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Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione

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Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione

8inch Quartz Wafer Diameter 200mm TTV ≤10μm Ra ≤1.0 Nm For High Precision Sensors
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Grande immagine :  Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 8 pollici
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese
Descrizione di prodotto dettagliata
Diametro: 200 mm (8 pollici) Intervallo di spessore: 100 μm – 3000 μm
Variazione totale dello spessore (TTV): ≤10 μm Roverezza superficiale (Ra): ≤1,0 nm
Contenuto totale di impurezze: ≤2.0 μg/g (Grado ad alta purezza) Applicazioni: Maschere di litografia a semiconduttore, Dispositivi ottici UV, Sensori MEMS, Sistemi laser
Evidenziare:

Wafer al quarzo per sensori di alta precisione

,

Wafer al quarzo da 200mm

 

Introduzione dettagliata del wafer di quarzo da 8 pollici

 

Wafer di quarzo da 8 pollici Diametro 200mm TTV ≤10μm Ra ≤1.0 nm Per sensori di alta precisione

 
 

Il wafer di quarzo da 8 pollici è un materiale di substrato di precisione fabbricato in vetro di quarzo sintetico ad alta purezza (SiO₂), che offre proprietà fisiche, chimiche e ottiche eccezionali. Con un diametro standard di 200 mm (8 pollici) e spessore personalizzabile (ad esempio, 0,5 mm–10 mm), è ampiamente utilizzato in applicazioni di fascia alta nel settore dei semiconduttori, optoelettronica e ottica. Grazie alla sua purezza ultra-elevata (≥99,99%), al basso coefficiente di espansione termica, all'eccezionale stabilità termica e alla superiore trasmittanza UV-IR, i wafer di quarzo sono la scelta ideale per processi critici come la fotolitografia, l'incisione e il deposito di film sottili. Inoltre, le loro proprietà dielettriche stabili e la resistenza alle radiazioni li rendono adatti per sensori di alta precisione e componenti di grado aerospaziale.

 

 


 

Dati per wafer di quarzo da 8 pollici

 

 

​​Parametri​​ ​​Valori/Specifiche​​
Diametro 200 mm (8 pollici)
Intervallo di spessore 100 μm – 3000 μm
Variazione totale dello spessore (TTV) ≤10 μm
Rugosità superficiale (Ra) ≤1.0 nm
Contenuto totale di impurità ≤2.0 μg/g (Grado ad alta purezza)
Coefficiente di espansione termica 0.55×10⁻⁶/K (20–300°C)
Resistenza alla temperatura Punto di rammollimento 1683°C, Tolleranza a breve termine fino a 1450°C
Trasmittanza UV >90% Trasmittanza media (200–260 nm)
Applicazioni Maschere di litografia a semiconduttore, dispositivi ottici UV, sensori MEMS, sistemi laser

 

 


 

Caratteristiche principali e vantaggi​​ del wafer di quarzo da 81. D: Qual è lo spessore standard di un wafer di quarzo da 8 pollici?

Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione 0

 

1. Elevata purezza (≥99,99%): Minimizza le impurità nei processi dei semiconduttori, migliorando la resa.

 

2. Eccellente stabilità termica: Punto di rammollimento fino a 1730°C, adatto per processi ad alta temperatura (ad esempio, diffusione, ossidazione).

 

3. Bassa espansione termica (5.5×10⁻⁷/°C): Riduce la deformazione sotto stress termico, migliorando la precisione di lavorazione.

 

4. Elevata trasmittanza (185nm–2.5μm): Ideale per la litografia UV, sensori ottici e applicazioni laser.

 

5. Resistenza chimica: Resiste agli acidi forti (eccetto HF) e agli alcali, adatto per ambienti di incisione a umido.

 

6. Elevata planarità (<1μm TTV): Assicura uniformità nella fotolitografia e nel deposito di film sottili.

 

 


 

Campi di applicazione​ pollici1. D: Qual è lo spessore standard di un wafer di quarzo da 8 pollici?

 

 

Settore Applicazioni Vantaggi principali
Semiconduttori Substrati per fotomaschere, supporti per incisione, tamponi per lucidatura CMP, vassoi per processi di diffusione Stabilità alle alte temperature, difetti ultra-bassi, garantisce la precisione di fabbricazione dei chip
Fotovoltaico Processi PECVD per celle solari, supporti per forni di diffusione, substrati per deposizione di film sottili Resistenza agli shock termici, migliora l'efficienza delle celle
Optoelettronica Substrati LED/LD, finestre laser, protezione per sensori ottici Elevata trasmittanza UV-IR, bassa fluorescenza, migliora le prestazioni del dispositivo
Ottica di precisione Substrati per lenti, prismi, divisori di fascio, finestre IR Bassa espansione termica, elevata omogeneità, garantisce la stabilità del sistema ottico
Ricerca e laboratorio Dispositivi a radiazione di sincrotrone, esperimenti VUV, rivelatori di fisica delle alte energie Resistente alle radiazioni, resiste ad ambienti estremi
Aerospaziale Finestre ottiche satellitari, finestre di osservazione ad alta temperatura per veicoli spaziali Resistenza ai raggi cosmici, resistenza agli shock termici, pronto per lo spazio

 

 


 

Soluzioni personalizzate per wafer di quarzo da 8polliciZMSH è specializzata in R&S, produzione e vendita di prodotti in vetro di quarzo di alta precisione, offrendo:

Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione 1

 

· Dimensioni multiple: wafer da 2"–12", con personalizzazioni non standard (ad esempio, quadrati, forme speciali).

 

· Forme diverse: rotonde, quadrate, anulari, a settore, ecc., su misura per le esigenze delle apparecchiature.

 

· Opzioni di materiale: quarzo sintetico (JGS1/JGS2/JGS3), silice fusa, quarzo a basso contenuto di OH.

 

· Trattamenti superficiali: lucidatura, rivestimenti (AR/IR/DLC), foratura, scanalatura, ecc.

 

· Soluzioni specifiche per il settore: componenti in quarzo personalizzati per semiconduttori, fotovoltaico, comunicazioni ottiche, ecc.

 

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Breve introduzione alle finestre in vetro di quarzo:

 

 

ZMSH fornisce finestre in vetro di quarzo personalizzate di precisione per sistemi ottici UV-Vis-IR. Le caratteristiche personalizzabili includono:

 

 

· Forme: rotonde, quadrate, rettangolari o geometrie complesse.

 

· Dimensioni: diametro 1 mm–500 mm, spessore 0,1 mm–50 mm.

 

· Finiture superficiali: lucidatura su entrambi i lati, rivestimenti AR, rivestimenti metallici.

 

· Applicazioni: finestre laser, oblò per vuoto, mirini ad alta temperatura, componenti per spettrometri.

 

Dotato di tecnologie avanzate di incisione CNC, taglio laser e rivestimento, ZMSH garantisce un'elevata trasmittanza, una bassa distorsione del fronte d'onda e una durata ambientale.

 

Prototipazione e produzione di massa disponibili: contattaci per soluzioni su misura!

 

FAQ

 

 

Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione 2Wafer al quarzo da 8 pollici, diametro 200mm, TTV ≤10μm, Ra ≤1.0 Nm, per sensori di alta precisione 3

 

 


 

del wafer di quarzo da 8pollici1. D: Qual è lo spessore standard di un wafer di quarzo da 8 pollici?

 

 

R: Lo spessore standard varia da 0,5 mm a 1,0 mm, con opzioni personalizzate fino a 10 mm per applicazioni specifiche nel settore dei semiconduttori.

2. D: Perché utilizzare wafer di quarzo invece di wafer di silicio?

 

 

R: I wafer di quarzo offrono una trasparenza UV superiore (>90% @193nm), una maggiore stabilità termica (fino a 1730°C) e una migliore resistenza chimica rispetto al silicio per la litografia e i processi in ambienti difficili.

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