Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 2 pollici
Termini di pagamento e spedizione
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
Wafer di quarzo da 2 pollici sono substrati di qualità semiconduttore fabbricati con biossido di silicio di alta purezza (SiO2),ottenere una piattezza a livello micron attraverso tecniche di lavorazione di precisione quali il taglio CNC e la lucidatura laserQuesti wafer sono conformi agli standard SEMI e supportano la personalizzazione in termini di dimensioni e spessore (tolleranza ± 0,02 mm), soddisfacendo le applicazioni in optoelettronica,MEMS (sistemi micro-elettro-meccanici), e imballaggi per semiconduttori.
ZMSH è specializzata nella produzione su misura di geometrie non standard (per esempio, aperture non standard, spessore graduale) e trattamenti superficiali avanzati (rivestimenti antiriflessivi (AR),film idrofobici) per soddisfare le esigenze uniche dei clienti. Un rigoroso controllo della qualità dell'intero processo garantisce il rispetto di specifiche rigorose, dal test delle materie prime (contenuto di idrossili < 50 ppm) all'ispezione finale dell'AOI,che garantisce la variazione totale dello spessore (TTV) <00,005 mm e rugosità superficiale Ra < 1,5 nm. Per i progetti urgenti, ZMSH offre servizi di risposta rapida, tra cui prototipazione di piccoli lotti (minimo 10 unità) e consegna accelerata (72 ore di risposta) per soddisfare le richieste urgenti.
PArametro | Specificità |
Diametro | 2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore | 0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale | ≥ 99,99% |
Roverezza superficiale (Ra) | ≤ 5 nm |
Variazione dello spessore totale | ≤ 10 μm |
Transmittance (@193nm) | > 90% |
Coefficiente di espansione termica | ~ 0,55×10−6/°C |
Punto di ammorbidimento | ~ 1665°C |
1Eccellenza ottica.
· Trasmittanza di ampio spettro: trasmittanza > 90% nella gamma ultravioletta (185 ∼ 3500 nm), con prestazioni superiori nella banda UV a onde corte (185 nm) rispetto al vetro convenzionale.
· Bassa espansione termica: Coefficiente di espansione termica (CTE) di 0,52×10−6/°C (535°C), resistente a temperature a lungo termine fino a 1100°C e a esposizione a breve termine a 1450°C.
2. Stabilità meccanica e chimica
· Alta resistenza: resistenza flessibile pari a 2×3 di quella del vetro standard, durezza di Mohs di 7.
· Resistenza alla corrosione: 30 volte maggiore resistenza agli acidi rispetto alla ceramica, ideale per ambienti chimici difficili.
3Isolamento elettrico
· Resistenza superiore a 1018 Ω·cm, con bassa perdita dielettrica ad alte frequenze, che lo rende adatto a circuiti e sensori RF.
1- Produzione di semiconduttori
· Sottostati per sensori di immagine CMOS e confezionamento di chip RFID, che consentono l'integrazione migliorata di confezionamenti a livello di wafer (WLP).
· Substrati di dispositivi MEMS (es. sensori di pressione, accelerometri) che garantiscano la stabilità strutturale dei microcomponenti.
2. sistemi optoelettronici
• finestre laser UV e accoppiatori di comunicazione in fibra ottica, che sfruttano le capacità di trasmissione UV.
• finestre ottiche aerospaziali resistenti alle radiazioni e al ciclo termico.
3. Medicina e ricerca
· Componenti ottici ad alta temperatura per sistemi di imaging endoscopici.
• finestre di osservazione resistenti al calore per i reattori di laboratorio.
Progettate per sistemi ottici specializzati, queste finestre sono dotate di tecnologia di taglio superficiale a forma libera, supportando aperture asimmetriche e configurazioni di spessore graduale.
· Finestre a taglio angolare: ottimizzate per gli angoli di incidenza del percorso luminoso per ridurre al minimo le perdite di riflessione.
· Finestre attraverso buchi: abilitare l'integrazione multi-sensore.
· Rapid Prototyping: 3-5 giorni per campioni, piccoli lotti < 500 unità e servizi di rivestimento a vuoto (ad esempio, rivestimenti AR/riflettenti) per applicazioni militari e di ricerca.
1.D: Perché scegliere wafer di quarzo da 2 pollici?
R: i wafer di quarzo da 2 pollici sono substrati di qualità semiconduttore realizzati con biossido di silicio di alta purezza (SiO2),ottenere una piattezza a livello micron attraverso tecniche di lavorazione di precisione quali il taglio CNC e la lucidatura laserQuesti wafer sono conformi agli standard SEMI e supportano la personalizzazione in termini di dimensioni e spessore (tolleranza ± 0,02 mm), soddisfacendo le applicazioni in optoelettronica,MEMS (sistemi micro-elettro-meccanici), e imballaggi per semiconduttori.
2.D: Quali sono le principali applicazioni di wafer di quarzo da 2 pollici?
R: Sono utilizzati principalmente nella produzione di semiconduttori (sensori di immagine CMOS, confezionamento di chip RFID), finestre laser UV, accoppiatori di comunicazione in fibra ottica e componenti ottici aerospaziali.La compatibilità dei loro imballaggi a livello di wafer (WLP) e i trattamenti superficiali personalizzabili (e.g., Anti-Reflective (AR) coatings) migliorano l'integrazione e le prestazioni nei sistemi ad alta precisione.
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- Sì.