| Marchio: | ZMSH |
| Numero di modello: | Finestra di zaffiro |
| MOQ: | 25 |
| Prezzo: | Fluctuates with market |
| Tempo di consegna: | 4-9 settimane |
| Condizioni di pagamento: | T/T |
Visualizzazione del prodotto
Le finestre zaffiro sono elementi di trasmissione ottica di alta precisione fabbricati da lingotti di allumina (α-Al2O3) monocristallina di alta purezza coltivati con il metodo Kyropoulos.attraverso diversi processi, tra cui la taglio orientataCome materiale di base per i panorami industriali di fascia alta, ha tutti i vantaggi intrinseci dello zaffiro monocristallino,combinando un'ottima omogeneità ottica, resistenza alle temperature ultra elevate, durezza meccanica superiore, forte resistenza alla corrosione del plasma e eccezionale isolamento elettrico.Funziona come alternativa di aggiornamento di fascia alta ai materiali tradizionali di visualizzazione come la silice fusa e il vetro borosilicato.![]()
Il prodotto offre un'elevata trasmissibilità in una banda larga dall'ultravioletto all'infrarosso medio e supporta la personalizzazione a piena dimensione.con una lunghezza massima di 20 mm o più, richieste meccaniche e termiche in diverse condizioni di lavoro.aerospaziale e difesa nazionale, e può funzionare in modo stabile per lungo tempo in condizioni estreme come bombardamento da plasma, alta temperatura e pressione, forte corrosione e alto vuoto.
Caratteristiche tecniche essenziali
1Sistema di materiale monocristallino ad alta purezza
Realizzata in singolo cristallo di allumina di alta purezza di grado 4N5 (≥99,995%) coltivato con il metodo Kyropoulos, l'intera finestra è un singolo cristallo completo privo di confini di grano, pori e segregazione di impurità.Con bassa densità di difetti interni e tensione uniforme, la sua consistenza ottica è di gran lunga superiore a quella delle ceramiche policristalline e dei materiali in vetro, garantendo una stabilità delle prestazioni a lungo termine in condizioni di lavoro estreme.![]()
2Performance ottica ad alta trasmittanza a spettro ampio
Offre un'eccellente trasmittanza in una banda larga da 190 nm UV a 4,5 μm infrarosso medio.Il disegno di taglio C-piano trasmette lungo l'asse ottico, riducendo efficacemente l'influenza della birefrangenza cristallina e garantendo l'accuratezza dell'immagine ottica e del rilevamento.I rivestimenti funzionali, come quelli antiriflesso e ad alta riflessione, sono disponibili su richiesta per migliorare ulteriormente l'efficienza ottica.
3.Resistenza alle temperature ultra elevate e agli urti termici
Il materiale ha un punto di fusione fino a 2050 ° C e una temperatura di lavoro continua a lungo termine fino a 1600 ° C in atmosfera ossidante.7×10−6/°C (variabile in base all'orientamento dei cristalli)La sua deformazione dimensionale a temperature elevate è minima.che lo rende adatto a scenari termici estremi come i forni a tubi, reattori ad alta temperatura e camere al plasma.
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4.Alta resistenza meccanica e resistenza all'usura
Ha una durezza Mohs di 9 (secondo solo al diamante), una resistenza alla piegatura di circa 400MPa e una resistenza alla compressione di circa 2000MPa.La superficie della finestra è resistente all'usura e agli graffi, e può resistere all'erosione del flusso d'aria ad alta pressione, all'attrito delle particelle e agli urti meccanici.e la sua durata di vita è 3-5 volte quella delle finestre in silice fuso, riducendo notevolmente i costi di funzionamento e manutenzione delle apparecchiature.
5Forte inerzia chimica e resistenza al plasma
È quasi insolubile in tutti gli acidi forti, alcali e solventi organici a temperatura ambiente, e viene solo lentamente corrosa dall'acido fluoridrico e dall'acido fosforico caldo.
Ha anche un'eccellente resistenza al bombardamento di plasma, senza precipitazioni di particelle e invecchiamento del materiale durante i processi di incisione e deposizione dei semiconduttori,garantire efficacemente la pulizia della camera e il rendimento del prodotto.
6.Eccellente isolamento elettrico e proprietà dielettriche
Il zaffiro intrinseco di alta purezza ha una resistività a temperatura ambiente superiore a 1014 Ω·cm, con un eccellente isolamento elettrico, una costante dielettrica stabile e una perdita dielettrica estremamente bassa.Fornisce un isolamento elettrico affidabile in condizioni di alta tensione e alta frequenza senza perdite, scintille e interferenze del segnale, adatte a scenari speciali come plasma RF, apparecchiature ad alta tensione e microonde.
7.Capacità di personalizzazione a parametri completi e di lavorazione di precisione
È supportata la personalizzazione a dimensioni piene di forma, dimensione, spessore, orientamento dei cristalli e precisione della superficie.possono essere lavorate forme graduali e speciali- lavorazioni secondarie quali la cammaratura di precisione, il taglio, la perforazione,la sigillatura di slotting e metallizzazione può essere completata per soddisfare con precisione le interfacce di installazione e i requisiti di processo di varie apparecchiature.![]()
8.Controllo della pulizia di livello semiconduttore
I prodotti a livello di semiconduttori adottano più processi di pulizia ultra-puliti e vengono ispezionati e imballati sotto vuoto in ambienti puliti di classe 100/classe 1000.Le particelle superficiali e i residui di ioni metallici sono strettamente controllatiPossono essere utilizzati direttamente in scenari di processo ad alta purezza come la produzione di wafer e l'incisione al plasma, con un certificato completo di analisi (COA) fornito.
Specificativi standard
| Articolo | Specificità |
|---|---|
| Nome del prodotto | Finestra di zaffiro |
| Materiale | α-Al2O3 monocristallino sintetico ad alta purezza (coltivato a Kiropoulos) |
| Purezza materiale | 4N5 级 ((≥99.995%)/ 4N5 Grade (≥99.995%) |
| Struttura cristallina | Altri cristalli monoesagonali |
| Orientazione standard | C-plane (0001), A/R/M-plane personalizzabile |
| Forma e dimensione | Figura rotonda φ2mm φ300mm; disponibile in forma quadrata/ rettangolare/su misura |
| Intervallo di spessore | 0.2mm 30mm ((Personalizzabile) |
| Finitura superficiale | SSP / DSP / Terreno |
| Roughness superficiale | Ra ≤ 0,5 nm per la qualità ottica; Ra ≤ 0,1 nm per la qualità dei semiconduttori |
| Qualità della superficie | 40-20 / 20-10 / 10-5 (Scratch-Dig, conforme allo standard MIL) |
| Piattazza (PV) | λ / λ/4 / λ/10 @ 633nm ((Personalizzabile) |
| Parallelismo | ≤ 3 arcmin ~ ≤ 10 arcsecond ((Personalizzabile) |
| TTV | ≤ 2μm ~ ≤ 10μm ((Variano a seconda del grado di dimensione) |
| Banda di trasmissione | 190 nm 4.5 μm (UV Mid IR) |
| Opzioni di rivestimento | Non rivestito / Rivestimento AR / Rivestimento HR / Rivestimento funzionale speciale |
| Applicazione | Camera di semiconduttori / Forno ad alta temperatura / Ottica laser / Ricerca e sviluppo chimico / Aerospaziale |
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Applicazioni tipiche
Controllo della qualità
È stato istituito un sistema completo di controllo della qualità del processo che copre la selezione del lingotto fino alla consegna del prodotto finito, e ogni finestra è sottoposta a una rigorosa ispezione multidimensionale.I principali elementi di ispezione includono: verifica XRD della deviazione dell'orientamento dei cristalli, ispezione dell'uniformità delle dimensioni e dello spessore dei wafer, prova delle interferenze di piattezza e parallelismo, screening della rugosità superficiale e dei difetti,controllo completo dei difetti visiviUn certificato completo di analisi (COA) può essere fornito per tutti i tipi di prodotti.I prodotti a livello di semiconduttori seguono rigorosamente le specifiche di imballaggio pulito, garantendo parametri precisi del prodotto e prestazioni stabili per soddisfare i severi requisiti di scenari di ricerca industriale e scientifica di alto livello.
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