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TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro tramite TGV personalizzato

Dettagli del prodotto

Luogo di origine: Cina

Marca: ZMSH

Certificazione: rohs

Numero di modello: Attraverso il vetro (TGV)

Termini di pagamento e spedizione

Prezzo: by case

Termini di pagamento: T/T

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Evidenziare:

TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato

,

Sottostrato di vetro perforato per wafer di zaffiro personalizzato

Materiale::
Sapphire
Dimensione::
Personalizzato
Diametro::
Personalizzabile
Spessore::
< 1,1 mm
Accuratezza posizionale::
± 3 μm
Pareti laterali super lisce::
RA < 0,08 μm
Materiale::
Sapphire
Dimensione::
Personalizzato
Diametro::
Personalizzabile
Spessore::
< 1,1 mm
Accuratezza posizionale::
± 3 μm
Pareti laterali super lisce::
RA < 0,08 μm
TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro tramite TGV personalizzato

 

TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro tramite TGV personalizzato 0

 

Riepilogo

 

 

 

TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro (TGV) su misura

 


 

I wafer di zaffiro TGV con micro-vias perforate al laser combinano le proprietà superiori dello zaffiro (durezza di Mohs 9, punto di fusione a 2040 °C) con la tecnologia di interconnessione di precisione.Disponibile in diametri da 2 a 6" (espandibile a 8"), questi wafer sono dotati di vias da 10 a 500 μm (ratio di aspetto da 20:1) con angoli di affine < 2° e finitura superficiale Ra< 0,5 μm, supportando densità da 10-10.000 vias/cm2.e applicazioni MEMS, offrono una lavorazione a lotti di 50 wafer/run, rispettando gli standard SEMI M78, con metallizzazione opzionale (Cu/Ni/Au) per una maggiore funzionalità.

 

Il processo di perforazione laser avanzato raggiunge un throughput di 200-5000 fori/sec mantenendo l'inerzia chimica dello zaffiro.che consentono canali microfluidici affidabili e imballaggi optoelettronici ermeticiLe soluzioni personalizzate includono micro-vias < 5 μm e trattamenti superficiali specializzati per esigenze di prestazioni termiche/elettriche elevate in applicazioni ad alta frequenza e ad alta potenza.

 

 


 

Parametri tecnici

 

 

Specificità Valore
Spessore del vetro < 1,1 mm
Dimensioni dei wafer Tutti i tipi fino a 200 mm
Diametro minimo del microbuco 10 μm
Diametro identico del foro 99%
Accuratezza posizionale ± 3 μm
Fabbricazione di frammenti Nessuna
Pareti laterali super lisce RA < 0,08 μm
Tipi di buchi Attraverso Via (Vero cerchio o ellisse), Via cieca (Vero cerchio o ellisse)
Forma del foro Orologio di sabbia
Opzione Singolamento da vetro di grandi dimensioni lavorato a fori

 

 


TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro tramite TGV personalizzato 1

Caratteristiche chiave

 

 

-Alta resistenza meccanica:Durezza di Mohs di 9, resistente ai graffi e alla corrosione.

  •  

-Stabilità termica superiore:Resiste a temperature estreme (> 2000°C) e presenta una bassa espansione termica.

  •  

-Perforazioni di precisione:La fotolitografia a laser consente aperture su scala micron con elevati rapporti di aspetto.

  •  

-Performance ottica:Trasparenza a banda larga (80%+ @400-5000nm) dalle lunghezze d'onda UV alle IR.

  •  

-Proprietà dielettriche:Ottimo isolamento (resistenza > 1014 Ω·cm).

 

 


TGV Sapphire Wafer Substrato di vetro perforato attraverso il vetro tramite TGV personalizzato 2

Applicazioni

 

-Imballaggio dei semiconduttori:Sostanza di integrazione eterogenea per circuiti integrati 3D e sensori MEMS (ad esempio, sensori di pressione/inerzia).

 

-Dispositivi optoelettronici:Interposatore trasparente per micro-LED e laser a emissione di superficie a cavità verticale (VCSEL).

 

-Componenti RF:5G/mmWave antenna packaging (basse perdite dielettriche).

 

-Biochip:Strato trasparente chimicamente inerte per chip microfluidici.

 

-Sensori per ambienti estremi:Aerospaziale e finestre di sensori profondi.

 

 


 

Effetto di lavorazione

 

I nostri wafer TGV avanzati sono progettati per consentire la metallizzazione ad alte prestazioni delle microvias, garantendo una conducibilità ottimale e integrità strutturale per applicazioni all'avanguardia.

 

Siamo specializzati nella fabbricazione di wafer TGV con dimensioni su misura e disegni microvia, su misura per integrarsi perfettamente con i vostri processi di metallizzazione preferitisputtering, o galvanoplastica.

 

 

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Visualizzazione del prodotto

 

I nostri wafer di vetro TGV sono fabbricati con precisione per fornire una qualità superficiale eccezionale, consentendo l'integrazione diretta nel flusso di lavoro di produzione con un minimo di post-elaborazione.Le matrici microvia ad alta densità sono distribuite uniformemente per soddisfare i severi standard industriali.

 

Dal concept alla commercializzazione, forniamo servizi di prototipazione agile e produzione ad alto volume per supportare le vostre esigenze di progettazione uniche.Le nostre capacità produttive flessibili garantiscono una risposta rapida senza compromettere la precisione o l'affidabilità.

 

 

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Domande e risposte

 

1. D: Quali sono i vantaggi dei wafer TGV di zaffiro rispetto ai tradizionali substrati di vetro?
R: Le wafer TGV in zaffiro offrono una resistenza meccanica superiore, una maggiore resistenza alle temperature (> 2000°C) e una migliore stabilità chimica rispetto ai substrati di vetro standard.

 

 

2. D: Per quali applicazioni sono più adatte le wafer TGV di zaffiro?
R: Sono ideali per confezioni avanzate di semiconduttori, dispositivi LED ad alta potenza e componenti RF che richiedono estrema durata e microstrutture di precisione.


 


Tag: #TGV, #TGV Sapphire Wafer Perforated Glass Substrate, #Customized, #Through Glass Via (TGV), #BF33#JGS1, #JGS2, #Sapphire

 

 

 

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