Sapphire Lift Pins Sapphire Rods Precision Manufacturing Applicazioni industriali Manipolazione wafer

Sapphire Lift Pins Sapphire Rods Precision Manufacturing Applicazioni industriali Manipolazione wafer

ZMSH è specializzata nella produzione di perni elevatori di zaffiro, con particolare attenzione alla ricerca e sviluppo, alla produzione e alla vendita di materiali cristallini di zaffiro.Gli spilli di zaffiro sono noti per la loro eccezionale resistenza, alta durezza, resistenza alla corrosione e proprietà ottiche superiori, che li rendono ideali per la produzione di attrezzature di fascia alta e applicazioni di lavorazione di precisione.ZMSH offre servizi di elaborazione personalizzati, in grado di progettare e produrre perni di saffiro in varie specifiche per soddisfare le diverse esigenze industriali.

Specifica tecnica

Funzioni fondamentalicon una larghezza di 0,01 mm o più

Gli alzoli di zaffiro sono componenti critici nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori e LED, utilizzati principalmente per il trasferimento e il posizionamento dei wafer.

1. Supporto wafer e movimento verticale

Nei processi di deposizione a film sottile (ad esempio, MOCVD), incisione o litografia, i bracci robotici azionano i perni di sollevamento zaffiro per elevarsi dal pavimento della camera, sostenendo con precisione i wafer (ad esempio,2/4/6 pollici di substrati) mantenendo il posizionamento a livello per facilitare le operazioni di carico e scarico.

2. prestazioni stabili in ambienti ad alta temperatura

Lo zaffiro (Al2O3 monocristallino) vanta un punto di fusione ultra elevato di 2050°C, consentendo un funzionamento prolungato al di sopra di 1000°C (ad esempio,Il rischio di deformazione termica o di contaminazione dei wafer tipici dei perni metallici.

3. Inerzia chimica per l'integrità del processo

Con un'eccezionale resistenza agli acidi, alle alcali e agli ambienti plasmatici, lo zaffiro impedisce il rilascio di impurità durante i processi di incisione o di CVD,garantire la purezza della produzione (particolarmente critica per i semiconduttori a banda larga come SiC/GaN).

Principali vantaggi
 

1. Contaminazione ultra-bassa: rispetto alle alternative metalliche (ad esempio, molibdeno) o ceramiche (ad esempio, AlN), lo zaffiro genera una minima dispersione di particolato, soddisfacendo gli standard della classe 10 delle stanze pulite.

2. Durezza eccezionale (Mohs 9): la resistenza alle graffi della superficie estende la vita di servizio oltre 100.000 cicli 5-8 volte più lunga dei perni di quarzo.

3. Coefficiente di espansione termica abbinato: l'allineamento stretto con i wafer SiC/GaN (~ 7,5×10−6/°C) riduce al minimo la deformazione o la crepa indotta dallo stress termico.

Applicazioni tipichecon una larghezza di 0,01 mm o più

1. Produzione di wafer epitaxiali a LED: supporta i substrati di zaffiro durante la crescita epitaxiale del GaN nei reattori MOCVD.

2. Fabbricazione di semiconduttori di potenza: consente l'impianto di ioni ad alta temperatura o i processi di ricottura per le onde SiC.

3. Imballaggio avanzato: garantisce un posizionamento di precisione a livello di micron per wafer ultra-sottili (spessore < 100 μm) in imballaggi a livello di wafer (WLP).

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ZMSH è specializzata in barre di zaffiro di alta qualità, progettate per una resistenza superiore, stabilità termica e resistenza alla corrosione.Offriamo lavorazioni di precisione per soddisfare le specifiche esatte.