Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 6 pollici
Termini di pagamento e spedizione
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese
Diametro: |
6 pollici (150 mm) |
Tolleranza dello spessore: |
± 0,02 mm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Roverezza della superficie: |
Ra ≤ 0,5 nm |
Parallelismo: |
≤3μm |
Resistenza: |
> 1016 Ω·cm |
Diametro: |
6 pollici (150 mm) |
Tolleranza dello spessore: |
± 0,02 mm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Roverezza della superficie: |
Ra ≤ 0,5 nm |
Parallelismo: |
≤3μm |
Resistenza: |
> 1016 Ω·cm |
Il wafer di quarzo da 6 pollici (diametro 150 mm) è fabbricato in vetro di quarzo ad alta purezza (purezza ≥99,999%) con uno spessore compreso tra 50 e 500μm. La rugosità superficiale è controllata a Ra ≤0,5 nm tramite CMP (Chemical Mechanical Polishing). Il processo di fabbricazione include:
· Purificazione della materia prima: Estrazione di silicio di grado elettronico dalla sabbia di quarzo tramite processi di clorurazione e riduzione, raggiungendo una purezza del 99,9999%.
· Crescita monocristallina: Coltivazione di barre di silicio monocristallino utilizzando il metodo Czochralski (CZ), con densità di difetti <1 difetto/cm².
· Taglio e lavorazione: Taglio di barre di silicio in wafer da 150 mm tramite segatura a filo multiplo, seguito da lucidatura a doppia faccia e incisione laser per garantire una tolleranza di spessore ≤±15μm.
Parametro | Specifiche |
Diametro | 6 pollici (150 mm) |
Intervallo di spessore | 0,5 mm~3,0 mm |
Tolleranza di spessore | ±0,02 mm |
Variazione totale dello spessore | ≤10μm |
Rugosità superficiale (lucidata) | ≤0,5 nm Ra |
Parallelismo | ≤3μm |
CTE (20-300°C) | 0,55×10⁻⁶/°C |
Trasmittanza @193nm | >92% |
Resistività | >10¹⁶ Ω·cm |
Compatibilità con il vuoto | 10⁻¹⁰ Torr |
Resistenza alla flessione (rinforzata) | 500-700MPa |
Il wafer di quarzo da 6 pollici è un film sottile circolare realizzato in materiale di quarzo ad alta purezza, ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nell'elettronica optoelettronica e nell'ottica di precisione. Le caratteristiche principali includono:
· Elevata purezza e resistenza termica: Purezza del vetro di quarzo ≥99,999%, punto di rammollimento ~1730°C, tolleranza a breve termine fino a 1450°C.
· Basso coefficiente di dilatazione termica: Coefficiente di dilatazione termica 0,5×10⁻⁶/°C (25-300°C), in grado di resistere agli shock termici (ΔT ≥800°C).
· Stabilità chimica: Resiste alla corrosione da tutti gli acidi tranne l'acido fluoridrico, con una resistenza alla corrosione 30× superiore a quella della ceramica e 150× superiore a quella dell'acciaio inossidabile.
· Prestazioni ottiche: Elevata trasmittanza nello spettro ultravioletto-vicino infrarosso (luce visibile >93%, vicino infrarosso >95%).
· Resistenza meccanica: Durezza Mohs di 7, resistenza alla compressione superiore al vetro standard.
1. Produzione di semiconduttori: Utilizzato in diodi, transistor e MOSFET, a supporto dell'elettronica automobilistica e dei semiconduttori di potenza.
2. Optoelettronica: Serve come substrati per fibre ottiche, dispositivi laser e guide d'onda nelle reti 5G e nei data center.
3. Ottica di precisione: Applicato in sistemi di imaging a infrarossi, ottica laser e lenti ad alta trasmittanza.
4. Sensori e strumenti: Componenti principali nei sensori MEMS e nelle apparecchiature diagnostiche mediche.
5. Aerospaziale: Finestre ottiche ad alta temperatura e componenti resistenti al calore per veicoli spaziali.
I tubi di quarzo sono vetro di quarzo ad alta purezza fabbricati in strutture tubolari, ampiamente utilizzati nei processi di diffusione/ossidazione dei semiconduttori e nelle apparecchiature fotovoltaiche. I nostri servizi includono:
· Lavorazione personalizzata: Diametri interni (5-50 mm), lunghezze (100-1000 mm) e spessori delle pareti (0,5-3 mm). Sono supportate geometrie complesse (tubi piegati, a più camere).
· Vantaggi tecnici: Funziona a 1100°C a lungo termine, basso contenuto di idrossili (<1 ppm) e alta resistenza alla contaminazione, soddisfacendo i requisiti di pulizia di grado semiconduttore.
1. Q: Quali sono le principali applicazioni dei wafer di quarzo da 6 pollici?
A: I wafer di quarzo da 6 pollici sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori (ad esempio, diodi, MOSFET), nell'elettronica optoelettronica (fibre ottiche, laser) e nei sensori di precisione grazie alla loro elevata stabilità termica e trasparenza ottica.
2. Q: Quali sfide esistono nella produzione di wafer di quarzo da 6 pollici?
A: Le sfide principali includono il mantenimento di una purezza ultra-elevata (>99,999% SiO₂), la minimizzazione dei difetti durante la crescita dei cristalli e la garanzia dell'uniformità nei processi di taglio/lucidatura.
Tag: #Substrato di quarzo da 6 pollici, #Personalizzato, #Piastre di silice fusa, #Cristallo SiO₂, #Wafer di quarzo, #Grado JGS1/JGS2, #Alta purezza, #Componenti ottici in silice fusa, #Lastra di vetro di quarzo, #Diametro 150 mm, #Wafer di vetro di cristallo di quarzo, #Purezza 5N SiO₂, #Resistente al calore, #Trasparente, #Substrato di cristallo di quarzo monocristallino, #Dispositivi SAW