wafer di vetro dello zaffiro ultrasottile, wafer per epi-pronto, lente di vetro spessa per la copertura, finestre ottiche dello zaffiro, wafer dello zaffiro di C-asse 2inch dello zaffiro dello zaffiro di spessore di 2inch 0.1mm,
Chimicamente, lo zaffiro è l'ossido di alluminio del monocristallo (Al2O3) ed è utile in una gamma di trasmissione da 0,2 - 5.5µm.Sapphire, in modo da rendere loro i materiali ideali per le applicazioni esigenti (quali i sistemi laser) a causa della loro durezza di superficie estrema, all'alta conducibilità termica, ad alta costante dielettrica ed alla resistenza agli acidi ed agli alcali chimici comuni. E lo zaffiro inoltre è il secondo cristallo più duro accanto ai diamanti e, a causa della loro resistenza delle strutture, le finestre dello zaffiro possono essere rese a molto diluente che altre finestre dielettriche comuni con trasmissione migliore. -------------------------------------------------------------------------------------
Possiamo assicurare il servizio su misura professionista a tempo e fornire la cooperazione ed il supporto dell'apparecchio dello sviluppo e della tecnologia di nuovo prodotto.
Zaffiro materiale (Al2O3)
Densità (20°C) Kg/m3 3.98×103
Sistema cristallino esagonale
Reticolo cristallino a=4.785Å costante c=12.991 Å
Durezza 9 di Mohs
Punto di fusione 2045°C
Punto di ebollizione 3000°C
Coefficiente di espansione termica α=5.8×10 -6 /K
Calore specifico 0.418W.s/g/k
Conductio termico 25.12W/m/k (@100°C)
Indice di rifrazione (ND) no=1.768ne=1.76
dn/dt 13×10-6/K (@633nm)
Tranmission T≈85% (0.3~5um)
Costante dielettrica 11,5 (//c), 9,3 (⊥c)
Applicazioni Rondelle dello zaffiro, zaffiro Windows, cuscinetti dello zaffiro, zaffiro Rohi, tubi dello zaffiro, rubino
wafer dello zaffiro, zaffiro della cupola, film dell'isolamento dello zaffiro, lente della palla dello zaffiro, zaffiro/palla vermiglia

specificazione del wafer dello zaffiro di spessore di 2inch 0.1mm
Materiale: Monocristallo Al2O3 99,999%
Orientamento: C-aereo (0001) fuori dalla m. - asse 0.2°±0.1
Diametro: 50.80±0.2mm
Spessore: 100±15um(80um inoltre è giusto)
Piano primario: 16±1mm (o cialda)
Dell'orientamento piano: Un asse ±0.1°
Rugosità di superficie di Frontside: Ra<0.3nm
Rugosità di superficie della parte: 0.8~1.2um
(O doppio lato lucidato, entrambi i lati Ra<0.2nm)
TTV: ARCO di <10um: - FILO DI ORDITO 15~0um: <10um
Il laser segna la serie no dai bisogni
Pacchetto: I contenitori chiusi sotto vuoto con azoto riempiono nell'ambiente della classe A 100
Pulizia: Contaminazione visibile libera
Punto di processo del wafer dello zaffiro

Campione


anche possiamo fornire altri wafer di cristallo di seimconductor dei materiali come come GaN, sic, GaAs, il InP, il MgO ecc.
Dettagli dell'imballaggio: L'imballaggio, SCATOLA, CARTONI dalla cassetta 25pcs nella stanza di pulizia vicino vacuumize
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