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Wafer di vetro di quarzo da 150 mm di diametro (6 pollici) con purezza 5N SiO₂

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: ZMSH

Certificazione: rohs

Numero di modello: Wafer di quarzo da 6 pollici

Termini di pagamento e spedizione

Quantità di ordine minimo: 10

Prezzo: by case

Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi

Tempi di consegna: 5-8weeks

Termini di pagamento: T/T

Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese

Ottenga il migliore prezzo
Evidenziare:

Wafer di cristallo di quarzo da 6 pollici

,

Wafer di vetro cristallino di quarzo da 150 mm

,

Wafer di vetro a cristallo di quarzo SiO2

Diametro:
6 pollici (150 mm)
Tolleranza dello spessore:
± 0,02 mm
Variazione dello spessore totale:
≤10μm
Roverezza della superficie:
Ra ≤ 0,5 nm
Parallelismo:
≤3μm
Resistenza:
> 1016 Ω·cm
Diametro:
6 pollici (150 mm)
Tolleranza dello spessore:
± 0,02 mm
Variazione dello spessore totale:
≤10μm
Roverezza della superficie:
Ra ≤ 0,5 nm
Parallelismo:
≤3μm
Resistenza:
> 1016 Ω·cm
Wafer di vetro di quarzo da 150 mm di diametro (6 pollici) con purezza 5N SiO₂

 

Perché scegliere wafer di quarzo da 6 pollici?

 

I wafer di quarzo da 6 pollici sono substrati di alta precisione e ultra-puri ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell'ottica e nei MEMS (sistemi micro-elettromeccanici). Le loro proprietà chiave - tra cui purezza eccezionale, espansione termica ultra-bassa, elevata resistenza alla trazione, trasmissione ottica superiore e caratteristiche elettriche uniche - li rendono indispensabili per la produzione di precisione e i dispositivi ad alte prestazioni.

 

 


 

Panoramicadel wafer di quarzo da 6 pollici

6

Wafer di vetro di cristallo di quarzo da 6 pollici di diametro 150 mm, purezza 5N SiO₂

 

ZMSH è specializzata nella produzione di wafer di quarzo da 6 pollici, offrendo:

 

Personalizzazione multi-dimensione: wafer standard da 6 pollici più varianti da 4", 8" e 12"

Lavorazione dei bordi: opzioni per bordi smussati, intagli e piani di orientamento

Trattamenti superficiali: servizi personalizzati di lucidatura, rivestimento e modellatura

 

 


 

Parametro per 62. D: In che modo la purezza del wafer di quarzo (≥99,999%) influisce sui processi ad alta temperatura?

 

 

Parametro Specifica
Diametro 6 pollici (150 mm)
Intervallo di spessore 0,5 mm~3,0 mm
Tolleranza di spessore ±0,02 mm
Variazione totale dello spessore ≤10μm
Rugosità superficiale (lucidata) ≤0,5 nm Ra
Parallelismo ≤3μm
0,55×10⁻⁶/°C (espansione termica ultra-bassa) 0,55×10⁻⁶/°C
Trasmittanza @193nm >92%
Resistività >10¹⁶ Ω·cm
Compatibilità con il vuoto 10⁻¹⁰ Torr
Resistenza alla flessione (rinforzata) 500-700 MPa

 

 


 

 

Applicazioni strategiche​ Proprietà chiave​​del wafer di quarzo da 6 pollici2. D: In che modo la purezza del wafer di quarzo (≥99,999%) influisce sui processi ad alta temperatura?

 

 

Specifiche tecniche Elevata purezza
≥99,999% contenuto di SiO₂ CTE (20-300°C)
0,55×10⁻⁶/°C (espansione termica ultra-bassa) Resistenza alla trazione
50-70 MPa (opzioni chimicamente rinforzate disponibili) Trasmittanza ottica
>92% @190-3500nm (spettro UV-NIR) Proprietà elettriche
Resistività >10¹⁶ Ω·cm, coefficienti piezoelettrici ​​

 

 


 

Applicazioni strategiche​ del wafer di quarzo da 6 polliciR: I wafer di quarzo da 6 pollici (150 mm) offrono il 56% in più di area utilizzabile rispetto ai wafer da 4 pollici, riducendo significativamente le perdite di esclusione dei bordi e migliorando la produttività per il packaging avanzato e la produzione di MEMS.2. D: In che modo la purezza del wafer di quarzo (≥99,999%) influisce sui processi ad alta temperatura?

 

 

packaging di semiconduttori

 

, fabbricazione di chip, e campi correlati, in particolare nella produzione di:- Chip di memoria(DRAM, NAND Flash)

- Dispositivi analogici/di potenza(IGBT, MOSFET)

- Sensori avanzati(MEMS, sensori di immagine CMOS)

2. Componenti otticiGrazie alla loro

 

Wafer di vetro di quarzo da 150 mm di diametro (6 pollici) con purezza 5N SiO₂ 0

elevata trasmittanza ottica

 

e CTE ultra-basso, tra cui:- Lenti di precisione(asferiche, array di microlenti)

- Filtri ottici(banda passante, dicroici)

- Guide d'onda(IC fotonici, elementi di accoppiamento in fibra)

3. MEMS (sistemi micro-elettromeccanici)I wafer di quarzo fungono da substrati premium per i dispositivi MEMS grazie alla loro

 

 

stabilità dimensionale

 

e robustezza meccanica, tra cui:- Microsensori(pressione, inerziali, biosensori)

- Microattuatori(interruttori RF, trasduttori piezoelettrici)

- Risonatori(filtri 5G, dispositivi di temporizzazione)

4. TFT-LCD in polisilicio ad alta temperaturaI wafer di quarzo sono fondamentali nella produzione di

 

 

display ad alte prestazioni

 

, in particolare:- Backplane HTPS (High-Temperature Poly-Si) TFT- Microdisplay

(AR/VR, LCoS)

- Pannelli LCD avanzati(substrati di incapsulamento OLED)

Servizi di produzione personalizzati di 

6

 


 

wafer di quarzo da polliciForniamo soluzioni end-to-end:2. D: In che modo la purezza del wafer di quarzo (≥99,999%) influisce sui processi ad alta temperatura?

 

Wafer di vetro di quarzo da 150 mm di diametro (6 pollici) con purezza 5N SiO₂ 1

2. Lavorazione di precisione:

 

- Taglio laser (±5μm di tolleranza)

 

- Foratura a ultrasuoni (rapporto di aspetto 10:1)

3. Ingegneria delle superfici:

- Nano-lucidatura (Ra

 

<0,3 nm)

- Rivestimenti antiriflesso DUV/IR4. Controllo qualità:

- Lavorazione in camera bianca di classe 10

 

- Rapporti metrologici completi (TTV, deformazione, curvatura)

FAQ

del wafer di quarzo da 6 pollici

 

 

 

 

 


 

1. D: Quali sono i vantaggi dei wafer di quarzo da 6 pollici rispetto alle dimensioni più piccole nella produzione di semiconduttori?R: I wafer di quarzo da 6 pollici (150 mm) offrono il 56% in più di area utilizzabile rispetto ai wafer da 4 pollici, riducendo significativamente le perdite di esclusione dei bordi e migliorando la produttività per il packaging avanzato e la produzione di MEMS.2. D: In che modo la purezza del wafer di quarzo (≥99,999%) influisce sui processi ad alta temperatura?

 

 

R: Il quarzo di purezza 5N riduce al minimo i rischi di contaminazione nei processi di ricottura HTPS TFT e semiconduttori superiori a 1000°C, garantendo proprietà dielettriche costanti.

Tag: #Substrato di quarzo da 6 pollici, #Personalizzato, #Piastre di silice fusa, #Cristallo di SiO₂, #Wafer di quarzo, #Grado JGS1/JGS2, #Elevata purezza, #Componenti ottici in silice fusa, #Piastra di vetro di quarzo, #Diametro 150 mm​​, #Wafer di vetro di cristallo di quarzo, #5N Purezza SiO₂