Dettagli del prodotto
Place of Origin: CHINA
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Model Number: 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch Quartz Wafers
Termini di pagamento e spedizione
Minimum Order Quantity: 10
Prezzo: by case
Packaging Details: Package in 100-grade cleaning room
Delivery Time: 5-8weeks
Payment Terms: T/T
Supply Ability: 1000pcs per month
Size: |
2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch |
LTV: |
< 0.5µm |
TTV: |
< 2µm/3µm/5µm |
Surface Type: |
SSP/DSP |
Surface Roughness: |
≤1nm |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices |
Size: |
2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch |
LTV: |
< 0.5µm |
TTV: |
< 2µm/3µm/5µm |
Surface Type: |
SSP/DSP |
Surface Roughness: |
≤1nm |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices |
I wafer di quarzo sono substrati di precisione realizzati con materiali di quarzo sintetico ad alta purezza, ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell'elettronica, nell'ottica e nei sistemi microelettromeccanici (MEMS). ZMSH è specializzata nella ricerca e sviluppo e nella produzione di materiali semiconduttori al quarzo, offrendo prodotti come wafer di quarzo, finestre ottiche di quarzo, tubi di quarzo e barche di quarzo, con i wafer di quarzo come linea di prodotti principale. Forniamo soluzioni personalizzabili per wafer da 2 a 12 pollici, soddisfacendo requisiti specifici in termini di dimensioni, spessore e trattamenti superficiali (lucidatura, rivestimento, ecc.).
ZMSH offre disponibilità a magazzino e servizi di lavorazione personalizzati, garantendo alta precisione (ad esempio, TTV ≤5μm), planarità superiore (Ra ≤1 nm) ed eccellente resistenza alle alte temperature (punto di rammollimento fino a 1730°C). I nostri prodotti sono ampiamente applicati nella produzione di semiconduttori, nella tecnologia dei fotomaschere, nei sensori e nei sistemi laser.
Dimensione | Pollici | 2 pollici | 3 pollici | 4 pollici | 6 pollici | 8 pollici | 12 pollici |
Diametro |
mm | 50,8 | 76,2 | 100 | 150 | 200 | 300 |
Tolleranza (±) | mm | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 |
Spessore | µm | 100 e oltre | 100 e oltre | 100 e oltre | 300 e oltre | 400 e oltre | 500 e oltre |
Piano di riferimento primario | mm | 32,5 | 32,5 | 32,5 | 57,5 | Semi-intaglio | Semi-intaglio |
LTV (5mmx5mm) | µm | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 |
TTV | µm | < 2 | < 2 | < 2 | < 3 | <3 | <5 |
Curvatura | µm | ±20 | ±20 | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 |
Deformazione | µm | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 |
PLTV(5mm*5mm)<0.4um | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
Arrotondamento dei bordi | mm | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. |
Tipo di superficie | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | |
Rugosità superficiale | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
1. Materiale ad alta purezza
: Quarzo sintetico (ad esempio, Suprasil o Corning 7980) con purezza SiO₂ ≥99,99%, riducendo al minimo le impurità nei processi dei semiconduttori.2. Stabilità termica
: Basso coefficiente di espansione termica (5,5×10⁻⁷/°C), in grado di resistere a temperature superiori a 1000°C per ambienti estremi.3. Prestazioni ottiche
: Alta trasmittanza da UV a IR (ad esempio, >90% nell'UV profondo), ideale per applicazioni di litografia e laser.4. Precisione della superficie
: Lucidatura di ultra-precisione con rugosità superficiale (Ra) ≤0,5 nm e variazione dello spessore totale (TTV) ≤5μm.5. Gamma di dimensioni
: Dimensioni standard da 2 pollici, 4 pollici, 6 pollici, 8 pollici a 12 pollici, con supporto per specifiche personalizzate.6. Inertia chimica
: Resistente agli acidi forti (eccetto HF), agli alcali e all'incisione al plasma, adatto per i processi dei semiconduttori.Campi di applicazione
Usi specifici
Vantaggi dei wafer di quarzo | Produzione di semiconduttori | - Substrati per fotomaschere |
- Supporti per processi di incisione |
- Cuscinetti di lucidatura CMP - Wafer di incollaggio temporaneo Elevata planarità, bassa espansione termica, resistenza alla corrosione al plasma Dispositivi optoelettronici |
- Finestre laser |
- Substrati per filtri ottici |
- Substrati per sensori IR - Packaging per fotodiodi Alta trasmittanza UV-IR, bassa perdita di assorbimento MEMS/NEMS |
- Strati strutturali MEMS |
- Diaframmi per sensori di precisione |
- Modelli per nanoimpronta Superficie ultra-liscia, elevata rigidità, stabilità chimica Dispositivi 5G e RF |
- Substrati per filtri SAW/BAW |
- Basi per antenne ad alta frequenza |
- Risonatori dielettrici a microonde Bassa perdita dielettrica, prestazioni stabili del segnale ad alta frequenza Ricerca e ottica |
- Ottica per radiazione di sincrotrone |
- Finestre per diffrazione a raggi X |
- Specchi laser ad alta potenza Resistenza alle radiazioni, alta soglia di danno laser Nuova energia |
- Substrati per rivestimenti di celle fotovoltaiche |
- Strati elettrolitici per celle a combustibile |
- Ricerca sui separatori per batterie al litio Resistenza alle alte temperature, prevenzione della migrazione ionica Servizi ZMSH di wafer di quarzo personalizzati da 2-12 pollici |
Soluzioni complete per wafer di quarzo: ZMSH fornisce la produzione di wafer di quarzo personalizzati (dimensioni standard/non standard da 2"-12") con lavorazione di precisione (lucidatura, rivestimento, ecc.) utilizzando materiali ad alta purezza (silice fusa di grado UV, quarzo a basso OH). |
FAQ dei wafer di quarzo da 2-12 pollici
R: I wafer di quarzo offrono un'eccezionale stabilità termica, elevata purezza ed eccellente resistenza chimica, rendendoli ideali per i processi dei semiconduttori più esigenti.
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