il wafer n tipo del sillicon di perfezione 2inch, la lente ottica del sillicon, i substrati del sillicon di IC, il poli wafer del sillicon, il semiconduttore 3' lastra di silicio di pollice, il monocristallo, 2inch, 3inch, 4inch, 5inch, 6inch, 8inch, lastra di silicio 12inch, singolo lato ha lucidato la lastra di silicio
1. Descrizione
Il si è più ampiamente usato per le lenti e le finestre nei sistemi di IR che funzionano nella gamma di 2 - 12 µm. L'ambiente non fa ragionevolmente duro alcuni problemi perché il germanio è inerte, meccanicamente irregolare e. È una scelta eccellente per i sistemi multispettrali e per le applicazioni dove la protezione di EMI è necessaria. Il germanio può essere riscaldato elettricamente per le applicazioni antiappannanti o antighiaccio. Non fabbrichiamo il germanio, ma possediamo le azioni di materiale sviluppato Czochralsky di vari diametri. Può essere usato come monocristallo policristallino o come. La purezza dovrebbe corrispondere ad una resistività elettrica di almeno 20 - 30 Ohm/cm, p o n tipo evitare le bande di assorbimento. L'alto indice retractive rende il AR-rivestimento essenziale.
Il silicio (Si) è comunemente usato come materiale del substrato per i riflettori e le finestre infrarossi nella regione di 1,5 - 8 µm. La forte banda di assorbimento a µm 9 lo rende inadatto per la CO2-leapplicazionidellatrasmissionedellaser, maè usatafrequentementeperglispecchidellasera causadellasuealtaconducibilitàtermicaedensitàbassa. Ilsilicioèinoltreuntrasmettitoreutilenellagammadi20µm.
Densità |
2,4 (g/cm3) | ||
Tipo dello stimolante | nessuno stimolante | b verniciata | p verniciata |
Tipo | I | P | N |
resistività | Ø 1000Ωcm | 10-3~40Ωcm | 10-3~40Ωcm |
E P D | ≤100∕cm2 | ≤100∕cm2 | ≤100∕cm2 |
Tenore di ossigeno (∕cm3) | ≤1~1.8×1018 | ≤1~1.8×1018 | ≤1~1.8×1018 |
Contenuto di carbonio (∕cm3) | ≤5×1016 | ≤5×1016 | ≤5×1016 |
Dimensione | 10×3m, 10×5m, 10×10mm, 15×15mm, | ||
Dia50.8mm, Dia76.2mm, Dia100mm | dia6-12inch | ||
o dalla dimensione su misura | |||
spessore | 0.5mm, 1.0mm o altro | ||
tolleranza | <> | ||
tolleranza di spessore | <> | ||
superficie | 1sp o 2sp | ||
orientamento | ±0.5° | ||
orientamento | <100><110>,<111> | ||
pacchetto | stanza di pulizia del grado di 100grade in1000 |
2. Lastre di silicio a 2 pollici di specificazione
Nome di prodotto
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Lastra di silicio a 2 pollici
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Diametro
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50.8+/-0.3mm
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Spessore
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279+/-25um/Customized
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Tipo di conducibilità
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N/P
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Resistività
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Su misura
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Metodo di crescita
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CZ/FZ
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Orientamento
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100/111
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Superficie
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Il singolo lato lucidato/lato del doppio ha lucidato la macinazione
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TTV
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<10 um=""> |
Arco/filo di ordito
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< 30="" um=""> |
Contenuto di carbonio
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ppma 18
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Tenore di ossigeno
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1ppma
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Particelle
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<50> |
Grado
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Verifichi il grado
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3 circa la nostra società
ZMKJ individua nella città di Shanghai, che è la migliore città della Cina e la nostra fabbrica è fondata
nella città di Wuxi nel 2014.
Ci specializziamo nel trasformare vari materiali nei wafer, substrati e custiomized
vetro ottico parts.components ampiamente usato nell'elettronica, nell'ottica, nell'optoelettronica ed in molte
altri campi. Inoltre stiamo lavorando molto attentamente con molte università domestiche e d'oltremare,
i centri di ricerca e le società, forniscono i prodotti su misura ed i servizi per la loro R & S
progetti. È la nostra visione a mantenere una buona relazione della cooperazione con nostri tutti i clienti
dal nostro buon reputatiaon.
4. imballaggio e consegna
- FAQ –
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