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SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD 86-1580-1942596 eric_wang@zmsh-materials.com
Customized Size Square Sic Chip Low Lattice Mismatch With High Thermal

Disadattamento basso su misura della grata del chip del quadrato di dimensione sic con l'alto termale

  • Evidenziare

    sic wafer

    ,

    sic substrato

  • Materiale
    monocristallo sic
  • industria
    wafer a semiconduttore,
  • Applicazioni
    dispositivo, wafer epi-pronto, 5G, elettronica di potenza, rivelatore,
  • colore
    verde, blu, bianco
  • Su misura
    APPROVAZIONE
  • Tipo
    4H-N, 6H-N
  • Luogo di origine
    La Cina
  • Marca
    zmsh
  • Numero di modello
    10x10mm
  • Quantità di ordine minimo
    10pcs
  • Prezzo
    by case
  • Imballaggi particolari
    in cassette di singoli contenitori del wafer
  • Tempi di consegna
    All'interno di 15days
  • Capacità di alimentazione
    bimettalico

Disadattamento basso su misura della grata del chip del quadrato di dimensione sic con l'alto termale

10x10mm 5x5mm ha personalizzato sic i substrati quadrati, 1inch sic wafer, chip sic di cristallo, sic substrati a semiconduttore, 6H-N SIC wafer, wafer del carburo di silicio di elevata purezza
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offriamo i materiali a semiconduttore, particolarmente per sic il wafer, sic il sottostato di polytype 4H e 6H nelle qualità differenti per i produttori dell'industria e del ricercatore. Abbiamo una buona relazione con sic la fabbrica della crescita dei cristalli e, possediamo inoltre abbiamo sic la tecnologia della trasformazione del wafer, stabilita una linea di produzione al substrato del produttore sic e sic wafer. Come una società professionale investita dai produttori principali dai campi degli istituti materiali avanzati e alta tecnologia dello stato e della ricerca e del laboratorio a semiconduttore della Cina, noi è dedicata per migliorare continuamente la qualità sic del wafer, attualmente sottostati e per sviluppare i grandi substrati.
 
Campi di applicazione
1 diodo Schottky degli apparecchi elettronici di alto potere e di alta frequenza, JFET, BJT, PiN,
diodi, IGBT, MOSFET
2 dispositivi optoelettronici: pricipalmente utilizzato in GaN/nel materiale sic blu del substrato del LED (GaN/sic) LED
Disadattamento basso su misura della grata del chip del quadrato di dimensione sic con l'alto termale 0
 
 
Advantagement                               
• Disadattamento basso della grata• Alta conducibilità termica
 
• Basso consumo energetico
 
• Caratteristiche transitorie eccellenti
 
• Alto intervallo di banda 
 
 
dimensione comune 2inch per sic i substrati

specificazione del substrato del carburo di silicio del diametro 2inch (sic) 
GradoGrado zero di MPDGrado di produzioneGrado di ricercaGrado fittizio 
 
Diametro50,8 mm±0.2mm 
 
Spessore330 μm±25μm o 430±25um o 1000um±25um 
 
Orientamento del waferFuori dall'asse: 4.0° verso <1120> ±0.5° per 4H-N/4H-SI sull'asse: <0001>±0.5° per 6H-N/6H-SI/4H-N/4H-SI 
 
Densità di Micropipecm2 ≤0cm2 ≤5cm2 ≤15cm2 ≤100 
 
Resistività4H-N0.015~0.028 Ω•cm 
 
6H-N0.02~0.1 Ω•cm 
 
4/6H-SI≥1E5 Ω·cm 
 
Piano primario{10-10} ±5.0° 
 
Lunghezza piana primaria18,5 mm±2.0 millimetro 
 
Lunghezza piana secondaria10.0mm±2.0 millimetro 
 
Orientamento piano secondarioSilicio rivolto verso l'alto: 90° CW. da ±5.0° piano principale 
 
Esclusione del bordo1 millimetro 
 
TTV/Bow /Warp≤10μm/≤10μm/≤15μm 
 
RugositàRa≤1 polacco nanometro 
 
CMP Ra≤0.5 nanometro 
 
Crepe da luce ad alta intensitàNessuno1 conceduto, ≤2 millimetro≤ cumulativo 10mm, singolo length≤2mm di lunghezza 
 
 
Piatti della sfortuna da luce ad alta intensitàArea cumulativa ≤1%Area cumulativa ≤1%Area cumulativa ≤3% 
 
Aree di Polytype da luce ad alta intensitàNessunoArea cumulativa ≤2%Area cumulativa ≤5% 
 
 
Graffi da luce ad alta intensità3 graffi alla lunghezza cumulativa del diametro 1×wafer5 graffi alla lunghezza cumulativa del diametro 1×wafer5 graffi alla lunghezza cumulativa del diametro 1×wafer 
 
 
chip del bordoNessuno3 conceduti, ≤0.5 millimetro ciascuno5 conceduti, ≤1 millimetro ciascuno 
 
 

dimensione di immagine: 10x10x0.5mmt,
tolleranza: ±0.03mm
larghezza di profondità x della partita: 0.4mmx0.5mm
TIPO: 4H-semi
superficie: lucidato (ssp o dsp)
Ra: 0.5nm

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FAQ

1. Q: Che cosa è il vostro pacchetto? Sono sicuri?
A: forniamo il contenitore automatico di film dell'adsorbimento come pacchetto.
2.Q: Che cosa è il vostro termine di pagamento?
A: Il nostro termine di pagamento è in anticipo T/T 50%, 50% prima della consegna.
3.Q: Come posso ottenere alcuni campioni?
A: Becauce ha personalizzato i prodotti di forma, noi spera che poteste ordinare il lotto minimo come campione.
4.Q: Quanto tempo tempo possiamo ottenere i campioni?
A: Inviamo i campioni in 10 - i 25 giorni dopo che confermate.
5.Q: Come la vostra fabbrica fa per quanto riguarda controllo di qualità?
A: La qualità in primo luogo è sempre il nostro motto, grande importanza dell'attaccatura dei lavoratori a qualità che controlla da
l'inizio stesso alla fine.