Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 2 pollici
Termini di pagamento e spedizione
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
I wafer di quarzo da 2 pollici sono substrati di grado semiconduttore prodotti da biossido di silicio (SiO₂) ad alta purezza, che raggiungono una planarità a livello di micron attraverso tecniche di lavorazione di precisione come il taglio CNC e la lucidatura laser. Questi wafer aderiscono agli standard SEMI e supportano la personalizzazione in dimensioni e spessore (tolleranza di ±0,02 mm), soddisfacendo le applicazioni in optoelettronica, MEMS (sistemi micro-elettromeccanici) e packaging di semiconduttori.
ZMSH è specializzata nella produzione personalizzata di geometrie non standard (ad esempio, aperture non standard, spessore graduato) e trattamenti superficiali avanzati (rivestimenti antiriflesso (AR), film idrofobici) per soddisfare le esigenze specifiche dei clienti. Un rigoroso controllo di qualità dell'intero processo garantisce la conformità a specifiche rigorose, dai test delle materie prime (contenuto di idrossile <50 ppm) all'ispezione AOI finale, garantendo una variazione dello spessore totale (TTV) <0,005 mm e una rugosità superficiale Ra <1,5 nm. Per progetti sensibili al tempo, ZMSH offre servizi a risposta rapida, tra cui prototipazione di piccoli lotti (minimo 10 unità) e consegna accelerata (consegna in 72 ore) per soddisfare le esigenze urgenti.
Parametro | Specifica |
Diametro | 2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore | 0,1 mm~1,0 mm |
Purezza del materiale | ≥99,99% |
Rugosità superficiale (Ra) | ≤5nm |
Variazione dello spessore totale | ≤10μm |
Trasmittanza (@193nm) | >90% |
Coefficiente di dilatazione termica | ~0,55×10⁻⁶/°C |
Punto di rammollimento | ~1665°C |
1. Eccellenza ottica
· Trasmittanza a ampio spettro: >90% di trasmittanza nella gamma degli ultravioletti (185–3500 nm), con prestazioni superiori nella banda UV a onde corte (185 nm) rispetto al vetro convenzionale.
· Bassa dilatazione termica: Coefficiente di dilatazione termica (CTE) di 0,52×10⁻⁶/°C (5–35°C), in grado di resistere a temperature a lungo termine fino a 1100°C e all'esposizione a breve termine a 1450°C.
2. Stabilità meccanica e chimica
· Elevata resistenza: Resistenza alla flessione 2–3× quella del vetro standard, durezza Mohs di 7.
· Resistenza alla corrosione: Resistenza agli acidi 30× superiore a quella della ceramica, ideale per ambienti chimici aggressivi.
3. Isolamento elettrico
· Resistività superiore a 10¹⁸ Ω·cm, con basse perdite dielettriche alle alte frequenze, che lo rende adatto per circuiti RF e sensori.
1. Produzione di semiconduttori
· Substrati per sensori di immagine CMOS e packaging di chip RFID, che consentono il Wafer-Level Packaging (WLP) per una maggiore integrazione.
· Substrati per dispositivi MEMS (ad esempio, sensori di pressione, accelerometri) che garantiscono la stabilità strutturale per i microcomponenti.
2. Sistemi optoelettronici
· Finestre laser UV e accoppiatori per comunicazioni in fibra ottica, sfruttando le capacità di trasmissione UV.
· Finestre ottiche aerospaziali resistenti alle radiazioni e ai cicli termici.
3. Medicina e ricerca
· Componenti ottici ad alta temperatura per sistemi di imaging endoscopico.
· Finestre di osservazione resistenti al calore per reattori di laboratorio.
Progettate per sistemi ottici specializzati, queste finestre sono dotate di tecnologia di taglio superficiale a forma libera, che supporta aperture asimmetriche e configurazioni a spessore graduato. Gli esempi includono:
· Finestre tagliate ad angolo: Ottimizzate per gli angoli di incidenza del percorso della luce per ridurre al minimo le perdite per riflessione.
· Finestre con fori passanti: Consentono l'integrazione multi-sensore.
· Prototipazione rapida: 3–5 giorni per i campioni, <500 unità per piccoli lotti e servizi di rivestimento sottovuoto (ad esempio, rivestimenti AR/riflettenti) per applicazioni militari e di ricerca.
1.Q: Perché scegliere i wafer di quarzo da 2 pollici?
A: I wafer di quarzo da 2 pollici sono substrati di grado semiconduttore realizzati in biossido di silicio (SiO₂) ad alta purezza, che raggiungono una planarità a livello di micron attraverso tecniche di lavorazione di precisione come il taglio CNC e la lucidatura laser. Questi wafer aderiscono agli standard SEMI e supportano la personalizzazione in dimensioni e spessore (tolleranza di ±0,02 mm), soddisfacendo le applicazioni in optoelettronica, MEMS (sistemi micro-elettromeccanici) e packaging di semiconduttori.
2.Q: Quali sono le principali applicazioni dei wafer di quarzo da 2 pollici?
A: Sono utilizzati principalmente nella produzione di semiconduttori (sensori di immagine CMOS, packaging di chip RFID), finestre laser UV, accoppiatori per comunicazioni in fibra ottica e componenti ottici aerospaziali. La loro compatibilità con il wafer-level packaging (WLP) e i trattamenti superficiali personalizzabili (ad esempio, rivestimenti antiriflesso (AR)) migliorano l'integrazione e le prestazioni nei sistemi di alta precisione.
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