Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 4 pollici
Termini di pagamento e spedizione
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese
Diametro: |
A 4 pollici (100mm) |
Intervallo di spessore: |
0.5mm~1.5mm |
Roughness superficiale (polito): |
≤0.5nm |
Trasmittanza @193nm: |
>93% |
CTE (20-300°C): |
00,55×10−6/°C |
Parallelismo: |
≤3μm |
Diametro: |
A 4 pollici (100mm) |
Intervallo di spessore: |
0.5mm~1.5mm |
Roughness superficiale (polito): |
≤0.5nm |
Trasmittanza @193nm: |
>93% |
CTE (20-300°C): |
00,55×10−6/°C |
Parallelismo: |
≤3μm |
ZMSH è specializzata nella produzione di precisione di wafer di quarzo da 4 pollici, adatti per applicazioni optoelettroniche, a semiconduttore e MEMS ad alte prestazioni. A differenza dei formati più piccoli, i wafer di quarzo da 4 pollici offrono una superficie estesa per l'integrazione multistrato, consentendo la produzione scalabile di dispositivi avanzati. Le caratteristiche principali includono:
1. Materiale: silice fusa ad alta purezza (SiO₂) con <50 ppm di idrossile (OH⁻) e <0,1 ppm di impurità metalliche, garantendo una perdita ottica ultra-bassa.
2. Dimensioni: diametri personalizzati (100,00 mm ±0,25 mm) e spessori (0,525–1,200 mm, TTV ≤10 μm).
3. Forme: geometrie circolari, quadrate o irregolari con aperture non standard, bordi a gradini o spessore sfumato.
4. Finitura superficiale: superfici ultra-lisce (Ra ≤1,0 nm) per una dispersione della luce minima.
Parametro | Specifiche |
Diametro | 100,00 mm ±0,25 mm |
Gamma di spessore | 0,525–1,200 mm |
Variazione dello spessore totale (TTV) |
≤10 μm (diametro 300 mm) 4 |
Rugosità superficiale (Ra) | ≤1,0 nm |
Trasmittanza ultravioletta |
>92% @185–3500 nm 1 |
Coefficiente di espansione termica (CTE) |
0,55×10⁻⁶/°C (20–300°C) 1 |
Resistività (350°C) | >7×10⁷ Ω·cm |
1. Superiorità ottica
Ampia trasmissione spettrale: >92% di trasmittanza da 185 nm (UV) a 3500 nm (IR), ideale per la litografia UV e il rilevamento quantistico.
Bassa espansione termica: CTE di 0,55×10⁻⁶/°C (20–300°C), mantenendo la stabilità dimensionale fino a 1100°C.
2. Resistenza meccanica e chimica
Elevata durezza: scala Mohs 7, resistente all'abrasione e agli urti meccanici.
Resistenza agli acidi: durata 30× superiore rispetto alla ceramica, adatta per ambienti chimici aggressivi.
3. Prestazioni elettriche
Isolamento: resistività >7×10⁷ Ω·cm (350°C), riducendo al minimo la capacità parassita nei circuiti ad alta frequenza.
Compatibilità SAW: ottimizzato per filtri a onde acustiche di superficie (SAW) con angoli di taglio precisi (ad esempio, 34,33° per il taglio FC).
1. Dispositivi MEMS avanzati
Sensori di pressione, giroscopi e testine di stampa a getto d'inchiostro che sfruttano wafer da 4 pollici per l'integrazione multistrato e la stabilità termica.
2. Sistemi optoelettronici
Diodi laser UV, collimatori a fibra ottica e componenti LiDAR che richiedono percorsi ottici a bassa perdita.
3. Packaging a semiconduttore
Substrati di packaging a livello di wafer (WLP) per sensori di immagine CMOS e RFIC, che supportano la tecnologia TSV (Through-Silicon Via).
4. Tecnologie quantistiche
Substrati per centri diamante azoto-vacanza (NV) e qubit superconduttori, che beneficiano di una densità di difetti ultra-bassa.
Offriamopersonalizzazione su larga scalaper wafer di quarzo da 4 pollici, tra cui:
1. Lavorazione di precisione: tornitura CNC al diamante per <1 μm di precisione dimensionale.
2. Trattamenti superficiali: rivestimenti AR (150°).
3. Prototipazione rapida: 5–7 giorni per i campioni, supportando geometrie ibride (ad esempio, fori passanti + intagli).
1. D: Perché utilizzare wafer di quarzo da 4 pollici?
R: I wafer di quarzo da 4 pollici offrono un equilibrio tra convenienza e precisione, ideali per sensori MEMS, filtri ottici e packaging a semiconduttore con spessore personalizzabile (0,5–1,5 mm) e rugosità superficiale ultra-bassa (Ra ≤0,5 nm).
2. D: Quali settori utilizzano wafer di quarzo da 4 pollici?
R: Sono fondamentali nei dispositivi MEMS, nei sistemi a fibra ottica e nella produzione avanzata di semiconduttori, sfruttando la silice fusa ad alta purezza e l'eccezionale stabilità termica (CTE 0,55×10⁻⁶/°C).
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