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Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2

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Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2

3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2
3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2 3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2 3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2

Grande immagine :  Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 3 pollici
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Capacità di alimentazione: 1000 pezzi al mese
Descrizione di prodotto dettagliata
Diametro: 3 pollici (76,2 mm) Tolleranza dello spessore: ± 0,02 mm
Roverezza della superficie: ≤1nm (Grado Lucido) Trasmittanza @193nm: > 92%
CTE (RT-300°C): 00,55×10−6/°C Applicazioni: Produzione di semiconduttori, laser ad alta potenza
Evidenziare:

Substrato di quarzo ad alta purezza

,

Substrato di quarzo da 3 pollici

,

Substrato di quarzo da 76

 

Panoramica del prodotto del wafer di quarzo da 3 pollici

Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2 0

Substrato di quarzo da 3 pollici Wafer di silice fusa ad alta purezza 76,2 mm di diametro JGS1/JGS2

 

Il wafer di quarzo da 3 pollici (76,2 mm) è un substrato di silice fusa ad alta purezza di grande formato, progettato specificamente per applicazioni avanzate nel settore dei semiconduttori, optoelettronica e ottica di precisione che richiedono aree di lavorazione più ampie. Rispetto ai wafer da 2 pollici, la specifica da 3 pollici migliora l'efficienza produttiva e riduce le perdite ai bordi, rendendolo particolarmente adatto per dispositivi MEMS prodotti in serie, fotomaschere avanzate e sistemi ottici laser.

 

ZMSH è specializzata nella produzione personalizzata di wafer di quarzo di grandi dimensioni, offrendo:

 

· Copertura completa delle dimensioni: Da wafer da 2 pollici a 12 pollici, supportando la personalizzazione di dimensioni non standard

· Lavorazione di forme complesse: Wafer rotondi, piastre quadrate e tagli di forma speciale (ad esempio, a forma di settore, a taglio D)

· Trattamento superficiale multifunzionale: Lucidatura su un lato/due lati, rivestimenti (AR/IR/DLC), incisione a microstruttura

· Soluzioni industriali: Pulizia di grado semiconduttore (Classe 100), foratura laser, segni di allineamento ad alta precisione

 

 


 

Specifiche per wafer di quarzo da 3 pollici

 

 

Parametro Specifiche
Diametro 3 pollici (76,2 mm)
Tolleranza spessore ±0,02 mm
Rugosità superficiale ≤1 nm (Grado lucidato)
Trasmittanza @193nm >92%
CTE (RT-300°C) 0,55×10⁻⁶/°C
Parallelismo ≤5μm
Compatibilità con il vuoto 10⁻⁹ Torr

 

 


 

 

​​Caratteristiche principali​​ di wafer di quarzo da 3 pollici

Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2 1

 

 

- Omogeneità di grandi dimensioni: TTV≤15μm a 76,2 mm di diametro garantisce l'uniformità del processo su aree ampie

 

- Ottimizzazione UV profonda: >92% di trasmittanza a 193 nm, supportando la litografia ArF e le applicazioni laser DUV

 

- Resistenza agli shock termici: Coefficiente di espansione termica 0,55×10⁻⁶/°C, resiste a cicli di temperatura rapidi (1000°C/min)

 

- Inertia di grado chimico: Resistente all'erosione del plasma, adatto per ambienti di incisione a secco e CMP

 

- Rinforzo meccanico: L'irrobustimento chimico opzionale aumenta la resistenza alla flessione da 300% a 500 MPa

 

 


 

​​Applicazioni principali​​ di wafer di quarzo da 3 pollici

 

 

 

Campo Applicazioni specifiche
Produzione di semiconduttori Substrati per fotomaschere di grandi dimensioni, ottiche per litografia EUV, interpositori 3D IC
Laser ad alta potenza Specchi per risonatori laser, tappi terminali per laser a fibra di livello kW, substrati per reticoli di compressione di impulsi laser ultrarapidi
Tecnologia quantistica Wafer portanti qubit, finestre di visualizzazione a vuoto per chip di atomi freddi
Aerospaziale Finestre per carichi ottici satellitari, coperture protettive per sensori resistenti alle radiazioni
Biomedicale Master per chip microfluidici, substrati per chip di sequenziamento del DNA, guide di luce per endoscopi

 

 


 

Soluzioni personalizzate per prismi di quarzo

 

 

ZMSH fornisce servizi di personalizzazione di prismi di quarzo per lunghezze d'onda da UV a IR, inclusi prismi ad angolo retto, pentaprismi e prismi divisori di fascio, con:

 

· Precisione superficiale a livello di nanometri (λ/10@632.8nm)

· Rivestimenti speciali (rivestimenti resistenti ai danni da laser, rivestimenti per divisori di fascio polarizzanti)

· Lavorazione integrata (strutture ibride prisma-wafer, progetti di raffreddamento a microcanali)

 

Ideale per applicazioni all'avanguardia nella modellatura del fascio laser, nell'analisi spettrale e negli esperimenti di fisica ad alta energia.FAQ

 

 

Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2 2Substrato di quarzo da 3 pollici, elevata purezza, wafer di silice fusa, diametro 76,2 mm, JGS1/JGS2 3

 

 


 

1. D: Quali sono i vantaggi dei wafer di quarzo da 3 pollici rispetto a quelli di dimensioni inferiori?

 

 

R: I wafer di quarzo da 3 pollici (76,2 mm) offrono il 44% in più di area utilizzabile rispetto ai wafer da 2 pollici, riducendo le perdite ai bordi e aumentando la produttività per la produzione di MEMS e i processi di rivestimento ottico.

  2. D: Come maneggiare e conservare correttamente i wafer di silice fusa da 3 pollici?

 

 

R: Utilizzare sempre supporti per wafer di grado camera bianca con supporti a contatto con i bordi e conservare in ambienti di Classe 100 con

  <40% UR per prevenire la contaminazione superficiale e l'assorbimento di umidità.Tag: #Substrato di quarzo da 3 pollici, #Personalizzato, #Piastre di silice fusa, #Cristallo di SiO₂, #Wafer di quarzo, #Grado JGS1/JGS2, #Alta purezza, #Componenti ottici in silice fusa, #Piastra di vetro al quarzo, #Fori passanti di forma personalizzata​​, #Substrato di quarzo da 3 pollici, #76,2 mm di diametro

 

 

 

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