alta trasmittanza
· Trasmissione a banda larga da UV a NIR (190nm–2500nm), particolarmente ottimizzata per sistemi ottici ultravioletti profondi (DUV) e infrarossi.
· Il basso tasso di assorbimento riduce al minimo la perdita di energia, migliorando l'efficienza del sistema.
2. Eccezionale stabilità termica
· Coefficiente di espansione termica ultra-basso (5,5×10⁻⁷/°C) e resistenza alle alte temperature (~1200°C), adatto per laser ad alta potenza e condizioni termiche estreme.
· L'eccellente resistenza agli shock termici resiste a rapide fluttuazioni di temperatura senza crepe.
3. Inerzia chimica superiore
· Resistente ad acidi forti, alcali e solventi organici, ideale per ambienti corrosivi.
· Trattamenti superficiali opzionali (ad es. rivestimenti AR, strati idrofobici) per applicazioni specializzate.
4. Alta soglia di danno laser
· Compatibile con sistemi laser ad alta energia (ad es. laser CO₂, laser UV) grazie all'eccezionale resistenza ai danni indotti dal laser.
· Rivestimenti ottici personalizzati (ad es. AR, HR) disponibili per ottimizzare la trasmissione/riflessione a lunghezze d'onda specifiche.
5. Prestazioni ottiche di precisione
· Planarità della superficie fino a λ/4 (@632,8 nm) e parallelismo <3 arcmin, soddisfacendo i rigorosi requisiti di allineamento ottico.
· Il basso contenuto di bolle/impurità garantisce l'uniformità ottica, riducendo al minimo la dispersione e la distorsione del fronte d'onda.
1. Sistemi ottici laser
· Finestre per cavità laser, ottiche protettive per taglio/saldatura laser ad alta potenza e dispositivi laser medicali.
· Preferito per i laser UV (ad es. laser a eccimeri) grazie all'eccellente durata ai raggi UV.
2. Strumentazione spettroscopica
· Finestre di trasmissione per spettrofotometri UV-Vis e spettrometri FTIR, garantendo elevati rapporti segnale-rumore.
· Applicazioni ultraviolette sottovuoto (VUV), incluso il rilevamento della radiazione di sincrotrone.
3. Semiconduttori e litografia
· Componenti ottici per macchine litografiche e sistemi di ispezione di wafer, resistenti alle radiazioni DUV e alla deformazione termica.
· Fondamentale per la protezione della maschera e l'ottica di proiezione nei nodi avanzati.
4. Ricerca scientifica e fisica delle alte energie
· Finestre di osservazione per rivelatori di particelle e strutture di sincrotrone, che combinano la resistenza alle radiazioni con l'elevata trasparenza.
· Finestre di visualizzazione sigillate per ambienti sottovuoto/alta pressione (ad es. microscopi elettronici, esperimenti al plasma).
5. Dispositivi aerospaziali e medicali
· Finestre protettive per sensori ottici aerospaziali, che sopportano temperature estreme e radiazioni cosmiche.
· Componenti biocompatibili per endoscopi e sistemi di terapia laser medicale.
ZMSH offre servizi di personalizzazione completi per prismi in silice fusa, inclusi prismi ad angolo retto, pentagonali e a cuneo, su misura per l'allineamento laser, la deviazione del fascio e le applicazioni spettroscopiche. Utilizzando materiale JGS1/JGS2 ad alta purezza, i nostri prismi offrono un basso assorbimento e un'elevata trasmissione (190nm–2500nm), con lavorazione angolare di precisione (tolleranza ±30 arcsec) e lucidatura superficiale λ/10. I clienti possono specificare dimensioni, angoli e rivestimenti (ad es. UV AR, IR a banda larga). Supportiamo la prototipazione rapida, la produzione in lotti e l'imballaggio conforme a ISO o resistente agli urti per garantire una consegna sicura. Dotati di lavorazione CNC e test con interferometro Zygo, garantiamo tempi di consegna rapidi e un rigoroso controllo qualità per soddisfare gli standard esigenti dei settori della ricerca, industriale e della difesa.
1. D: Qual è l'intervallo di trasmissione delle finestre in silice fusa da 8,2 mm/8,3 mm?
R: Le nostre finestre in silice fusa da 8,2 mm/8,3 mm offrono un'eccellente trasmissione da 190 nm a 2500 nm.
2. D: Quali sono le principali applicazioni delle finestre in quarzo da 8,3 mm di spessore?
R: Le finestre in quarzo da 8,3 mm sono utilizzate principalmente in sistemi laser, spettroscopia UV e apparecchiature a semiconduttore.
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Persona di contatto: Mr. Wang
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