Dettagli del prodotto
Luogo di origine: Cina
Marca: ZMSH
Certificazione: rohs
Numero di modello: Wafer di quarzo da 2 pollici
Termini di pagamento e spedizione
Quantità di ordine minimo: 10
Prezzo: by case
Imballaggi particolari: Pacchetto in lavanderia a 100 gradi
Tempi di consegna: 5-8weeks
Termini di pagamento: T/T
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
Diametro: |
2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore: |
0.1 mm~1.0 mm |
Purezza materiale: |
≥99.99% |
Roverezza superficiale (Ra): |
≤5 nm |
Variazione dello spessore totale: |
≤10μm |
Trasmittanza (@193nm): |
> 90% |
Il wafer di quarzo da 2 pollici è un materiale di substrato ad alte prestazioni realizzato in quarzo sintetico ad alta purezza (silice fusa), caratterizzato da un'eccellente trasparenza ottica, un coefficiente di espansione termica estremamente basso e un'eccezionale stabilità chimica. Il wafer di quarzo da 2 pollici è ampiamente utilizzato in applicazioni di fascia alta come la produzione di semiconduttori, l'optoelettronica, MEMS/NEMS e l'ottica scientifica, fungendo da materiale fondamentale critico per componenti ottici di precisione e dispositivi microelettronici.
ZMSH è specializzata in R&S, produzione e personalizzazione di wafer di quarzo di alta precisione. Forniamo soluzioni su misura per soddisfare le esigenze dei clienti per varie specifiche (ad esempio, diametro, spessore, trattamento superficiale) utilizzando tecniche di lavorazione avanzate come la lucidatura di precisione, il taglio laser e il rivestimento. I nostri prodotti garantiscono un'eccezionale accuratezza dimensionale (TTV ≤10μm) e qualità superficiale (Ra ≤5nm). Inoltre, offriamo prototipazione rapida per piccoli lotti e produzione di massa su larga scala per supportare i clienti durante l'intero ciclo di sviluppo-produzione.
I wafer di quarzo ZMSH sono rigorosamente conformi agli standard del settore e sono adatti ad ambienti industriali difficili (ad esempio, alte temperature, condizioni altamente corrosive). Possono anche essere personalizzati con rivestimenti ottici come antiriflesso (AR) o miglioramento infrarosso (IR) per soddisfare specifiche esigenze applicative. Sfruttando una tecnologia di produzione matura e un rigoroso sistema di controllo qualità, ci impegniamo a fornire ai clienti globali soluzioni in vetro di quarzo ad alte prestazioni e altamente affidabili.
Parametro | Specifica |
Diametro | 2 pollici (50,8 mm) |
Intervallo di spessore | 0,1 mm~1,0 mm |
Purezza del materiale | ≥99,99% |
Rugosità superficiale (Ra) | ≤5nm |
Variazione totale dello spessore | ≤10μm |
Trasmittanza (@193nm) | >90% |
Coefficiente di espansione termica | ~0,55×10⁻⁶/°C |
Punto di rammollimento | ~1665°C |
1. Materiale ad alta purezza: Realizzato in quarzo sintetico (silice fusa) con purezza ≥99,99%, garantendo una stabilità ottica e chimica superiore.
2. Eccellente stabilità termica: Basso coefficiente di espansione termica (~0,55×10⁻⁶/°C) e resistenza alle alte temperature (punto di rammollimento ~1665°C), adatto a processi ad alta temperatura.
3. Alta trasmittanza ottica: Trasmissione della luce superiore (>90%) attraverso lunghezze d'onda UV-IR (190nm–3500nm).
4. Eccezionale planarità: Bassa rugosità superficiale (Ra ≤5nm) e stretta variazione dello spessore totale (TTV ≤10μm), soddisfacendo le esigenze di litografia di precisione e applicazioni di rivestimento.
5. Inertia chimica: Resistente agli acidi forti (eccetto HF), agli alcali e ai solventi organici, rendendolo ideale per ambienti chimici aggressivi.
Il wafer di quarzo da 2 pollici è ampiamente utilizzato in campi tecnologici avanzati grazie alla sua elevata purezza, stabilità termica e prestazioni ottiche. Le applicazioni chiave includono:
· Substrati per fotomaschere: Utilizzati come materiali di base per le fotomaschere nel trasferimento di modelli IC, che richiedono planarità ultra-elevata e bassi tassi di difetti.
· Supporti per processi di incisione: Servono come vassoi per la manipolazione dei wafer nei processi di incisione a secco e a umido, offrendo resistenza alla corrosione senza influire sulla stabilità del processo.
· Pad CMP: Applicati nella planarizzazione dei wafer per garantire una lucidatura uniforme e ridurre al minimo i danni superficiali.
· Schermi di impianto ionico: Agiscono come strati barriera nei processi di drogaggio, resistendo alle alte temperature senza interferire con la penetrazione del fascio ionico.
· Filtri e finestre ottiche: Utilizzati in sistemi ottici UV, visibili e IR, come finestre protettive laser e componenti dello spettrometro.
· Componenti in fibra ottica: Servono come connettori di estremità e substrati WDM, garantendo una bassa perdita ottica e un'elevata efficienza di trasmissione del segnale.
· Ottica laser ad alta potenza: Utilizzati nei laser CO₂ e nei sistemi laser a femtosecondi come specchi e lenti, offrendo resistenza alle alte temperature e tolleranza ai danni da laser.
· Substrati per microsensori: Utilizzati in sensori di pressione e accelerometri, fornendo elevata resistenza meccanica e stabilità termica.
· Chip microfluidici: Impiegati nel rilevamento biomedico come strutture a microcanali, con inerzia chimica che impedisce la contaminazione dei campioni.
· Modelli di nanoimpronta: Consentono la replica di modelli ad alta precisione su scala nanometrica.
ZMSH offre servizi di lavorazione personalizzati per lastre di quarzo con fori passanti di precisione, adatti ad applicazioni in ottica, packaging di semiconduttori e sensori. I nostri prodotti sono caratterizzati da foratura ad alta precisione, taglio sagomato personalizzato e trattamento superficiale, garantendo tolleranze dimensionali di ±0,01 mm. ZMSH fornisce prototipazione rapida e produzione di massa per soddisfare i severi requisiti in varie applicazioni.
1. D: A cosa serve un wafer di quarzo da 2 pollici?
R: I wafer di quarzo da 2 pollici sono utilizzati principalmente come substrati per fotomaschere di semiconduttori, componenti ottici e dispositivi MEMS grazie alla loro elevata stabilità termica e trasparenza UV.
2. D: Come pulire i wafer di quarzo da 2 pollici?
R: Pulire i wafer di quarzo da 2 pollici con la pulizia standard RCA (SC-1/SC-2) o soluzione Piranha, seguita da risciacquo con acqua DI e asciugatura con azoto per superfici prive di contaminazione.
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