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Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: ZMSH

Certificazione: rohs

Numero di modello: Wafer di quarzo da 6 pollici

Termini di pagamento e spedizione

Quantità di ordine minimo: 10

Prezzo: by case

Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi

Tempi di consegna: 5-8weeks

Termini di pagamento: T/T

Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese

Ottenga il migliore prezzo
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Substrato cristallino di quarzo trasparente resistente al calore

,

Substrato di cristalli di quarzo monocristallino

Diametro:
6 pollici (150 mm)
Tolleranza dello spessore:
± 0,02 mm
Variazione dello spessore totale:
≤10μm
Roverezza della superficie:
Ra ≤ 0,5 nm
Parallelismo:
≤3μm
Resistenza:
> 1016 Ω·cm
Diametro:
6 pollici (150 mm)
Tolleranza dello spessore:
± 0,02 mm
Variazione dello spessore totale:
≤10μm
Roverezza della superficie:
Ra ≤ 0,5 nm
Parallelismo:
≤3μm
Resistenza:
> 1016 Ω·cm
Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW

 

Dettagli del wafer di quarzo da 6 pollici

​​Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW​​

 
 

Il wafer di quarzo da 6 pollici (diametro 150 mm) è fabbricato in vetro di quarzo ad alta purezza (purezza ≥99,999%) con uno spessore compreso tra 50 e 500μm. La rugosità superficiale è controllata a Ra ≤0,5 nm tramite CMP (Chemical Mechanical Polishing). Il processo di fabbricazione include: ​​

 

 

· Purificazione della materia prima​​: Estrazione di silicio di grado elettronico dalla sabbia di quarzo tramite processi di clorurazione e riduzione, raggiungendo una purezza del 99,9999%. ​​

· Crescita monocristallina​​: Coltivazione di barre di silicio monocristallino utilizzando il metodo Czochralski (CZ), con densità di difetti <1 difetto/cm². ​​

· Taglio e lavorazione​​: Taglio di barre di silicio in wafer da 150 mm tramite segatura a filo multiplo, seguito da lucidatura a doppia faccia e incisione laser per garantire una tolleranza di spessore ≤±15μm.

 

 


 

Parametro per 6pollici

 

 

Parametro Specifiche
Diametro 6 pollici (150 mm)
Intervallo di spessore 0,5 mm~3,0 mm
Tolleranza di spessore ±0,02 mm
Variazione totale dello spessore ≤10μm
Rugosità superficiale (lucidata) ≤0,5 nm Ra
Parallelismo ≤3μm
CTE (20-300°C) 0,55×10⁻⁶/°C
Trasmittanza @193nm >92%
Resistività >10¹⁶ Ω·cm
Compatibilità con il vuoto 10⁻¹⁰ Torr
Resistenza alla flessione (rinforzata) 500-700MPa

 

 


 

 

Caratteristiche principali e vantaggi​​ del wafer di quarzo da 6pollici

 

Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW 0

Il wafer di quarzo da 6 pollici è un film sottile circolare realizzato in materiale di quarzo ad alta purezza, ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nell'elettronica optoelettronica e nell'ottica di precisione. Le caratteristiche principali includono:

 

 

· ​​Elevata purezza e resistenza termica​​: Purezza del vetro di quarzo ≥99,999%, punto di rammollimento ~1730°C, tolleranza a breve termine fino a 1450°C.

 

​​· Basso coefficiente di dilatazione termica​​: Coefficiente di dilatazione termica 0,5×10⁻⁶/°C (25-300°C), in grado di resistere agli shock termici (ΔT ≥800°C).

 

​​· Stabilità chimica​​: Resiste alla corrosione da tutti gli acidi tranne l'acido fluoridrico, con una resistenza alla corrosione 30× superiore a quella della ceramica e 150× superiore a quella dell'acciaio inossidabile.

 

​​· Prestazioni ottiche​​: Elevata trasmittanza nello spettro ultravioletto-vicino infrarosso (luce visibile >93%, vicino infrarosso >95%).

 

​​· Resistenza meccanica​​: Durezza Mohs di 7, resistenza alla compressione superiore al vetro standard.

 

 


Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW 1

Applicazioni​ del wafer di quarzo da 6pollici

 

 

1. ​​Produzione di semiconduttori​​: Utilizzato in diodi, transistor e MOSFET, a supporto dell'elettronica automobilistica e dei semiconduttori di potenza.

 

​​2. Optoelettronica​​: Serve come substrati per fibre ottiche, dispositivi laser e guide d'onda nelle reti 5G e nei data center.

 

3. ​​Ottica di precisione​​: Applicato in sistemi di imaging a infrarossi, ottica laser e lenti ad alta trasmittanza.

 

​​4. Sensori e strumenti​​: Componenti principali nei sensori MEMS e nelle apparecchiature diagnostiche mediche.

 

5. ​​Aerospaziale​​: Finestre ottiche ad alta temperatura e componenti resistenti al calore per veicoli spaziali.

 


 

Introduzione al tubo di quarzo

 

 

I tubi di quarzo sono vetro di quarzo ad alta purezza fabbricati in strutture tubolari, ampiamente utilizzati nei processi di diffusione/ossidazione dei semiconduttori e nelle apparecchiature fotovoltaiche. I nostri servizi includono:

 

· ​​Lavorazione personalizzata​​: Diametri interni (5-50 mm), lunghezze (100-1000 mm) e spessori delle pareti (0,5-3 mm). Sono supportate geometrie complesse (tubi piegati, a più camere).

· ​​Vantaggi tecnici​​: Funziona a 1100°C a lungo termine, basso contenuto di idrossili (<1 ppm) e alta resistenza alla contaminazione, soddisfacendo i requisiti di pulizia di grado semiconduttore.

 

 

Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW 2Substrato di cristallo di quarzo monocristallino trasparente resistente al calore da 6 pollici per dispositivi SAW 3

 

 


 

FAQ del wafer di quarzo da 6pollici

 

 

1. Q: ​​Quali sono le principali applicazioni dei wafer di quarzo da 6 pollici?​​ ​​

A:​​ I wafer di quarzo da 6 pollici sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori (ad esempio, diodi, MOSFET), nell'elettronica optoelettronica (fibre ottiche, laser) e nei sensori di precisione grazie alla loro elevata stabilità termica e trasparenza ottica.

 

 

2. Q: ​​Quali sfide esistono nella produzione di wafer di quarzo da 6 pollici?​​ ​​

A:​​ Le sfide principali includono il mantenimento di una purezza ultra-elevata (>99,999% SiO₂), la minimizzazione dei difetti durante la crescita dei cristalli e la garanzia dell'uniformità nei processi di taglio/lucidatura.

 

 

 

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